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公开(公告)号:CN1162917C
公开(公告)日:2004-08-18
申请号:CN99110924.4
申请日:1999-06-16
Applicant: NEC化合物半导体器件株式会社
IPC: H01L29/812
CPC classification number: H01L29/812 , H01L27/095 , H01L29/402 , H01L29/7813
Abstract: 在栅电极(5)和漏电极(8)之间的沟道层(2)上的绝缘膜(6)上形成场控制电极(9)。氧化钽(Ta2O5)例如可以用做绝缘膜(6)的材料。