公开(公告)号：CN1725110A

公开(公告)日：2006-01-25

申请号：CN200510081753.0

申请日：2005-05-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·贝克斯 ,  R·J·胡特曼斯 ,  N·坦卡特 ,  N·R·科珀 ,  N·F·科佩拉亚斯 ,  J·-M·肖特斯曼 ,  R·范德哈姆 ,  J·A·M·M·范尤特雷格特

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/70908

Abstract: 公开了一种光刻设备。该设备包括照明系统以提供辐射束，和用于支撑构图装置的支撑结构。构图装置用于在其剖面中给予辐射束图案。该设备还包括气体冲洗装置，用于将大量的层流气体冲过辐射束和/或沿着光学元件的表面冲过。气体冲洗装置包括单个排气口，在排气口的下游端具有内缘。内缘限定了总排气口面积。排气口提供有具有有效面积的层合器，在使用时，大量的层流气体流出有效面积。层合器有效面积包括具有层合器开口的材料，且至少与总排气口面积一样大。

公开(公告)号：CN100541334C

公开(公告)日：2009-09-16

申请号：CN200510081753.0

申请日：2005-05-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·贝克斯 ,  R·J·胡特曼斯 ,  N·坦卡特 ,  N·R·科珀 ,  N·F·科佩拉亚斯 ,  J·-M·肖特斯曼 ,  R·范德哈姆 ,  J·A·M·M·范尤特雷格特

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/70908

Abstract: 公开了一种光刻设备。该设备包括照明系统以提供辐射束，和用于支撑构图装置的支撑结构。构图装置用于在其剖面中给予辐射束图案。该设备还包括气体冲洗装置，用于将大量的层流气体冲过辐射束和/或沿着光学元件的表面冲过。气体冲洗装置包括单个排气口，在排气口的下游端具有内缘。内缘限定了总排气口面积。排气口提供有具有有效面积的层合器，在使用时，大量的层流气体流出有效面积。层合器有效面积包括具有层合器开口的材料，且至少与总排气口面积一样大。

公开(公告)号：CN102566319A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201210036739.9

申请日：2007-03-28

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·R·科珀 ,  S·N·L·唐德斯 ,  J·J·奥坦斯 ,  J·C·范德霍文 ,  E·C·卡迪克 ,  S·舒勒波

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03B27/42 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716

Abstract: 本发明公开一种光刻装置及器件制造方法。本申请记载了光刻投影装置中的排放装置的各个实施例，这些实施例例如具有一特征，当在排放装置中不存在液体时该特征可减小流入排放装置的气体。在一个示例中，提供一被动型液体去除装置，使得该排放装置中的气体压力等于环境气体压力，在另一个实施例中，提供一挡板以在不需要去除液体时封闭该腔室。

公开(公告)号：CN101046640B

公开(公告)日：2012-03-28

申请号：CN200710091861.5

申请日：2007-03-28

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·R·科珀 ,  S·N·L·唐德斯 ,  J·J·奥坦斯 ,  J·C·范德霍文 ,  E·C·卡迪克 ,  S·舒勒波

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03B27/42 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716

Abstract: 记载了光刻投影装置中的排放装置的各个实施例，这些实施例例如具有一特征，当在排放装置中不存在液体时该特征可减小流入排放装置的气体。在一个示例中，提供一被动型液体去除装置，使得该排放装置中的气体压力等于环境气体压力，在另一个实施例中，提供一挡板以在不需要去除液体时封闭该腔室。

公开(公告)号：CN102566319B

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：CN201210036739.9

申请日：2007-03-28

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·R·科珀 ,  S·N·L·唐德斯 ,  J·J·奥坦斯 ,  J·C·范德霍文 ,  E·C·卡迪克 ,  S·舒勒波

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03B27/42 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716

Abstract: 本发明公开一种光刻装置及器件制造方法。本申请记载了光刻投影装置中的排放装置的各个实施例，这些实施例例如具有一特征，当在排放装置中不存在液体时该特征可减小流入排放装置的气体。在一个示例中，提供一被动型液体去除装置，使得该排放装置中的气体压力等于环境气体压力，在另一个实施例中，提供一挡板以在不需要去除液体时封闭该腔室。

公开(公告)号：CN101046640A

公开(公告)日：2007-10-03

申请号：CN200710091861.5

申请日：2007-03-28

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： N·R·科珀 ,  S·N·L·唐德斯 ,  J·J·奥坦斯 ,  J·C·范德霍文 ,  E·C·卡迪克 ,  S·舒勒波

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03B27/42 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70716

Abstract: 记载了光刻投影装置中的排放装置的各个实施例，这些实施例例如具有一特征，当在排放装置中不存在液体时该特征可减小流入排放装置的气体。在一个示例中，提供一被动型液体去除装置，使得该排放装置中的气体压力等于环境气体压力，在另一个实施例中，提供一挡板以在不需要去除液体时封闭该腔室。