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公开(公告)号：CN112313080B
公开(公告)日：2022-05-24
申请号：CN201980043223.7
申请日：2019-06-21
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 詹姆斯·朱 , 卡尔·K·斯腾斯瓦德 , 丹尼尔·M·伦茨 , 托马斯·J·梅茨勒 , 莫塞斯·M·大卫 , 詹妮弗·A·蒂姆 , 特伦斯·A·佩哈切克
Abstract: 本发明公开一种将图案施加到具有曲率半径的非平面表面的方法。具有主表面的印模具有延伸远离基部表面的图案元件的浮雕图案。每个图案元件具有横向尺寸为0至5微米的压印表面。施加在压印表面上的墨包括具有化学键合到非平面表面的官能团的官能化分子。定位印模以引起非平面表面与印模的主表面之间的滚动接触。使图案元件的压印表面与非平面表面接触，以在非平面表面上形成官能化材料的自组装单层，并且赋予图案元件的布置。当印模的主表面接触非平面表面时，相对于非平面表面控制压印表面的相对位置。
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公开(公告)号：CN114341676B
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202080062236.1
申请日：2020-08-28
Applicant: 3M创新有限公司
Abstract: 本发明公开了一种制造光学膜的方法，其包括提供基膜。该基膜包括限定第一表面和第二表面的基底。该基膜还包括多个结构，该多个结构限定上表面和从对应上表面延伸到基部部分的至少一个侧表面。该方法还包括使催化剂材料沉积在多个结构中的每一者和基部部分上以便在其上形成催化剂层。该方法还包括选择性地将催化剂层从多个结构中的每一者的上表面和基部部分移除，同时保持多个结构中的每一者的至少一个侧表面上的催化剂层的活性。该方法包括在多个结构中的每一者的至少一个侧表面上形成金属层。
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公开(公告)号：CN111526990A
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN201880083840.5
申请日：2018-12-26
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 詹姆斯·朱 , 卡尔·K·斯腾斯瓦德 , 丹尼尔·M·伦茨 , 托马斯·J·梅茨勒 , 莫塞斯·M·大卫
Abstract: 本发明提供了一种将图案施加到非平面表面的方法。印模具有主表面，所述主表面具有横向尺寸大于0且小于约5微米的图案元件。所述印模的所述主表面具有官能化分子，所述官能化分子具有被选择用于化学键合到所述非平面表面的官能团。所述印模被定位成引起与所述非平面表面的滚动接触，并且接触所述非平面表面以在其上形成官能化材料的自组装单层(SAM)，并且向所述非平面表面赋予图案元件的布置。所述印模的所述主表面相对于所述非平面表面平移，使得：控制在所述压印表面与所述非平面表面之间的界面处的接触压力，并且在所述压印表面和所述非平面表面彼此接触时，允许所述界面处的接触力变化。
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公开(公告)号：CN111526990B
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN201880083840.5
申请日：2018-12-26
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 詹姆斯·朱 , 卡尔·K·斯腾斯瓦德 , 丹尼尔·M·伦茨 , 托马斯·J·梅茨勒 , 莫塞斯·M·大卫
Abstract: 本发明提供了一种将图案施加到非平面表面的方法。印模具有主表面，所述主表面具有横向尺寸大于0且小于约5微米的图案元件。所述印模的所述主表面具有官能化分子，所述官能化分子具有被选择用于化学键合到所述非平面表面的官能团。所述印模被定位成引起与所述非平面表面的滚动接触，并且接触所述非平面表面以在其上形成官能化材料的自组装单层(SAM)，并且向所述非平面表面赋予图案元件的布置。所述印模的所述主表面相对于所述非平面表面平移，使得：控制在所述压印表面与所述非平面表面之间的界面处的接触压力，并且在所述压印表面和所述非平面表面彼此接触时，允许所述界面处的接触力变化。
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公开(公告)号：CN114829905A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202080086419.7
申请日：2020-12-11
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 姜明燦 , 丹尼尔·M·伦茨 , 中村雅之 , 卡尔·K·斯腾斯瓦德 , 詹姆斯·朱
IPC: G01N21/552 , G01N33/00
Abstract: 本发明公开了一种传感器元件和包括该传感元件的传感器。该传感器依次包括吸收层、金属层和光学透明的介电基板。该吸收层包含具有固有微孔性的聚合物，其具有至少0.1nm3的平均孔体积。该金属层具有多个开口，每个开口从该金属层的第一主表面延伸至该金属层的第二主表面，这些开口具有在50nm至5000nm范围内的间距，其中这些开口具有在该间距的5％至95％范围内的开口尺寸。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111263902A
