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公开(公告)号：CN1474882A
公开(公告)日：2004-02-11
申请号：CN01818852.4
申请日：2001-11-14
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: C23C16/54 , H01L21/205 , H01L21/31 , H01L21/302
CPC classification number: C23C16/45595 , C23C16/4409 , C23C16/4412 , C23C16/50 , C23C16/515 , C23C16/545 , G21C3/08 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J2237/188 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2240/10 , Y02E30/40
Abstract: 提供一种常压等离子处理方法及其装置，是在大气压附近压力下，在一对相对电极的至少一个相对面上设置固体电介质，在该一对相对电极之间导入处理气体并在电极间施加电场，使得到的等离子体与被处理物体接触处理被处理物体的方法，其特征在于从该等离子体与被处理物体接触的处理部附近排出处理过的气体，利用气体气氛调整机构使该处理部附近保持在特定的气体气氛下。
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公开(公告)号：CN102257045A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN200980151252.1
申请日：2009-12-22
Applicant: 积水化学工业株式会社
CPC classification number: B32B27/16 , B32B7/12 , B32B27/08 , B32B27/308 , B32B2307/412 , B32B2307/42 , B32B2457/202 , C08J7/18 , G02B1/105 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种膜的表面处理方法及装置以及偏振片的制造方法。将与易粘接性树脂膜(12)粘接的难粘接性树脂膜(11)配置在接近大气压的处理空间(22)内。通过工艺气体供给系统(3)，将含有丙烯酸(聚合性单体)蒸气的工艺气体供给到处理空间(22)。在等离子体处理部(2)，将工艺气体等离子体化并使其与难粘接性树脂膜(11)接触。设定工艺气体的供给流量，以使处理空间(22)内的氧浓度达到3000ppm以下。由此，可以提高难粘接性树脂膜的粘接性，进而能够进行高速处理。
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公开(公告)号：CN102459353A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201080028415.X
申请日：2010-06-25
Applicant: 积水化学工业株式会社
CPC classification number: C08J7/18 , G02B5/3033
Abstract: 本发明提供一种膜表面处理方法及装置以及偏振片的制造方法。可靠地提高难胶粘性树脂膜的胶粘性。将应与易胶粘性树脂膜(12)胶粘的难胶粘性树脂膜(11)配置于大气压附近的处理空间(22)。将含有丙烯酸等第1聚合性单体蒸气的气体通过第1供给路(36)，引导至难胶粘性树脂膜(11)的附近。将含有HEMA等第2聚合性单体蒸气的气体不与上述第1聚合性单体混合地通过第2供给路(46)，引导至难胶粘性树脂膜(11)的附近。通过大气压附近的等离子使上述第1及第2聚合性单体活化，与难胶粘性树脂膜11反应。
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公开(公告)号：CN1938835B
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200580009831.4
申请日：2005-03-25
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H01L21/318 , H01L21/31
CPC classification number: H01J37/32009 , C23C8/24 , C23C8/28 , C23C8/36 , H01J37/32532 , H01L21/02249 , H01L21/3145 , H01L21/3185
Abstract: 均匀氧氮化物和氮化物膜可通过不依赖于的氮化时间或氮化温度的低温和高速氮化反应而形成。将固体电介质在300(托)或更高的压强下提供在相互相对的一对电极的至少一个相对表面上，将包含等于或低于0.2％的氧化物的氮气引入所述一对相对电极之间的空间，将电场施加到氮气上，并将所得N2(第二p.s.)或N2(H.I.R)活性物质与待加工的物体加成，在待加工的物体的表面上形成氧氮化物膜/氮化物膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102792783A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201180012770.2
申请日：2011-03-04
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H05H1/24 , C23C14/56 , H01L21/3065 , G02B5/30
CPC classification number: H01J37/3277 , H01J37/32 , H05H1/48 , H05H2001/485 , H05H2240/10
