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公开(公告)号：CN112965341B
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202110161152.X
申请日：2016-09-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 金原淳一 , H·巴特勒 , P·C·H·德威特 , E·A·F·范德帕斯奇
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种操作光刻设备的方法，该光刻设备包括：投影系统，配置成提供曝光辐射，用以使在投影系统下方的衬底形成图案；第一平台，配置成支撑第―衬底；第二平台，配置成支撑第二衬底；和第三平台，容纳包括传感器和清洁装置中的至少一个的部件；其中，该方法包括：在开始衬底交换操作之后开始曝光前争夺扫掠操作；其中，在曝光前争夺扫掠操作期间，第三平台移动远离投影系统的下方，而第二平台移动到投影系统的下方；其中，在衬底交换操作期间，从第一平台卸载第一衬底。
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公开(公告)号：CN109804313A
公开(公告)日：2019-05-24
申请号：CN201780060159.4
申请日：2017-08-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·范德梅尤伦 , E·J·阿勒马克 , H·H·M·考克斯 , M·A·W·丘珀斯 , J·德胡戈 , G·C·德维雷斯 , P·C·H·德威特 , S·C·R·德克斯 , R·C·G·吉杰曾 , D·V·P·赫姆舒特 , C·A·霍根达姆 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , A·L·C·勒鲁克斯 , P·W·P·里姆彭斯 , J·V·奥弗坎普 , C·L·瓦伦丁 , K·范伯克尔 , S·H·范德莫伦 , J·C·G·范德桑登 , H·K·范德舒特 , D·F·弗勒斯 , E·A·R·威斯特豪斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种光刻设备，包括被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统，光刻设备进一步包括用于冷却衬底的冷却设备，其中冷却设备包括位于衬底台上方并且邻近于曝光区域的冷却元件，冷却元件被配置为从衬底去除热量。
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公开(公告)号：CN109804313B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN201780060159.4
申请日：2017-08-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·范德梅尤伦 , E·J·阿勒马克 , H·H·M·考克斯 , M·A·W·丘珀斯 , J·德胡戈 , G·C·德维雷斯 , P·C·H·德威特 , S·C·R·德克斯 , R·C·G·吉杰曾 , D·V·P·赫姆舒特 , C·A·霍根达姆 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , A·L·C·勒鲁克斯 , P·W·P·里姆彭斯 , J·V·奥弗坎普 , C·L·瓦伦丁 , K·范伯克尔 , S·H·范德莫伦 , J·C·G·范德桑登 , H·K·范德舒特 , D·F·弗勒斯 , E·A·R·威斯特豪斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种光刻设备，包括被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统，光刻设备进一步包括用于冷却衬底的冷却设备，其中冷却设备包括位于衬底台上方并且邻近于曝光区域的冷却元件，冷却元件被配置为从衬底去除热量。
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公开(公告)号：CN115023662A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202180011364.8
申请日：2021-01-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·C·H·德威特 , R·P·C·范多斯特
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种定位装置，包括：第一定位模块，第一定位模块被布置为支撑和定位第一衬底；第二定位模块，所述第二定位模块被布置为支撑和定位第二衬底；第一定位场，在第一定位场中，两个定位模块能够交替地被定位，以执行第一处理序列；第二定位场，在第二定位场中，两个定位模块能够交替地被定位，以执行第二处理序列，其中，当两个定位模块中的一个定位模块正在执行或正在完成第一处理序列时，另一定位模块已经完成第二处理序列，并且正定位为更靠近两个定位模块中的一个定位模块。
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公开(公告)号：CN109661617B
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN201780053950.2
申请日：2017-07-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种光刻设备包括被被配置为投影图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统。光刻设备进一步包括加热设备，包括被配置为提供在曝光期间照射并加热衬底一部分的额外的辐射束的一个或多个辐射源。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112965341A
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN202110161152.X
申请日：2016-09-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 金原淳一 , H·巴特勒 , P·C·H·德威特 , E·A·F·范德帕斯奇
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种操作光刻设备的方法，该光刻设备包括：投影系统，配置成提供曝光辐射，用以使在投影系统下方的衬底形成图案；第一平台，配置成支撑第―衬底；第二平台，配置成支撑第二衬底；和第三平台，容纳包括传感器和清洁装置中的至少一个的部件；其中，该方法包括：在开始衬底交换操作之后开始曝光前争夺扫掠操作；其中，在曝光前争夺扫掠操作期间，第三平台移动远离投影系统的下方，而第二平台移动到投影系统的下方；其中，在衬底交换操作期间，从第一平台卸载第一衬底。
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公开(公告)号：CN108475025B
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201680079692.0
申请日：2016-09-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 金原淳一 , H·巴特勒 , P·C·H·德威特 , E·A·F·范德帕斯奇
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种操作光刻设备的方法，该光刻设备包括：投影系统，配置成提供曝光辐射，用以使在投影系统下方的衬底形成图案；第一平台，配置成支撑第一衬底；第二平台，配置成支撑第二衬底；和第三平台，容纳包括传感器和清洁装置中的至少一个的部件；其中，该方法包括：在开始衬底交换操作之后开始曝光前争夺扫掠操作；其中，在曝光前争夺扫掠操作期间，第三平台移动远离投影系统的下方，而第二平台移动到投影系统的下方；其中，在衬底交换操作期间，从第一平台卸载第一衬底。
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公开(公告)号：CN109661617A
公开(公告)日：2019-04-19
申请号：CN201780053950.2
申请日：2017-07-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70875 , G03F7/70433 , G03F7/70625 , G03F7/70783
Abstract: 一种光刻设备包括被被配置为投影图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统。光刻设备进一步包括加热设备，包括被配置为提供在曝光期间照射并加热衬底一部分的额外的辐射束的一个或多个辐射源。
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公开(公告)号：CN108475025A
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201680079692.0
申请日：2016-09-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 金原淳一 , H·巴特勒 , P·C·H·德威特 , E·A·F·范德帕斯奇
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种操作光刻设备的方法，该光刻设备包括：投影系统，配置成提供曝光辐射，用以使在投影系统下方的衬底形成图案；第一平台，配置成支撑第一衬底；第二平台，配置成支撑第二衬底；和第三平台，容纳包括传感器和清洁装置中的至少一个的部件；其中，该方法包括：在开始衬底交换操作之后开始曝光前争夺扫掠操作；其中，在曝光前争夺扫掠操作期间，第三平台移动远离投影系统的下方，而第二平台移动到投影系统的下方；其中，在衬底交换操作期间，从第一平台卸载第一衬底。
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公开(公告)号：CN117980829A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202280063988.9
申请日：2022-08-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·C·H·德威特 , 罗纳德·弗朗西斯克斯·赫尔曼·胡格斯 , 约翰内斯·雅各布斯·玛塞尤斯·巴塞尔曼斯
Abstract: 本发明披露一种用于对宽带照射束进行光谱整形以获得经光谱整形的照射束的源选择模块。所述源选择模块包括：束分散元件，所述束分散元件用于分散所述宽带照射束；光栅光阀模块，所述光栅光阀模块用于在所述宽带照射束被分散之后对所述宽带照射束进行空间调制；以及束组合元件，所述束组合元件用于重组经空间调制的宽带照射束以获得输出源束。
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