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公开(公告)号：CN117813558A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202280056334.3
申请日：2022-08-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F9/00
Abstract: 披露了一种用于测量衬底上的位于至少一个层下方的目标的方法。所述方法包括：利用包括至少一种泵浦波长的泵浦辐射激发所述至少一个层，以便在所述至少一个层内产生从所述目标反射的声波，由此在所述衬底的表面处产生所述目标的声学复制品；以及利用包括至少一种探测波长的探测辐射照射所述声学复制品，并且捕获从所述声学复制品散射的得到的经散射的探测辐射。所述激发步骤和所述照射步骤中的一个或两个步骤包括：在所述至少一个层的残余形貌上产生从所述目标得到的表面等离子体激元(SPP)。
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公开(公告)号：CN119452308A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202380048452.4
申请日：2023-07-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·爱德华
IPC: G03F7/20 , G01N21/95 , G01N21/956 , G02F1/35 , H05G2/00
Abstract: 一种用于确定第一辐射的至少一个特性和/或第二辐射的至少一个特性的束量测装置，所述第二辐射是在接收到所述第一辐射的第一部分时经由第一非线性过程被产生的；所述束量测装置包括：量测装置非线性介质，其被配置为接收所述第一辐射的第二部分，并由此经由第二非线性过程产生第三辐射；至少一个检测器，其被配置为测量所述第三辐射的至少一个特性；以及处理单元，其能够操作以基于所述第三辐射的所述至少一个特性确定所述第一辐射的至少一个特性和/或所述第二辐射的至少一个特性。
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公开(公告)号：CN118843835A
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202380026127.8
申请日：2023-02-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , G01N21/25 , G01N21/95 , G01N21/956
Abstract: 披露一种针对由照射源产生的源光谱的效应校正测量的光谱的方法。所述方法包括：根据测量参数获得测量的光谱，在使用来自所述照射源的源辐射而照射周期性结构之后从来自所述周期性结构的被捕获的衍射辐射获得所述测量的光谱，所述周期性结构是光谱仪光栅和被测量的对象；根据所述测量的光谱确定所述源光谱的估计；以及使用所述源光谱的所述估计来校正所述测量的光谱。
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公开(公告)号：CN119301522A
公开(公告)日：2025-01-10
申请号：CN202380044084.6
申请日：2023-05-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 谢特·泰门·范德波斯特 , S·爱德华 , D·欧德威尔 , J·赖宁克
Abstract: 公开了一种表膜隔膜，所述表膜隔膜包括三个或更多个层，所述三个或更多个层包括至少一个内部层和在所述至少一个内部层的任一侧上的至少一个外部层，其中，所述至少一个内部层包括硼、锆、铍、铌、钇、钼和/或碳和/或这些材料中的每种材料的一种或更多种化合物中的一种或更多种，和/或由硼、锆、铍、铌、钇、钼和/或碳和/或这些材料中的每种材料的一种或更多种化合物中的一种或更多种组成。还公开了一种量测设备，所述量测设备使用这种表膜隔膜作为分束器和/或滤波器。
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公开(公告)号：CN110730930A
公开(公告)日：2020-01-24
申请号：CN201880037959.9
申请日：2018-05-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·M·维特 , A·安东琴赛奇 , 张浩 , S·爱德华 , P·C·M·普兰肯 , 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 , S·R·胡伊斯曼 , I·D·塞蒂贾 , D·F·弗莱斯
IPC: G03F9/00
Abstract: 公开了一种用于确定物体中特征的特性的方法，所述特征被设置在所述物体的表面的下方。利用脉冲泵浦辐射束照射所述物体的所述表面以便在所述物体中产生声波。然后，利用测量辐射束照射物体的表面。接收从所述表面散射的所述测量辐射束的至少一部分，以及根据在测量时间段内从所述表面散射的所述测量辐射束的至少一部分确定所述物体中所述特征的特性。所述脉冲泵浦辐射束的时间强度分布被选择成使得所述测量时间段中信背比大于使用所述脉冲泵浦辐射束的单个脉冲实现的信背比。所述信背比是以下两者的比率：(a)由声波的从所述特征的反射在所述表面处生成的信号与(b)由没有从所述特征反射的声波的反射在所述表面处生成的背景信号。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110214261A
