公开(公告)号：CN119126476A

公开(公告)日：2024-12-13

申请号：CN202411346675.1

申请日：2019-11-27

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 田边胜 ,  浅川敬司 ,  安森顺一 ,  石原重德 ,  花冈修

IPC: G03F1/26 ,  G03F1/80

Abstract: 本发明提供在通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而形成转印图案时能够缩短过蚀刻时间、可以形成具有良好的截面形状的转印图案的光掩模坯料。所述光掩模坯料在透明基板上具有图案形成用薄膜，其中，光掩模坯料是用于形成光掩模的原版，所述光掩模通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而在透明基板上具有转印图案，图案形成用薄膜含有过渡金属和硅，图案形成用薄膜具有柱状结构。

公开(公告)号：CN119126477A

公开(公告)日：2024-12-13

申请号：CN202411346726.0

申请日：2019-11-27

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 田边胜 ,  浅川敬司 ,  安森顺一 ,  石原重德 ,  花冈修

IPC: G03F1/26 ,  G03F1/80

Abstract: 本发明提供在通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而形成转印图案时能够缩短过蚀刻时间、可以形成具有良好的截面形状的转印图案的光掩模坯料。所述光掩模坯料在透明基板上具有图案形成用薄膜，其中，光掩模坯料是用于形成光掩模的原版，所述光掩模通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而在透明基板上具有转印图案，图案形成用薄膜含有过渡金属和硅，图案形成用薄膜具有柱状结构。

公开(公告)号：CN111258175B

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN201911179769.3

申请日：2019-11-27

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 田边胜 ,  浅川敬司 ,  安森顺一 ,  石原重德 ,  花冈修

IPC: G03F1/26 ,  G03F1/80

Abstract: 本发明提供在通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而形成转印图案时能够缩短过蚀刻时间、可以形成具有良好的截面形状的转印图案的光掩模坯料。所述光掩模坯料在透明基板上具有图案形成用薄膜，其中，光掩模坯料是用于形成光掩模的原版，所述光掩模通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而在透明基板上具有转印图案，图案形成用薄膜含有过渡金属和硅，图案形成用薄膜具有柱状结构。

公开(公告)号：CN111258175A

公开(公告)日：2020-06-09

申请号：CN201911179769.3

申请日：2019-11-27

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 田边胜 ,  浅川敬司 ,  安森顺一 ,  石原重德 ,  花冈修

IPC: G03F1/26 ,  G03F1/80

Abstract: 本发明提供在通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而形成转印图案时能够缩短过蚀刻时间、可以形成具有良好的截面形状的转印图案的光掩模坯料。所述光掩模坯料在透明基板上具有图案形成用薄膜，其中，光掩模坯料是用于形成光掩模的原版，所述光掩模通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而在透明基板上具有转印图案，图案形成用薄膜含有过渡金属和硅，图案形成用薄膜具有柱状结构。