公开(公告)号：CN114080569A

公开(公告)日：2022-02-22

申请号：CN202080048483.6

申请日：2020-07-06

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

Inventor： N·梅塔 ,  J·科塔尔 ,  帕特里克·华纳 ,  M·范德斯卡 ,  M·G·M·M·范卡拉埃吉 ,  H·A·J·克瑞姆 ,  O·V·兹维尔

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/42

Abstract: 公开了一种图案形成装置和使用该图案形成装置进行图案化的辅助衬底，该图案形成装置用于将产品结构图案化到衬底上。该图案形成装置包括目标图案化元件，其用于图案化至少一个目标，从至少一个目标能够推断感兴趣参数。目标图案化元件和用于图案化产品结构的产品图案化元件。目标图案化元件和产品图案化元件被配置为使得所述至少一个目标具有至少一个边界，该至少一个边界既不平行也不垂直于所述衬底上的所述产品结构。

公开(公告)号：CN114667446A

公开(公告)日：2022-06-24

申请号：CN202080065378.3

申请日：2020-09-03

Applicant: ASML控股股份有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： A·E·A·科伦 ,  J·克鲁泽 ,  N·梅塔 ,  帕特里克·华纳 ,  V·T·滕纳 ,  P·A·J·廷尼曼斯 ,  H·克拉莫

IPC: G01N21/95 ,  G01N21/956 ,  G03F7/20

Abstract: 披露了一种用于在衬底的包括目标结构的至少一部分的区域上进行量测测量的方法。所述方法包括：接收表示由所述区域所散射的辐射的一部分的辐射信息；以及在傅里叶域中使用滤波器以用于移除或抑制所接收的辐射信息的、与已由所述目标结构散射的辐射不相关的至少一部分，以用于获得用于所述量测测量的经滤波的辐射信息，其中所述滤波器的特性基于与所述目标结构相关的目标信息。

公开(公告)号：CN113424108A

公开(公告)日：2021-09-21

申请号：CN202080014568.2

申请日：2020-01-28

Applicant: ASML控股股份有限公司

Inventor： N·梅塔 ,  P·J·迈耶

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

Abstract: 一种光刻装置，包括：照射系统，用以产生辐射光束；支撑件，用以支撑图案形成设备以在所述光束上赋予图案；投影系统，用以将图案化的光束投影到衬底(520)上；以及，量测系统(500)，其包括：辐射源(512)，用以产生辐射(513)；光学元件(514)，用以引导辐射(515)朝向目标(518)；检测器(528)，用以接收被目标散射的第一辐射和第二辐射并基于接收的第一辐射和第二辐射分别产生第一测量和第二测量；以及，控制器(532)。控制器确定第一测量的校正、第一测量的校正和第一测量之间的误差、并且基于第一测量的校正、第二测量和误差确定第二测量的校正。光刻装置使用校正来调节衬底的位置。