供体基板和显示器制造方法

    公开(公告)号:CN102034938A

    公开(公告)日:2011-04-27

    申请号:CN201010502595.2

    申请日:2009-06-25

    Abstract: 本发明提供了在形成发光层时使用的供体基板以及使用该供体基板制造显示器的方法。所述供体基板包括:基体;布置在所述基体上的光热转换层,所述光热转换层与所述被转印基板上要形成所述发光层的区域相对应;形成在所述光热转换层和所述基体上的隔热层;凸起结构,所述凸起结构被布置在所述隔热层上且位于各个所述光热转换层之间的区域中;以及防污染层,所述防污染层包括形成在所述凸起结构的顶面上的第一部分和形成在所述隔热层的顶面上的第二部分,所述第一部分和第二部分彼此分开。本发明降低了所述转印层中不需要的范围被转印的风险,并以高精度转印所需要的范围。

    转移方法和转移装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1867215A

    公开(公告)日:2006-11-22

    申请号:CN200610077126.4

    申请日:2006-04-27

    Abstract: 本发明公开了一种转移方法,其包括步骤:将包括支撑基体和提供在支撑基体上的转移层的供体基板放置在受体基板上,使转移层面对受体基板;将叠置的受体基板与供体基板之间的空间抽成真空;以及通过施加辐射线到处于抽成真空的气氛中的供体基板上,将转移层转移到受体基板上。

    转移方法和转移装置
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100466333C

    公开(公告)日:2009-03-04

    申请号:CN200610077126.4

    申请日:2006-04-27

    Abstract: 本发明公开了一种转移方法,其包括步骤:将包括支撑基体和提供在支撑基体上的转移层的供体基板放置在受体基板上,使转移层面对受体基板;将叠置的受体基板与供体基板之间的空间抽成真空;以及通过施加辐射线到处于抽成真空的气氛中的供体基板上,将转移层转移到受体基板上。

    供体基板和显示器制造方法

    公开(公告)号:CN101615658B

    公开(公告)日:2011-07-06

    申请号:CN200910148635.5

    申请日:2009-06-25

    CPC classification number: C23C14/048

    Abstract: 本发明提供了在形成发光层时使用的供体基板,还提供了使用该供体基板制造显示器的方法,所述发光层是通过如下步骤形成的:形成含有发光材料的转印层;使所述转印层和被转印基板相互面对且将辐射线照射至所述转印层;并且使所述转印层升华或气化从而将所述转印层转印至所述被转印基板上。所述供体基板包括:基体;布置在所述基体上的光热转换层;以及布置在所述基体与所述光热转换层之间的热干涉层,所述热干涉层包括折射系数彼此不同的两个以上层。本发明能够通过调整所述热干涉层的折射系数(材料)和厚度,使宽波长范围内的吸收率提高。

Patent Agency Ranking