公开(公告)号：CN1474882A

公开(公告)日：2004-02-11

申请号：CN01818852.4

申请日：2001-11-14

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 屋良卓也 ,  汤浅基和 ,  本间孝治 ,  高妻诚

IPC: C23C16/54 ,  H01L21/205 ,  H01L21/31 ,  H01L21/302

CPC classification number: C23C16/45595 ,  C23C16/4409 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/50 ,  C23C16/515 ,  C23C16/545 ,  G21C3/08 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J2237/188 ,  H05H1/2406 ,  H05H2001/2412 ,  H05H2240/10 ,  Y02E30/40

Abstract: 提供一种常压等离子处理方法及其装置，是在大气压附近压力下，在一对相对电极的至少一个相对面上设置固体电介质，在该一对相对电极之间导入处理气体并在电极间施加电场，使得到的等离子体与被处理物体接触处理被处理物体的方法，其特征在于从该等离子体与被处理物体接触的处理部附近排出处理过的气体，利用气体气氛调整机构使该处理部附近保持在特定的气体气氛下。

公开(公告)号：CN1317423C

公开(公告)日：2007-05-23

申请号：CN01818852.4

申请日：2001-11-14

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 屋良卓也 ,  汤浅基和 ,  本间孝治 ,  高妻诚

IPC: C23C16/54 ,  H01L21/205 ,  H01L21/31 ,  H01L21/302

CPC classification number: C23C16/45595 ,  C23C16/4409 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/50 ,  C23C16/515 ,  C23C16/545 ,  G21C3/08 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J2237/188 ,  H05H1/2406 ,  H05H2001/2412 ,  H05H2240/10 ,  Y02E30/40

Abstract: 提供一种常压等离子处理方法及其装置，是在大气压附近压力下，在一对相对电极的至少一个相对面上设置固体电介质，在该一对相对电极之间导入处理气体并在电极间施加电场，使得到的等离子体与被处理物体接触处理被处理物体的方法，其特征在于从该等离子体与被处理物体接触的处理部附近排出处理过的气体，利用气体气氛调整机构使该处理部附近保持在特定的气体气氛下。