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公开(公告)号：CN109196425A
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201780033589.7
申请日：2017-05-05
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·H·M·考克斯 , R·C·G·吉杰曾 , P·W·P·里姆彭斯 , B·F·里德斯特拉 , F·范德梅尤伦
Abstract: 本发明涉及工作台系统、光刻装置和用于制造使用工作台系统的器件的方法。在工作台系统(1)中，提供一种定位系统，其包括适于定位载物台(2)的致动器(10)。致动器包括磁体组件(20)和线圈组件(11)。磁体组件包括第一磁体(21)和第二磁体(22)，它们在使用中经受内磁力。磁体组件具有分离的接口(23、24)，用于将每个磁体分别连接至载物台。磁体组件还包括间隔器件(25、26)，其至少在内磁力的方向上将第一和第二磁体彼此保持相对距离。
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公开(公告)号：CN109804313B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN201780060159.4
申请日：2017-08-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·范德梅尤伦 , E·J·阿勒马克 , H·H·M·考克斯 , M·A·W·丘珀斯 , J·德胡戈 , G·C·德维雷斯 , P·C·H·德威特 , S·C·R·德克斯 , R·C·G·吉杰曾 , D·V·P·赫姆舒特 , C·A·霍根达姆 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , A·L·C·勒鲁克斯 , P·W·P·里姆彭斯 , J·V·奥弗坎普 , C·L·瓦伦丁 , K·范伯克尔 , S·H·范德莫伦 , J·C·G·范德桑登 , H·K·范德舒特 , D·F·弗勒斯 , E·A·R·威斯特豪斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种光刻设备，包括被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统，光刻设备进一步包括用于冷却衬底的冷却设备，其中冷却设备包括位于衬底台上方并且邻近于曝光区域的冷却元件，冷却元件被配置为从衬底去除热量。
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公开(公告)号：CN109804313A
公开(公告)日：2019-05-24
申请号：CN201780060159.4
申请日：2017-08-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·范德梅尤伦 , E·J·阿勒马克 , H·H·M·考克斯 , M·A·W·丘珀斯 , J·德胡戈 , G·C·德维雷斯 , P·C·H·德威特 , S·C·R·德克斯 , R·C·G·吉杰曾 , D·V·P·赫姆舒特 , C·A·霍根达姆 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , A·L·C·勒鲁克斯 , P·W·P·里姆彭斯 , J·V·奥弗坎普 , C·L·瓦伦丁 , K·范伯克尔 , S·H·范德莫伦 , J·C·G·范德桑登 , H·K·范德舒特 , D·F·弗勒斯 , E·A·R·威斯特豪斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种光刻设备，包括被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统，光刻设备进一步包括用于冷却衬底的冷却设备，其中冷却设备包括位于衬底台上方并且邻近于曝光区域的冷却元件，冷却元件被配置为从衬底去除热量。
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公开(公告)号：CN109196425B
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：CN201780033589.7
申请日：2017-05-05
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： H·H·M·考克斯 , R·C·G·吉杰曾 , P·W·P·里姆彭斯 , B·F·里德斯特拉 , F·范德梅尤伦
Abstract: 本发明涉及工作台系统、光刻装置和用于制造使用工作台系统的器件的方法。在工作台系统(1)中，提供一种定位系统，其包括适于定位载物台(2)的致动器(10)。致动器包括磁体组件(20)和线圈组件(11)。磁体组件包括第一磁体(21)和第二磁体(22)，它们在使用中经受内磁力。磁体组件具有分离的接口(23、24)，用于将每个磁体分别连接至载物台。磁体组件还包括间隔器件(25、26)，其至少在内磁力的方向上将第一和第二磁体彼此保持相对距离。
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