公开(公告)号：CN1725110A

公开(公告)日：2006-01-25

申请号：CN200510081753.0

申请日：2005-05-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·贝克斯 ,  R·J·胡特曼斯 ,  N·坦卡特 ,  N·R·科珀 ,  N·F·科佩拉亚斯 ,  J·-M·肖特斯曼 ,  R·范德哈姆 ,  J·A·M·M·范尤特雷格特

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/70908

Abstract: 公开了一种光刻设备。该设备包括照明系统以提供辐射束，和用于支撑构图装置的支撑结构。构图装置用于在其剖面中给予辐射束图案。该设备还包括气体冲洗装置，用于将大量的层流气体冲过辐射束和/或沿着光学元件的表面冲过。气体冲洗装置包括单个排气口，在排气口的下游端具有内缘。内缘限定了总排气口面积。排气口提供有具有有效面积的层合器，在使用时，大量的层流气体流出有效面积。层合器有效面积包括具有层合器开口的材料，且至少与总排气口面积一样大。

公开(公告)号：CN100541334C

公开(公告)日：2009-09-16

申请号：CN200510081753.0

申请日：2005-05-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·贝克斯 ,  R·J·胡特曼斯 ,  N·坦卡特 ,  N·R·科珀 ,  N·F·科佩拉亚斯 ,  J·-M·肖特斯曼 ,  R·范德哈姆 ,  J·A·M·M·范尤特雷格特

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70933 ,  G03F7/70908

Abstract: 公开了一种光刻设备。该设备包括照明系统以提供辐射束，和用于支撑构图装置的支撑结构。构图装置用于在其剖面中给予辐射束图案。该设备还包括气体冲洗装置，用于将大量的层流气体冲过辐射束和/或沿着光学元件的表面冲过。气体冲洗装置包括单个排气口，在排气口的下游端具有内缘。内缘限定了总排气口面积。排气口提供有具有有效面积的层合器，在使用时，大量的层流气体流出有效面积。层合器有效面积包括具有层合器开口的材料，且至少与总排气口面积一样大。

公开(公告)号：CN1530756A

公开(公告)日：2004-09-22

申请号：CN200410039750.6

申请日：2004-02-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： P·K·德博克西 ,  T·A·R·范恩佩 ,  R·J·胡特曼斯 ,  A·C·A·乔科斯

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/70933

Abstract: 本发明涉及一种包括气体冲洗系统的光刻投射装置，其中该气体冲洗系统和基底为在气体冲洗系统和基底间的径向气流限定一间隙，并且其中气体冲洗系统还包括一些用于产生径向气流的额外出口，并且其中所用的气体冲洗系统产生径向气流，使得在所述间隙任意位置，径向气流具有大于零并且方向向外的径向速度。