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公开(公告)号：CN107078074A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580060081.7
申请日：2015-11-24
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： T·马西安诺 , B·布尔戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Z·林登费尔德 , Z·赵 , Y·弗莱 , D·坎戴尔 , N·卡梅尔 , A·玛纳森 , N·阿米尔 , O·卡米斯开 , T·耶其夫 , O·萨哈兰 , M·库柏 , R·苏里马斯基 , T·里维安特 , N·夕拉 , B·埃弗拉蒂 , L·撒尔通 , A·汉德曼 , E·亚希渥 , O·巴沙尔
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G03F9/7003 , G03F7/70633 , H01L22/12 , H01L22/20
Abstract: 本发明提供导出计量度量对配方参数的部分连续相依性、分析所述导出的相依性、根据所述分析来确定计量配方，及根据所述确定的配方来进行计量测量的方法。所述相依性可以景观(例如敏感度景观)的形式来进行分析，其中以分析方式、以数字方式或以实验方式检测具有低敏感度的区域，及/或具有低或零不准确度的点或轮廓，且用于配置测量、硬件及目标的参数，以实现高测量准确度。工艺变化是就其对所述敏感度景观的效应进行分析，且这些效应用于进一步特性化所述工艺变化，以优化所述测量且使所述计量对于不准确度源更稳健，且相对于晶片上的不同目标及可用测量条件更灵活。
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公开(公告)号：CN107078074B
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201580060081.7
申请日：2015-11-24
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： T·马西安诺 , B·布尔戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Z·林登费尔德 , Z·赵 , Y·弗莱 , D·坎戴尔 , N·卡梅尔 , A·玛纳森 , N·阿米尔 , O·卡米斯开 , T·耶其夫 , O·萨哈兰 , M·库柏 , R·苏里马斯基 , T·里维安特 , N·夕拉 , B·埃弗拉蒂 , L·撒尔通 , A·汉德曼 , E·亚希渥 , O·巴沙尔
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明提供导出计量度量对配方参数的部分连续相依性、分析所述导出的相依性、根据所述分析来确定计量配方，及根据所述确定的配方来进行计量测量的方法。所述相依性可以景观(例如敏感度景观)的形式来进行分析，其中以分析方式、以数字方式或以实验方式检测具有低敏感度的区域，及/或具有低或零不准确度的点或轮廓，且用于配置测量、硬件及目标的参数，以实现高测量准确度。工艺变化是就其对所述敏感度景观的效应进行分析，且这些效应用于进一步特性化所述工艺变化，以优化所述测量且使所述计量对于不准确度源更稳健，且相对于晶片上的不同目标及可用测量条件更灵活。
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公开(公告)号：CN112698551B
公开(公告)日：2024-04-23
申请号：CN202011580664.1
申请日：2015-11-24
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： T·马西安诺 , B·布尔戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Z·林登费尔德 , Z·赵 , Y·弗莱 , D·坎戴尔 , N·卡梅尔 , A·玛纳森 , N·阿米尔 , O·卡米斯开 , T·耶其夫 , O·萨哈兰 , M·库柏 , R·苏里马斯基 , T·里维安特 , N·夕拉 , B·埃弗拉蒂 , L·撒尔通 , A·汉德曼 , E·亚希渥 , O·巴沙尔
Abstract: 本申请实施例涉及分析及利用景观。本发明提供导出计量度量对配方参数的部分连续相依性、分析所述导出的相依性、根据所述分析来确定计量配方，及根据所述确定的配方来进行计量测量的方法。所述相依性可以景观(例如敏感度景观)的形式来进行分析，其中以分析方式、以数字方式或以实验方式检测具有低敏感度的区域，及/或具有低或零不准确度的点或轮廓，且用于配置测量、硬件及目标的参数，以实现高测量准确度。工艺变化是就其对所述敏感度景观的效应进行分析，且这些效应用于进一步特性化所述工艺变化，以优化所述测量且使所述计量对于不准确度源更稳健，且相对于晶片上的不同目标及可用测量条件更灵活。
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公开(公告)号：CN114402205B
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202080064623.9
申请日：2020-09-16
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01R23/16
Abstract: 本发明公开一种基于图像的叠加计量系统。所述系统包含可耦合到计量子系统的控制器。所述控制器经配置以从所述计量子系统接收安置于样本上的第一计量目标的一组图像信号，且通过计算所述多个图像信号中的每一者的谐波检测率度量值而确定多个谐波检测率度量值。所述控制器还经配置以基于所述多个谐波检测率度量值识别所述计量子系统的一组光学测量条件，其中所述组光学测量条件定义所述计量子系统的光学计量测量的配方。接着，所述控制器将所述配方提供到所述计量子系统用于执行一或多个额外计量目标的一或多个光学计量测量。
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公开(公告)号：CN116936393B
公开(公告)日：2024-12-20
申请号：CN202310920074.6
申请日：2017-02-23
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： B·布林戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Y·弗莱 , D·阿鲁穆特 , Y·拉姆霍特 , N·夕拉 , Y·德莱乌 , T·耶其夫 , E·亚希渥 , L·撒尔通 , T·里维安特
