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公开(公告)号：CN104749878B
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201510091703.4
申请日：2006-12-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·F·伍伊斯特 , J·F·迪克斯曼 , Y·W·克鲁特-斯特格曼
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，所述模板保持器位于基板保持器的下方。
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公开(公告)号：CN103543602B
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201310495547.9
申请日：2006-12-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·F·伍伊斯特 , J·F·迪克斯曼 , Y·W·克鲁特-斯特格曼
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/11 , G03F7/201
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，所述模板保持器位于基板保持器的下方。
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公开(公告)号：CN102566263B
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201210061782.0
申请日：2006-12-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·F·伍伊斯特 , J·F·迪克斯曼 , Y·W·克鲁特-斯特格曼
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/11 , G03F7/201
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，所述模板保持器位于基板保持器的下方。
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公开(公告)号：CN103543602A
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201310495547.9
申请日：2006-12-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·F·伍伊斯特 , J·F·迪克斯曼 , Y·W·克鲁特-斯特格曼
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/11 , G03F7/201
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，所述模板保持器位于基板保持器的下方。
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公开(公告)号：CN103019038A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210347809.2
申请日：2012-09-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: H05G2/005 , G03F7/70033 , G03F7/70883 , G03F7/70916 , H05G2/006 , H05G2/008
Abstract: 本发明公开了一种辐射源，包括贮存器、喷嘴、激光器以及正透镜。贮存器配置成保持一体积的燃料。喷嘴与贮存器流体连接并配置成沿着朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料流。激光器配置成将激光辐射引导到在等离子体形成位置处的所述流上，以在使用中产生用于产生辐射的等离子体。正透镜布置配置成朝向等离子体形成位置聚焦燃料流的轨迹的至少潜在的展度范围，透镜包括电场生成元件和/或磁场生成元件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102566263A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201210061782.0
申请日：2006-12-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·F·伍伊斯特 , J·F·迪克斯曼 , Y·W·克鲁特-斯特格曼
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/11 , G03F7/201
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，所述模板保持器位于基板保持器的下方。
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公开(公告)号：CN1987645B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN200610064156.1
申请日：2006-12-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·F·伍伊斯特 , J·F·迪克斯曼 , Y·W·克鲁特-斯特格曼
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/11 , G03F7/201
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，所述模板保持器位于基板保持器的下方。
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公开(公告)号：CN1987645A
公开(公告)日：2007-06-27
申请号：CN200610064156.1
申请日：2006-12-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·F·伍伊斯特 , J·F·迪克斯曼 , Y·W·克鲁特-斯特格曼
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/11 , G03F7/201
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，所述模板保持器位于基板保持器的下方。
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公开(公告)号：CN103019038B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201210347809.2
申请日：2012-09-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: H05G2/005 , G03F7/70033 , G03F7/70883 , G03F7/70916 , H05G2/006 , H05G2/008
Abstract: 本发明公开了一种辐射源，包括贮存器、喷嘴、激光器以及正透镜。贮存器配置成保持一体积的燃料。喷嘴与贮存器流体连接并配置成沿着朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料流。激光器配置成将激光辐射引导到在等离子体形成位置处的所述流上，以在使用中产生用于产生辐射的等离子体。正透镜布置配置成朝向等离子体形成位置聚焦燃料流的轨迹的至少潜在的展度范围，透镜包括电场生成元件和/或磁场生成元件。
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公开(公告)号：CN104749878A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201510091703.4
申请日：2006-12-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·F·伍伊斯特 , J·F·迪克斯曼 , Y·W·克鲁特-斯特格曼
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，其包括用来保持多个压印模板的模板保持器和用来保持基板的基板保持器，所述模板保持器位于基板保持器的下方。
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