公开(公告)号：CN103842553A

公开(公告)日：2014-06-04

申请号：CN201280048262.4

申请日：2012-09-19

Applicant: 3M创新有限公司

Inventor： 杰弗里·H·托奇 ,  约瑟夫·W·V·伍德利 ,  托马斯·M·林奇 ,  丹尼尔·M·伦茨 ,  罗伯特·S·戴维森 ,  克里斯汀·E·莫兰 ,  祖丽君

IPC: C23F1/02 ,  C23F1/08 ,  C23F1/46 ,  H05K3/06 ,  C23F1/30 ,  H01L21/3213

CPC classification number: H05K3/06 ,  C02F1/10 ,  C23F1/00 ,  C23F1/02 ,  C23F1/08 ,  C23F1/14 ,  C23F1/30 ,  C23F1/46 ,  H05K3/068 ,  H05K2203/1545

Abstract: 本发明提供了一种将基底图案化的方法。该方法包括通过使金属化基底与氧化剂和金属络合剂接触以从未图案化的区域除去金属来在反应容器内湿法蚀刻金属化基底。该方法还包括通过将氧化剂和金属络合剂中的每一种的补料递送到蚀刻剂浴来保持蚀刻剂浴中的氧化剂和金属络合剂的浓度。该方法还包括通过从所述反应容器排出一定量的所述蚀刻剂浴来保持蚀刻剂浴中的金属的浓度。第一补料速率和第二补料速率以及蚀刻剂浴除去速率至少部分地基于从基底蚀刻的金属进入蚀刻剂浴的速率来确定。

公开(公告)号：CN103842553B

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：CN201280048262.4

申请日：2012-09-19

Applicant: 3M创新有限公司

Inventor： 杰弗里·H·托奇 ,  约瑟夫·W·V·伍德利 ,  托马斯·M·林奇 ,  丹尼尔·M·伦茨 ,  罗伯特·S·戴维森 ,  克里斯汀·E·莫兰 ,  祖丽君

IPC: C23F1/02 ,  C23F1/08 ,  C23F1/46 ,  H05K3/06 ,  C23F1/30 ,  H01L21/3213

CPC classification number: H05K3/06 ,  C02F1/10 ,  C23F1/00 ,  C23F1/02 ,  C23F1/08 ,  C23F1/14 ,  C23F1/30 ,  C23F1/46 ,  H05K3/068 ,  H05K2203/1545

Abstract: 本发明提供了一种将基底图案化的方法。该方法包括通过使金属化基底与氧化剂和金属络合剂接触以从未图案化的区域除去金属来在反应容器内湿法蚀刻金属化基底。该方法还包括通过将氧化剂和金属络合剂中的每一种的补料递送到蚀刻剂浴来保持蚀刻剂浴中的氧化剂和金属络合剂的浓度。该方法还包括通过从所述反应容器排出一定量的所述蚀刻剂浴来保持蚀刻剂浴中的金属的浓度。第一补料速率和第二补料速率以及蚀刻剂浴除去速率至少部分地基于从基底蚀刻的金属进入蚀刻剂浴的速率来确定。