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公开(公告)号：CN1826843A
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN200480020800.4
申请日：2004-07-22
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H05H1/24 , H01L21/3065 , H01L21/31
Abstract: 为了解决电极的库仑力所导致的弯曲量并在用于具有较大区域的工件的等离子处理装置中获得均匀的表面处理。本发明提供的等离子处理装置的电极结构(30X)包括左右延伸的一对电极排(31X、32X)并在前后方向上彼此相对。各电极排包括侧向以并排关系安置的多个电极部件(31A－32C)。侧向安置在基本相同的位置中的两个电极排的电极部件具有相反的极性并在其间形成排间部分间隙(33p)。彼此相邻的电极部件设置成具有彼此相反的极性。
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