研磨装置及方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113829153A

    公开(公告)日:2021-12-24

    申请号:CN202111016247.9

    申请日:2021-08-31

    Abstract: 本发明提供一种研磨装置及方法,研磨装置包括:研磨机构,包括机架和安装于机架的研磨头和研磨台,研磨头位于研磨位置并用于研磨平板玻璃的边部,研磨台用于承载并将平板玻璃输送至研磨位置,且研磨台能相对机架旋转;纠偏机构,包括控制器和靠近研磨位置设置的检测组件,检测组件用于检测平板玻璃的边部坐标,且检测组件与控制器电连接,控制器被配置为根据边部坐标控制研磨台相对机架旋转。本发明中通过可旋转的研磨机构和纠偏机构的自动检测和控制相配合,可保证研磨台根据平板玻璃的偏转进行自动纠偏,提高了平板玻璃在研磨台上的定位精确性,实现了研磨装置的自动纠偏定位,可有效保证平板玻璃边部研磨后的品质、直线性和直角度。

    研磨机用真空存水罐的排水系统

    公开(公告)号:CN206694842U

    公开(公告)日:2017-12-01

    申请号:CN201720406733.4

    申请日:2017-04-18

    Abstract: 本公开涉及一种研磨机用真空存水罐的排水系统,所述真空存水罐通过第一管路连接有真空泵,所述真空存水罐通过第二管路与所述研磨机的工作台连通,所述真空存水罐的底部还连接有第一排水管,所述排水系统包括通过所述第一排水管连通所述真空存水罐底部的排水容器,所述第一排水管的进水口位于所述第一排水管的出水口上方,所述排水容器上还形成有通过第三管路与负压源连通的抽气口。通过设置在真空存水罐底部的排水容器和第一排水管,真空存水罐内的存水可以靠着自身的重力作用流入排水容器,并且,通过设置与排水容器连接的负压源,负压源可以使排水容器内部保持负压状态,这样,可以使得真空存水罐内的存水更加快速地被吸收至排水容器。

    抛光轮缓冲机构及抛光装置

    公开(公告)号:CN217702932U

    公开(公告)日:2022-11-01

    申请号:CN202221311140.7

    申请日:2022-05-26

    Abstract: 本申请提供一种抛光轮缓冲机构及抛光装置,涉及玻璃基板加工技术领域。其中,该抛光轮缓冲机构包括安装板,安装于所述抛光进给机构,以在所述抛光进给机构的带动下沿第一方向往复运动;固定支架,所述固定支架活动安装于所述安装板;抛光驱动组件,固定于所述固定支架,且用于安装并驱动抛光轮转动;第一缓冲组件,其包括:缓冲气缸及设置于所述缓冲气缸的电气比例阀,所述缓冲气缸的固定端安装于所述安装板,且其活动端与所述固定支架连接,所述电气比例阀与所述缓冲气缸连接,用于调节所述缓冲气缸的气腔内气体压力。

    纸张码放装置
    9.
    实用新型

    公开(公告)号:CN216945560U

    公开(公告)日:2022-07-12

    申请号:CN202122154733.9

    申请日:2021-09-07

    Abstract: 本实用新型涉及平板玻璃生产领域,公开了一种纸张码放装置,其中,所述纸张码放装置包括能够支撑纸张的支撑台(1)、能够压在所述支撑台(1)上的纸张上的压纸件(2)以及能够驱动所述压纸件(2)相对于支撑台(1)分别沿竖直方向和水平方向移动的驱动机构。通过以上技术方案,可以通过压纸件和支撑台配合以存放纸张并将纸张压紧在支撑台上,并且驱动机构可以驱动压纸件离开纸张以允许纸张的取放,且可以移动回到压紧纸张的位置,该装置可以更方便、快捷地存放、取用纸张,提高了工作效率。

    一种供液装置
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN219805924U

    公开(公告)日:2023-10-10

    申请号:CN202320415488.9

    申请日:2023-03-07

    Abstract: 本公开提供一种供液装置,涉及玻璃生产技术领域。供液装置包括:第一供液系统、第二供液系统和输出系统,第一供液系统包括:第一箱体、驱动泵及变频器,第一箱体设置有第一进口和第一出口,驱动泵的驱动结构设置在第一箱体内以驱使第一箱体内的液体自第一出口流出,变频器与驱动泵连接以改变驱动泵的工作频率;第二供液系统包括:第二箱体和过滤器,第二箱体设置有第二进口和第二出口,第二进口与第一出口连接,过滤器设置在第二箱体内并将第二箱体内部划分为对应第二进口的第一空间和对应第二出口的第二空间;输出系统与第二出口连接,输出系统包括多个输出管路,且每一条输出管路上设置有流量控制结构。

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