Abstract: 本公开涉及光学计量的准确度提升。本发明提供提升计量测量的准确度的方法、计量模块及目标设计。方法提供对多个测量处方及设置的灵活处置且使得能够使所述多个测量处方及设置与指示其与谐振区域及平坦区域的关系的图谱特征相关。单独地或以组合方式采用对处方的群集化、自身一致性测试、对经汇总测量的共同处理、噪声降低、群集分析、对具有偏斜单元的图谱及目标的详细分析，以提供测量准确度的累积提升。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108701625B
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN201780012673.0
申请日：2017-02-23
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： B·布林戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Y·弗莱 , D·阿鲁穆特 , Y·拉姆霍特 , N·夕拉 , Y·德莱乌 , T·耶其夫 , E·亚希渥 , L·撒尔通 , T·里维安特
IPC: H01L21/66
Abstract: 本发明提供提升计量测量的准确度的方法、计量模块及目标设计。方法提供对多个测量处方及设置的灵活处置且使得能够使所述多个测量处方及设置与指示其与谐振区域及平坦区域的关系的图谱特征相关。单独地或以组合方式采用对处方的群集化、自身一致性测试、对经汇总测量的共同处理、噪声降低、群集分析、对具有偏斜单元的图谱及目标的详细分析，以提供测量准确度的累积提升。
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公开(公告)号：CN114402205A
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202080064623.9
申请日：2020-09-16
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01R23/16
Abstract: 本发明公开一种基于图像的叠加计量系统。所述系统包含可耦合到计量子系统的控制器。所述控制器经配置以从所述计量子系统接收安置于样本上的第一计量目标的一组图像信号，且通过计算所述多个图像信号中的每一者的谐波检测率度量值而确定多个谐波检测率度量值。所述控制器还经配置以基于所述多个谐波检测率度量值识别所述计量子系统的一组光学测量条件，其中所述组光学测量条件定义所述计量子系统的光学计量测量的配方。接着，所述控制器将所述配方提供到所述计量子系统用于执行一或多个额外计量目标的一或多个光学计量测量。
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公开(公告)号：CN116936393A
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202310920074.6
申请日：2017-02-23
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： B·布林戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Y·弗莱 , D·阿鲁穆特 , Y·拉姆霍特 , N·夕拉 , Y·德莱乌 , T·耶其夫 , E·亚希渥 , L·撒尔通 , T·里维安特
Abstract: 本公开涉及光学计量的准确度提升。本发明提供提升计量测量的准确度的方法、计量模块及目标设计。方法提供对多个测量处方及设置的灵活处置且使得能够使所述多个测量处方及设置与指示其与谐振区域及平坦区域的关系的图谱特征相关。单独地或以组合方式采用对处方的群集化、自身一致性测试、对经汇总测量的共同处理、噪声降低、群集分析、对具有偏斜单元的图谱及目标的详细分析，以提供测量准确度的累积提升。
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公开(公告)号：CN112698551A
公开(公告)日：2021-04-23
申请号：CN202011580664.1
申请日：2015-11-24
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： T·马西安诺 , B·布尔戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Z·林登费尔德 , Z·赵 , Y·弗莱 , D·坎戴尔 , N·卡梅尔 , A·玛纳森 , N·阿米尔 , O·卡米斯开 , T·耶其夫 , O·萨哈兰 , M·库柏 , R·苏里马斯基 , T·里维安特 , N·夕拉 , B·埃弗拉蒂 , L·撒尔通 , A·汉德曼 , E·亚希渥 , O·巴沙尔
Abstract: 本申请实施例涉及分析及利用景观。本发明提供导出计量度量对配方参数的部分连续相依性、分析所述导出的相依性、根据所述分析来确定计量配方，及根据所述确定的配方来进行计量测量的方法。所述相依性可以景观(例如敏感度景观)的形式来进行分析，其中以分析方式、以数字方式或以实验方式检测具有低敏感度的区域，及/或具有低或零不准确度的点或轮廓，且用于配置测量、硬件及目标的参数，以实现高测量准确度。工艺变化是就其对所述敏感度景观的效应进行分析，且这些效应用于进一步特性化所述工艺变化，以优化所述测量且使所述计量对于不准确度源更稳健，且相对于晶片上的不同目标及可用测量条件更灵活。
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公开(公告)号：CN108701625A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780012673.0
申请日：2017-02-23
Applicant: 科磊股份有限公司
Inventor： B·布林戈尔茨 , E·古列维奇 , I·阿达姆 , Y·弗莱 , D·阿鲁穆特 , Y·拉姆霍特 , N·夕拉 , Y·德莱乌 , T·耶其夫 , E·亚希渥 , L·撒尔通 , T·里维安特
IPC: H01L21/66
CPC classification number: H01L22/20 , G03F7/70633 , G03F9/7003 , G06F16/285 , H01L22/12
Abstract: 本发明提供提升计量测量的准确度的方法、计量模块及目标设计。方法提供对多个测量处方及设置的灵活处置且使得能够使所述多个测量处方及设置与指示其与谐振区域及平坦区域的关系的图谱特征相关。单独地或以组合方式采用对处方的群集化、自身一致性测试、对经汇总测量的共同处理、噪声降低、群集分析、对具有偏斜单元的图谱及目标的详细分析，以提供测量准确度的累积提升。
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