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公开(公告)号：CN114746810A
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202080080972.X
申请日：2020-10-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·A·T·范欣斯贝格 , J·R·唐斯 , E·J·M·弗杜门 , J·F·F·克林坎梅尔 , R·沃克曼 , J·S·维尔登贝尔格 , A·J·尤班茨约克 , L·J·J·维泽
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于确定输入的方法，该输入被输入至透镜模型，以在对衬底的多个场中的至少一个场进行寻址时，确定针对光刻设备的透镜的操纵的设定值，所述方法包括：接收针对至少一个场的参数数据，该参数数据与衬底的在至少一个场内的一个或多个参数有关，该一个或多个参数至少部分地对透镜的操纵敏感，透镜的操纵作为通过光刻设备执行的曝光的一部分；接收与透镜相关的透镜模型数据；基于参数数据和透镜模型数据确定输入。
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公开(公告)号：CN113741155B
公开(公告)日：2025-03-14
申请号：CN202111042020.1
申请日：2018-03-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·S·维尔登贝尔格 , M·乔彻姆森 , E·詹森 , E·J·M·沃勒博斯 , C·J·瑞吉尼尔瑟 , B·拉加瑟克哈兰 , R·沃克曼 , J·J·H·M·舒努斯
IPC: G03F7/20 , G05B19/418
Abstract: 本公开涉及优化针对产品单元制造的工艺序列。一种用于优化针对产品单元制造的工艺序列的方法，该方法包括：将性能参数(指纹)的测量结果与记录的工艺特性(上下文)相关联(406)；获取(408)序列中已经对产品单元执行的先前工艺(例如，沉积)的特性(上下文)；获取(410)序列中要对产品单元执行的后续工艺(曝光)的特性(上下文)；通过使用所获取的特性来取回与所记录的特性相对应的性能参数(指纹)的测量结果，确定(412)与先前工艺和后续工艺的序列相关联的产品单元的预测性能参数(指纹)；以及基于所确定的预测性能参数，确定(414，416)要对序列中要对产品单元执行的未来工艺(例如，曝光、蚀刻)应用(418)的校正。
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公开(公告)号：CN117120933A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202280026961.2
申请日：2022-03-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： D·卡拉 , E·詹森 , J·S·维尔登贝尔格 , D·F·S·德克尔斯 , S·古勒 , R·A·阿斯图迪洛·伦吉佛 , Y·尤迪斯蒂拉 , G·希尔霍斯特 , D·R·凯塞多·费尔南德斯 , F·R·斯佩林格 , S·C·霍 , H·M·博洛姆 , S·U·金 , H-S·金
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于确定衬底模型的方法，该衬底模型用于描述与性能参数相关的第一测量数据集和第二测量数据集。该方法包括获得针对多个衬底模型的候选基函数。针对所述第一测量数据集和所述第二测量数据集迭代执行步骤1至4，直到满足至少一个停止准则，以便确定所述衬底模型，所述步骤包括：1.从所述候选基函数中选择候选基函数；2.通过将候选基函数添加到该衬底模型中来更新衬底模型以获得更新后的衬底模型；3.基于所述第一测量数据集和所述第二测量数据集中的至少一个来评估更新后的衬底模型；以及4.基于评估来确定是否将基函数包括在衬底模型内。
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公开(公告)号：CN109917622A
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：CN201910250499.4
申请日：2016-03-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： E·C·莫斯 , V·A·伊格纳托瓦 , E·詹森 , M·库比斯 , H·J·G·西蒙斯 , P·滕伯格 , E·J·M·沃勒博斯 , J·S·维尔登贝尔格
Abstract: 一种方法，包括：根据横跨衬底的测量数据，相对于表示拟合测得数据的数学模型的剩余不确定性的参数，对用于拟合测得数据的一个或多个数学模型和用于对数据进行测量的一个或多个测量采样方案进行评价；以及标识参数越过阈值的一个或多个数学模型和/或一个或多个测量采样方案。
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公开(公告)号：CN116457728A
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202180075661.9
申请日：2021-10-26
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·沃克曼 , J·S·维尔登贝尔格 , R·萨拉埃恩