Abstract: 本发明提供一种不使处理槽的排气机构成为大型化而能够充分地抑制处理气体成分从处理槽向外部漏出的表面处理装置。利用搬运机构(20)对被处理物(9)以通过处理槽(30)的主室(31)内的处理区域(19)的方式沿着搬运方向搬运。在处理槽(30)且在主室(31)的至少搬出侧设置副室(33)。在对所述室进行分隔的分隔壁(37)及外壁(36)形成能够搬入搬出被处理物(9)的常开的开(37a、36a)。将主室排气机构(40)与主室(31)连接，使主室(31)的内压比槽外的压力低。将副室供气机构(52)与副室(33)连接进行供气，使副室(33)的内压比槽外的压力高。
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公开(公告)号：CN101688006B
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN200880023498.6
申请日：2008-07-01
Applicant: 积水化学工业株式会社
CPC classification number: B29C59/14 , B29C65/482 , B29C66/026 , B29C66/1122 , B29C66/45 , B29C66/71 , B29C66/712 , B29C66/723 , B29C66/9141 , B29C66/91411 , B29K2001/00 , B29K2029/04 , H05H2001/485 , B29K2001/12
Abstract: 本发明不通过碱化处理而确保三乙酸纤维素膜的向聚乙烯醇膜的粘接性。在包括聚乙烯醇系树脂的第一膜(11)粘接以三乙酸纤维素为主成分的第二膜(12)之前，将反应气体等离子体化，使其与第二膜(12)的与第一膜(11)的粘接面接触。所述反应气体包含丙烯酸或甲基丙烯酸。
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公开(公告)号：CN101688006A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200880023498.6
申请日：2008-07-01
Applicant: 积水化学工业株式会社
CPC classification number: B29C59/14 , B29C65/482 , B29C66/026 , B29C66/1122 , B29C66/45 , B29C66/71 , B29C66/712 , B29C66/723 , B29C66/9141 , B29C66/91411 , B29K2001/00 , B29K2029/04 , H05H2001/485 , B29K2001/12
Abstract: 本发明不通过碱化处理而确保三乙酸纤维素膜的向聚乙烯醇膜的粘接性。在包括聚乙烯醇系树脂的第一膜(11)粘接以三乙酸纤维素为主成分的第二膜(12)之前，将反应气体等离子体化，使其与第二膜(12)的与第一膜(11)的粘接面接触。所述反应气体包含丙烯酸或甲基丙烯酸。
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公开(公告)号：CN1317423C
公开(公告)日：2007-05-23
申请号：CN01818852.4
申请日：2001-11-14
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: C23C16/54 , H01L21/205 , H01L21/31 , H01L21/302
CPC classification number: C23C16/45595 , C23C16/4409 , C23C16/4412 , C23C16/50 , C23C16/515 , C23C16/545 , G21C3/08 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J2237/188 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2240/10 , Y02E30/40
Abstract: 提供一种常压等离子处理方法及其装置，是在大气压附近压力下，在一对相对电极的至少一个相对面上设置固体电介质，在该一对相对电极之间导入处理气体并在电极间施加电场，使得到的等离子体与被处理物体接触处理被处理物体的方法，其特征在于从该等离子体与被处理物体接触的处理部附近排出处理过的气体，利用气体气氛调整机构使该处理部附近保持在特定的气体气氛下。
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公开(公告)号：CN1938835A
公开(公告)日：2007-03-28
申请号：CN200580009831.4
申请日：2005-03-25
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: H01L21/318 , H01L21/31
CPC classification number: H01J37/32009 , C23C8/24 , C23C8/28 , C23C8/36 , H01J37/32532 , H01L21/02249 , H01L21/3145 , H01L21/3185
Abstract: 均匀氧氮化物和氮化物膜可通过不依赖于的氮化时间或氮化温度的低温和高速氮化反应而形成。将固体电介质在300(托)或更高的压力下提供在相互相对的一对电极的至少一个相对表面上，将包含等于或低于0.2％的氧化物的氮气引入所述一对相对电极之间的空间，将电场施加到氮气上，并将所得N2(第二p.s.)或N2(H.I.R)活性物质与待加工的物体加成，在待加工的物体的表面上形成氧氮化物膜/氮化物膜。
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