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公开(公告)号：CN116872087A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202311079299.X
申请日：2023-08-25
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种获取离轴非球面光学元件的点路径的方法，其包括如下步骤：S1：根据所述离轴非球面光学元件的初始参数构建母镜坐标系下的曲面方程；S2：通过二分法计算边缘高度差值，迭代出等厚工件时的θ偏转角度；S3：根据子镜中心高度，建立子镜坐标系，通过空间坐标系的平移和旋转变换，计算出在所述子镜坐标系下离轴非球面光学元件表面的曲面表达式；S4：在所述子镜坐标系下，计算获得离轴非球面的面型点及法向特征。本发明利用坐标变换矩阵通过离轴非球面镜初始参数直接得到子镜坐标系下的面型公式，获取均匀分布的采样点路径，克服了常规测量中由于采样点分布不均导致的长时间消耗，对后续的误差分析提升了精度。
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公开(公告)号：CN118013162A
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202311801920.9
申请日：2023-12-26
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了基于三坐标测量离轴二次非球面时获取点路径的计算方法，利用坐标变换的方法并带入离轴非球面的面型参数，得到离轴非球面的表达公式，之后对公式进行化简，利用xy表示出z值以提升后续求解z值的运算速率；再通过二分法进行迭代计算求出偏转角θ，将其带入上述坐标变换的公式中，从而得到以离轴非球面镜底面圆中心为坐标原点的新空间坐标系下的离轴非球面表达式；取点过程中，利用同心圆路径求出XY的坐标，再利用推导出的公式计算出此XY值下的Z轴坐标值和该点的法向量。本发明在已有的获取点路径的计算方法过程中重新对取点公式进行了推导、计算，构建了新的取点公式并获取了符合模型要求的点集文件，进一步提升了工作效率。
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公开(公告)号：CN113406824B
公开(公告)日：2023-02-21
申请号：CN202010184553.2
申请日：2020-03-17
Applicant: 苏州大学
IPC: G02F1/1337 , G02B5/18 , G02B5/30 , G02B27/28 , G02B27/42
Abstract: 本发明公开一种偏振周期角度连续可调的图案化液晶光取向装置及方法，该装置包括：光源组件、焦距伺服组件、运动控制部件、偏振光栅或傅立叶变换系统以及视场光阑，本发明能够制备周期从十微米级至毫米级，大小从几百纳米至几十微米可调的周期光栅结构，周期结构的形状大小可根据视场光阑进行选取，并可将其组合为可设计的任意图形，其中每个小周期光栅结构的偏振角度和周期自由可取，可实现大幅面高自由度的的偏振光刻图案。
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公开(公告)号：CN102407498B
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201110349369.X
申请日：2011-11-08
Applicant: 苏州大学
IPC: B24D18/00
Abstract: 一种方法简单，成本低廉的非球面加工方法，其包括以下步骤：1）计算出非球面的矢高值，并计算出非球面的最接近球面；2）制图软件画出非球面面形图形，以1∶1的比例关系将非球面面图形打印出来，然后在机械加工中心用铝制品高仿线切割下来，得到高仿面形图；3）将矢高值数据输入到机械加工中心，用45号钢做出非球面模具，在加工过程中用高仿面形图来检测模具；4）将非球面模具拿到非球面轮廓仪上进行面检测，如果与设计值差别较大，可以将检测结果做为补偿，再输到机械加工中心对非球面模具进行补偿加工，直到非球面误差在10微米以内；5）将非球面模具拿到电镀中心进行电镀金刚砂，金刚砂可以用不同的目数，这样就可以得到不同的粗细的磨头；6）将所述磨头装到铣磨机上后进行大量铣非球面。
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公开(公告)号：CN118550079A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410580654.X
申请日：2024-05-11
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种离轴凹抛物面反射镜投影畸变校正的方法，根据待校正离轴凹抛物面的基本参数，构建在母镜坐标系下该待校正离轴凹抛物面的曲面方程；在待校正离轴凹抛物面利用无像差点法自准直检测光路中，计算CCD投影面到待校正离轴凹抛物面的坐标变换关系；将待校正离轴凹抛物面上像素点线性变换至CCD投影面，得到投影面坐标数据；根据坐标变换关系对投影面坐标数据进行坐标变换，并对坐标变换后的数据进行插值处理。本发明利用CCD线性投影面和离轴抛物面工件表面之间的坐标投影变换结合少数标记点实现无像差点法的投影畸变校正，可用于实际CCOS机床加工，在一定精度内提升了校正效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102407498A