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201880069034.2
申请日：2018-10-25
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 陈葵 , 安·M·吉尔曼 , 凯文·W·戈特里克 , 斯科特·J·琼斯 , 丹尼尔·M·伦茨 , 迈克尔·A·麦科伊 , 什里·尼瓦斯 , 马修·S·斯泰 , 拉马苏布拉马尼·库杜瓦·拉曼·塔努穆尔蒂 , 夏颖
IPC: G02B5/128
Abstract: 本发明提供了一种回射制品，所述回射制品包括粘结剂层和多个回射元件。每个回射元件包括部分地嵌入在所述粘结剂层中的透明微球。所述回射元件中的至少一些包括反射层，所述反射层嵌入所述透明微球和所述粘结剂层之间。所述嵌入反射层中的至少一些为局部反射层。
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公开(公告)号：CN103842553B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201280048262.4
申请日：2012-09-19
Applicant: 3M创新有限公司
CPC classification number: H05K3/06 , C02F1/10 , C23F1/00 , C23F1/02 , C23F1/08 , C23F1/14 , C23F1/30 , C23F1/46 , H05K3/068 , H05K2203/1545
Abstract: 本发明提供了一种将基底图案化的方法。该方法包括通过使金属化基底与氧化剂和金属络合剂接触以从未图案化的区域除去金属来在反应容器内湿法蚀刻金属化基底。该方法还包括通过将氧化剂和金属络合剂中的每一种的补料递送到蚀刻剂浴来保持蚀刻剂浴中的氧化剂和金属络合剂的浓度。该方法还包括通过从所述反应容器排出一定量的所述蚀刻剂浴来保持蚀刻剂浴中的金属的浓度。第一补料速率和第二补料速率以及蚀刻剂浴除去速率至少部分地基于从基底蚀刻的金属进入蚀刻剂浴的速率来确定。
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公开(公告)号：CN116133794A
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202180059599.4
申请日：2021-07-20
Applicant: 3M创新有限公司
IPC: B24D3/34
Abstract: 一种带涂层磨料制品，该带涂层磨料制品包括背衬，该背衬具有相反的第一主表面和第二主表面；底胶层，该底胶层设置在该第一主表面的至少一部分上并且将磨料颗粒粘结到该背衬；复胶层，该复胶层覆盖在该底胶层和该磨料颗粒的至少一部分上；和顶胶层，该顶胶层设置在该复胶层上。该顶胶层包含至少部分固化的水基环氧树脂和有机聚合物流变改性剂，并且其中该至少部分固化的环氧树脂的量占该至少部分固化的环氧树脂和该有机聚合物流变改性剂的总重量的75重量％至99.99重量％。还公开了一种制备带涂层磨料制品的方法。
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公开(公告)号：CN114341676A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202080062236.1
申请日：2020-08-28
Applicant: 3M创新有限公司
IPC: G02B5/00
Abstract: 本发明公开了一种制造光学膜的方法，其包括提供基膜。该基膜包括限定第一表面和第二表面的基底。该基膜还包括多个结构，该多个结构限定上表面和从对应上表面延伸到基部部分的至少一个侧表面。该方法还包括使催化剂材料沉积在多个结构中的每一者和基部部分上以便在其上形成催化剂层。该方法还包括选择性地将催化剂层从多个结构中的每一者的上表面和基部部分移除，同时保持多个结构中的每一者的至少一个侧表面上的催化剂层的活性。该方法包括在多个结构中的每一者的至少一个侧表面上形成金属层。
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公开(公告)号：CN109790639B
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN201780057092.9
申请日：2017-09-12
Applicant: 3M创新有限公司
Inventor： 詹姆斯·朱 , 丹尼尔·M·伦茨 , 卡尔·K·斯腾斯瓦德 , 戴维·J·塔尔诺夫斯基
IPC: C25D5/02 , C25D17/00 , H01L21/027 , G03F7/00 , B21B27/02
Abstract: 本发明提供了一种使柱形工具图案化的方法，其包括：提供压模，所述压模包括基部和在所述基部上的固态离子导体的层；将预定特征图案的负片施加到所述固态离子导体的主表面；提供具有金属表面的柱形工具，使所述金属表面定位在所述压模附近；以及在所述金属表面和阴极之间施加电场，同时抵靠所述金属表面以滚动线接触的方式移动所述压模，以便将所述预定特征图案赋予到所述金属表面上，其中所述阴极为所述基部或与所述基部相邻定位的导电元件。所述预定特征图案的所述正片可包括多个纳米级特征。
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