电子材料用清洗剂组合物、清洗剂原液和电子材料的清洗方法

    公开(公告)号:CN108779419B

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN201680070975.9

    申请日:2016-12-21

    Abstract: 本发明的电子材料用清洗剂组合物是含有与水共沸的叔胺(A)和水(B)的清洗剂组合物,所述叔胺(A)的沸点在1个大气压下为130~250℃,叔胺(A)在所述清洗剂组合物的所述叔胺(A)和所述水(B)的总计中的重量比(%)、小于等于叔胺(A)在由叔胺(A)和水(B)构成的共沸混合物中的重量比。该清洗剂组合物即使用非常少的量(低浓度)也能够去除附着于电子材料上的颗粒,并且可以提供一种即使没有用于洗掉清洗剂成分的漂洗工序也不会使清洗剂的残渣残留的电子材料用清洗剂组合物、清洗剂原液和包含电子材料的清洗工序的清洗方法。

    工业用共沸清洗剂、物品的清洗方法、工业用共沸清洗剂的再生方法以及清洗再生装置

    公开(公告)号:CN105658780B

    公开(公告)日:2019-04-05

    申请号:CN201480058225.0

    申请日:2014-10-23

    Abstract: 本发明的课题在于提供附着于物品的各种工业污垢、例如钎焊膏、焊剂残渣、各种油等的除去能力优良且不具有闪点、而且在常压下可再循环(蒸馏再生)的二醇类的工业用清洗剂。本发明涉及一种可再循环的工业用共沸清洗剂,其特征在于,含有共沸混合物,所述共沸混合物包含由通式(1):R1‑O‑[‑CH2‑CH(X)‑O]n‑R2(式(1)中,R1和R2均表示碳原子数1~3的烷基,n表示2或3,X表示氢或甲基)所表示的化合物构成且常压下的沸点为160~230℃的二醇类溶剂(A)、水(B)和根据需要使用的常压下的沸点为160~230℃的叔胺(C),其中,(A)成分、(B)成分和(C)成分的比率依次为5~35重量%、65~95重量%和0~30重量%,并且所述共沸混合物在常压下的共沸点为90~100℃。

    电子材料用清洗剂组合物、清洗剂原液和电子材料的清洗方法

    公开(公告)号:CN108779419A

    公开(公告)日:2018-11-09

    申请号:CN201680070975.9

    申请日:2016-12-21

    CPC classification number: C11D7/26 C11D7/32 C11D7/50 H01L21/304

    Abstract: 本发明的电子材料用清洗剂组合物是含有与水共沸的叔胺(A)和水(B)的清洗剂组合物,所述叔胺(A)的沸点在1个大气压下为130~250℃,叔胺(A)在所述清洗剂组合物的所述叔胺(A)和所述水(B)的总计中的重量比(%)、小于等于叔胺(A)在由叔胺(A)和水(B)构成的共沸混合物中的重量比。该清洗剂组合物即使用非常少的量(低浓度)也能够去除附着于电子材料上的颗粒,并且可以提供一种即使没有用于洗掉清洗剂成分的漂洗工序也不会使清洗剂的残渣残留的电子材料用清洗剂组合物、清洗剂原液和包含电子材料的清洗工序的清洗方法。

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