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：CN201110349369.X
申请日：2011-11-08
Applicant: 苏州大学
IPC: B24D18/00
Abstract: 一种方法简单，成本低廉的非球面加工方法，其包括以下步骤：1）计算出非球面的矢高值，并计算出非球面的最接近球面；2）制图软件画出非球面面形图形，以1：1的比例关系将非球面面图形打印出来，然后在机械加工中心用铝制品高仿线切割下来，得到高仿面形图；3）将矢高值数据输入到机械加工中心，用45号钢做出非球面模具，在加工过程中用高仿面形图来检测模具；4）将非球面模具拿到非球面轮廓仪上进行面检测，如果与设计值差别较大，可以将检测结果做为补偿，再输到机械加工中心对非球面模具进行补偿加工，直到非球面误差在10微米以内；5）将非球面模具拿到电镀中心进行电镀金刚砂，金刚砂可以用不同的目数，这样就可以得到不同的粗细的磨头；6）将所述磨头装到铣磨机上后进行大量铣非球面。
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公开(公告)号：CN115616754A
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202211228314.8
申请日：2022-10-08
Applicant: 苏州大学
Inventor： 杨晓飞
IPC: G02B23/24
Abstract: 本发明提出了一种用于集成光路装置的前端镜头组件及集成光路装置，应用并设置于设备的壳体内，包括：前段管路；第一折转镜，收束反射镜，第二平折转镜，窗口玻璃。本发明创造性的取消前端广角镜头，使用进光孔代替广角镜头引导设备内部的光信号，进光孔为通孔，不会像镜片一样被高温金属离子污染，且进光孔的视场受孔径和孔长度影响，可以根据需要在满足视场大小的前提下，尽可能选择小的孔径，进一步降低设备内部环境因素对前端镜头组件的负面影响。设备内部的高温物质只能经过进光孔进入前端管路中，其量级大大降低，造成的负面影响也大大降低，从而大大的提高了前端镜头组件的使用寿命，特别是在类似托卡马克(Tokamak)磁约束核聚变装置上应用，使用寿命由现有技术的数天提升到一年甚至两年以上，可以说产生了质的飞跃。
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公开(公告)号：CN113406824A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN202010184553.2
申请日：2020-03-17
Applicant: 苏州大学
IPC: G02F1/1337 , G02B5/18 , G02B5/30 , G02B27/28 , G02B27/42
Abstract: 本发明公开一种偏振周期角度连续可调的图案化液晶光取向装置及方法，该装置包括：光源组件、焦距伺服组件、运动控制部件、偏振光栅或傅立叶变换系统以及视场光阑，本发明能够制备周期从十微米级至毫米级，大小从几百纳米至几十微米可调的周期光栅结构，周期结构的形状大小可根据视场光阑进行选取，并可将其组合为可设计的任意图形，其中每个小周期光栅结构的偏振角度和周期自由可取，可实现大幅面高自由度的的偏振光刻图案。
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公开(公告)号：CN110749991A
公开(公告)日：2020-02-04
申请号：CN201911214518.4
申请日：2019-12-02
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B23/24
Abstract: 本发明公开了一种红外光学工业内窥镜系统及设备，包括：光阑孔、前端成像镜组、第一折转反射镜、中继镜组、第二折转反射镜、后端成像镜组和红外相机，其中：光阑孔用于接收磁约束核聚变EAST托卡马克装置的热辐射光线，并使光线通过光阑孔后射入至前端成像镜组，经前端成像镜组形成第一像面后，光线再经第一折转反射镜反射至中继镜组并经第二折转反射镜的反射后中继成像至第二像面，光线再经后端成像镜组成像至红外相机的靶面上；本发明在使用过程中可以使整个系统的结构设置更加灵活，能够更好的适应EAST托卡马克装置内部复杂的结构布局。
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公开(公告)号：CN102501162A
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN201110349368.5
申请日：2011-11-08
Applicant: 苏州大学
IPC: B24B37/00
Abstract: 本发明公开了一种半导体非球面加工方法，其包括以下步骤：1）对待加工的非球面进行分析；2）根据MRP，结合工作函数，确定出数控小磨头的工作参数，所述MRP为化学试剂在待加工非球面的半导体材料上的去除率；3）将半导体材料铣磨好最接近球面，然后固定在非球面数控加工中心上，将工作参数输入到非球面数控加工中心，对半导体材料进行抛光；4）一个周期抛光结束后，对半导体非球面进行检测，将检测数据反馈给非球面数控加工中心，重复步骤2、3、4直到半导体非球面的面形精度达标。本发明公实现了对半导体非球面的面形高精度高光洁度的抛光。
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