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公开(公告)号：CN102981370A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201210292390.5
申请日：2012-08-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·G·C·昆尼 , J·H·W·雅各布斯 , C·C·W·沃斯帕盖特 , R·范德哈姆 , I·A·J·托马斯 , M·霍本 , T·S·M·劳伦特 , G·M·M·考克兰 , R·H·M·J·布洛克斯 , G·彼得斯 , P·L·J·岗特尔 , M·J·里米 , S·C·R·德尔克斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了光刻设备、用于光刻设备的支撑台以及器件制造方法。所述支撑台被配置用于支撑衬底，所述支撑台具有：支撑部分，用于支撑衬底；以及调节系统，用于将热能供给至支撑部分和/或从支撑部分去除热能，其中所述调节系统包括可独立控制的多个调节单元。
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公开(公告)号：CN102455605A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201110316530.3
申请日：2011-10-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·J·J·范鲍克斯台尔 , M·J·M·范达姆 , J·C·M·贾斯伯 , R·范德哈姆 , S·舒勒波夫 , G·彼得斯 , M·巴拉古拿 , P·达姆波沃尔 , A·A·H·范德斯泰恩
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70891 , G03F7/70091 , G03F7/70991
Abstract: 一种气体歧管、用于光刻设备的模块、光刻设备和器件制造方法，所述气体歧管用于在光刻设备的光学部件的两个板之间引导气流，所述气体歧管具有进口、在所述进口的下游的扩散器、在所述进口的下游的流整直器、在所述流整直器的下游的收缩器和在所述收缩器的下游的出口。
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公开(公告)号：CN1940728A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200610142098.X
申请日：2006-09-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·A·R·范恩佩尔 , R·范德哈姆 , N·J·J·罗塞特
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70775 , G03F7/70883
Abstract: 一种光刻装置，包括配置成向所述装置的内部空间供给第一气流的至少一个第一气体喷头和配置成向所述装置的内部空间供给第二气流的至少一个第二气体喷头，其中所述气体喷头配置成将第一气流和第二气流至少部分地朝向彼此引导。还提供一种方法，其用于调节器件制造装置的内部空间，其中第一调节气流和第二调节气流被供给到所述内部空间，使得第一调节气流和第二调节气流至少部分地向彼此引导。
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公开(公告)号：CN1952786B
公开(公告)日：2012-02-29
申请号：CN200610135675.2
申请日：2006-10-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·A·R·范恩佩尔 , R·范德哈姆 , N·J·J·罗塞特
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70908
Abstract: 一种在光学装置中调节至少一个光路的气体喷头，其中所述气体喷头包括具有喷头出口侧以向光路供给气体的气体分配室，所述气体分配室配置成将气体分配到光路，其中所述气体分配室包括大体上尖锐的锥形尖端。
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公开(公告)号：CN1713075B
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN200510079476.X
申请日：2005-06-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70341 , G03F7/70808
Abstract: 本发明公开了一种光刻投影装置。该装置包括一配置成调节辐射光束的照射系统和一配置成支撑构图部件的支撑结构。该构图部件用于在辐射光束的横截面将图案赋予给辐射光束。该装置还包括一配置成保持基底的基底台，一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统，以及一配置成将流体提供给一个容积的流体供给系统。该容积包括至少一部分投影系统和/或至少一部分照射系统。该装置还包括一配置成将流体供给系统连接到基底台、基底、支撑结构、构图部件、或其任何组合的连接部件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1725110A
公开(公告)日：2006-01-25
申请号：CN200510081753.0
申请日：2005-05-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70908
Abstract: 公开了一种光刻设备。该设备包括照明系统以提供辐射束，和用于支撑构图装置的支撑结构。构图装置用于在其剖面中给予辐射束图案。该设备还包括气体冲洗装置，用于将大量的层流气体冲过辐射束和/或沿着光学元件的表面冲过。气体冲洗装置包括单个排气口，在排气口的下游端具有内缘。内缘限定了总排气口面积。排气口提供有具有有效面积的层合器，在使用时，大量的层流气体流出有效面积。层合器有效面积包括具有层合器开口的材料，且至少与总排气口面积一样大。
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公开(公告)号：CN106662822A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580035549.7
申请日：2015-06-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70891 , G03F7/70316 , G03F7/70341 , G03F7/2041
Abstract: 一种浸没光刻设备包括：投影系统，用于通过投影系统的最终透镜元件的光学上有效的部分将图案化的辐射束朝向由衬底台支撑的衬底投影，最终透镜元件具有露出的底部表面；液体限制结构，被配置用于将浸没液体供给至浸没空间并限制在浸没空间中，所述浸没空间在投影系统的最终透镜元件与由衬底和衬底台中的至少一个形成的表面之间；和处于投影系统与液体限制结构之间的通路形成件，以及在通路形成件与最终透镜元件的光学上有效的部分之间的通路，所述通路通过开口与浸没空间液体连通，并且相对于投影系统的光轴沿径向向外延伸至少至最终透镜元件的露出的底部表面的边缘，所述通路被构造和配置成使得在使用时通过毛细作用、由来自浸没空间的液体填充所述通路。
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公开(公告)号：CN102096341A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN201110040001.5
申请日：2007-03-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·范德哈姆 , T·A·R·范埃姆佩 , H·沃格 , N·J·J·罗塞特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70775 , G03F7/70858 , G03F7/70866 , Y10T137/8593
Abstract: 本发明公开了一种组件、调节系统、光刻装置和方法。所述组件包括调节系统和可移入和/或移出被调节区域的对象。该调节系统具有向被调节区域提供调节流体的流体出口通道，并构造成根据该对象的位置来调整从该流体出口通道流出的调节流体的流出量。
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公开(公告)号：CN101046637B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200710089703.6
申请日：2007-03-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·范德哈姆 , T·A·R·范埃姆佩 , H·沃格 , N·J·J·罗塞特
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70775 , G03F7/70858 , G03F7/70866 , Y10T137/8593
Abstract: 公开了一种组件，其包括调节系统和可移入和/或移出被调节区域的对象。该调节系统具有向被调节区域提供调节流体的流体出口通道，并构造成根据该对象的位置来调整从该流体出口通道流出的调节流体的流出量。
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公开(公告)号：CN101046637A
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200710089703.6
申请日：2007-03-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·范德哈姆 , T·A·R·范埃姆佩 , H·沃格 , N·J·J·罗塞特
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70775 , G03F7/70858 , G03F7/70866 , Y10T137/8593
Abstract: 公开了一种组件，其包括调节系统和可移入和/或移出被调节区域的对象。该调节系统具有向被调节区域提供调节流体的流体出口通道，并构造成根据该对象的位置来调整从该流体出口通道流出的调节流体的流出量。
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