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供了一种推断用于一个或多个当前衬底的当前采样方案的方法，所述方法包括：获得第一模型，所述第一模型被训练以基于与一个或多个先前衬底相关联的输入上下文和/或预曝光数据来推断最佳采样方案，其中所述第一模型依据第二模型的结果而被训练，所述第二模型被配置以在推断的所述最佳采样方案与预定最佳采样方案之间进行判别；以及使用所获得的第一模型，以基于与所述一个或多个当前衬底相关联的输入上下文和/或预曝光数据，来推断当前采样方案。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107438795A
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：CN201680020996.X
申请日：2016-03-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： E·C·莫斯 , V·A·伊格纳托瓦 , E·詹森 , M·库比斯 , H·J·G·西蒙斯 , P·滕伯格 , E·J·M·沃勒博斯 , J·S·维尔登贝尔格
CPC classification number: G06F17/18 , G03F7/705 , G03F7/70508 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F9/7003 , G06F17/5009 , H01L22/12 , H01L22/20 , G03F7/70616 , G03F9/7034
Abstract: 一种方法，包括：根据横跨衬底的测量数据，相对于表示拟合测得数据的数学模型的剩余不确定性的参数，对用于拟合测得数据的一个或多个数学模型和用于对数据进行测量的一个或多个测量采样方案进行评价；以及标识参数越过阈值的一个或多个数学模型和/或一个或多个测量采样方案。
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公开(公告)号：CN113632011A
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN202080024348.8
申请日：2020-03-19
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： K·范德鲁伊特 , R·沃克曼 , J·S·维尔登贝尔格
Abstract: 一种确定计量点位置的集合的方法，所述集合包括衬底上的潜在计量点位置的子集；其中所述方法包括：使用现有知识确定与多个所述潜在计量点位置相关联的噪声分布之间的关系；并且使用所确定的关系和与所述衬底相关联的模型来确定所述集合。
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公开(公告)号：CN110546576B
公开(公告)日：2021-09-10
申请号：CN201880027429.6
申请日：2018-03-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·S·维尔登贝尔格 , M·乔彻姆森 , E·詹森 , E·J·M·沃勒博斯 , C·J·瑞吉尼尔瑟 , B·拉加瑟克哈兰 , R·沃克曼 , J·J·H·M·舒努斯
IPC: G03F7/20 , G05B19/418
Abstract: 一种用于优化针对产品单元制造的工艺序列的方法，该方法包括：将性能参数(指纹)的测量结果与记录的工艺特性(上下文)相关联(406)；获取(408)序列中已经对产品单元执行的先前工艺(例如，沉积)的特性(上下文)；获取(410)序列中要对产品单元执行的后续工艺(曝光)的特性(上下文)；通过使用所获取的特性来取回与所记录的特性相对应的性能参数(指纹)的测量结果，确定(412)与先前工艺和后续工艺的序列相关联的产品单元的预测性能参数(指纹)；以及基于所确定的预测性能参数，确定(414，416)要对序列中要对产品单元执行的未来工艺(例如，曝光、蚀刻)应用(418)的校正。
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公开(公告)号：CN109917622B
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN201910250499.4
申请日：2016-03-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： E·C·莫斯 , V·A·伊格纳托瓦 , E·詹森 , M·库比斯 , H·J·G·西蒙斯 , P·滕伯格 , E·J·M·沃勒博斯 , J·S·维尔登贝尔格
Abstract: 一种方法，包括：根据横跨衬底的测量数据，相对于表示拟合测得数据的数学模型的剩余不确定性的参数，对用于拟合测得数据的一个或多个数学模型和用于对数据进行测量的一个或多个测量采样方案进行评价；以及标识参数越过阈值的一个或多个数学模型和/或一个或多个测量采样方案。
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公开(公告)号：CN112136082A
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN201980031932.3
申请日：2019-04-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·P·马托瓦 , J·S·维尔登贝尔格 , R·沃克曼 , L·罗曼
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于跨衬底上的区域估计参数的方法，该区域被划分为多个子区域，该方法包括：获得针对多个子区域中至少两个子区域的参数的值；以及通过评估将参数的值作为输入值的函数，来估计针对区域上的位置的参数，其中a)函数包括分段定义的基函数，其中跨子区域定义单个基函数；以及b)函数在包含于区域内的至少两个子区域的一个或多个相邻子区域之间是连续的。
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