公开(公告)日：2019-09-06
申请号：CN201880008551.9
申请日：2018-01-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 光刻设备是一种将所期望的图案施加到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。随着使用数目增加的具体材料沉积到衬底上的层的数目增加，变得越来越难以准确地检测对准标记，这部分地是由于在一个或更多个层中使用的一种或更多种材料对于用于检测对准标记的辐射是完全或部分不透明的。在第一步骤中，用激发辐射照射衬底。在第二步骤中，以适当的方式测量与由埋入的结构散射的反射材料效应相关联的至少一种效应。在一个示例中，该效应可以包括衬底表面的物理移位。在第三步骤中，基于所测量的效应导出所述结构的至少一个特性。
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公开(公告)号：CN119497836A
公开(公告)日：2025-02-21
申请号：CN202380050534.2
申请日：2023-08-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G02F1/35 , G02F1/3528
Abstract: 一种用于在接收到脉冲输入辐射时产生宽带输出辐射的辐射装置，所述辐射装置包括：振荡腔，所述振荡腔包括第一反射表面和第二反射表面；和非线性介质，所述非线性介质位于所述第一反射表面与所述第二反射表面之间；其中，所述振荡腔被构造成接收所述脉冲输入辐射并且使所述脉冲输入辐射在其内振荡，使得所述脉冲输入辐射经历丝化过程，从而导致在所述非线性介质中形成一个或更多个丝状体，并且使得所述脉冲输入辐射经历穿过所述非线性介质的多次通过，使得所述脉冲输入辐射被所述非线性介质在频谱上展宽以形成所述宽带输出辐射。
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公开(公告)号：CN110730930B
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN201880037959.9
申请日：2018-05-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·M·维特 , A·安东琴赛奇 , 张浩 , S·爱德华 , P·C·M·普兰肯 , 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 , S·R·胡伊斯曼 , I·D·塞蒂贾 , D·F·弗莱斯
IPC: G03F9/00
Abstract: 公开了一种用于确定物体中特征的特性的方法，所述特征被设置在所述物体的表面的下方。利用脉冲泵浦辐射束照射所述物体的所述表面以便在所述物体中产生声波。然后，利用测量辐射束照射物体的表面。接收从所述表面散射的所述测量辐射束的至少一部分，以及根据在测量时间段内从所述表面散射的所述测量辐射束的至少一部分确定所述物体中所述特征的特性。所述脉冲泵浦辐射束的时间强度分布被选择成使得所述测量时间段中信背比大于使用所述脉冲泵浦辐射束的单个脉冲实现的信背比。所述信背比是以下两者的比率：(a)由声波的从所述特征的反射在所述表面处生成的信号与(b)由没有从所述特征反射的声波的反射在所述表面处生成的背景信号。
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公开(公告)号：CN117178228A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202280029074.0
申请日：2022-03-31
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G02F1/35
Abstract: 一种组件，包括一空间，所述空间被配置用于放置介质以接收第一辐射，所述第一辐射用于产生第二辐射。在操作中，所述第二辐射在所述介质之后与所述第一辐射同轴地传播。所述组件还包括在所述介质之后用于利用表面区域透射或反射所述第一辐射光学元件。所述组件被配置成使得在操作中清洁气体与所述表面区域接触。反应性介质是通过所述第二辐射从所述清洁气体的至少一部分产生的，以用于从所述表面区域移除污染物。
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公开(公告)号：CN116888513A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202280015634.7
申请日：2022-01-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G02B6/26
Abstract: 一种用于在远场中分离第一辐射与第二辐射的组件和方法，其中，所述第一辐射和所述第二辐射具有非重叠波长。所述组件包括：毛细管结构，其中，所述第一辐射和所述第二辐射沿所述毛细管结构的至少一部分同轴地传播；和光学结构，所述光学结构被配置成通过干涉来控制所述第一辐射在所述毛细管结构外部的空间分布，使得所述第一辐射在所述远场中的强度沿所述第二辐射的光轴减小。
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