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公开(公告)号:CN101025630A
公开(公告)日:2007-08-29
申请号:CN200710005259.5
申请日:2007-02-12
Applicant: SMC株式会社
IPC: G05D3/12
Abstract: 一种定位控制系统(10),包括用于由受控对象(P)的气缸(12)的位移距离(Y)来估计扰动(D)、并反馈该估计扰动的扰动观测器(46)。该定位控制系统(10)还包括设置在包括有扰动观测器(46)的反馈环中的饱和元件(48)和低通元件(Q),以及用于根据偏差(ε)来改变饱和元件(48)的饱和值(L)的饱和值改变器(50)。饱和元件(48)被设置在正反馈副环(70)的前向路径中,而低通元件(Q)被设置在该正反馈副环(70)的反馈路径中。
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公开(公告)号:CN100527034C
公开(公告)日:2009-08-12
申请号:CN200710005259.5
申请日:2007-02-12
Applicant: SMC株式会社
Abstract: 一种定位控制系统(10),包括用于由受控对象(P)的气缸(12)的位移距离(Y)来估计扰动(D)、并反馈该估计扰动的扰动观测器(46)。该定位控制系统(10)还包括设置在包括有扰动观测器(46)的反馈环中的饱和元件(48)和低通元件(Q),以及用于根据偏差(ε)来改变饱和元件(48)的饱和值(L)的饱和值改变器(50)。饱和元件(48)被设置在正反馈副环(70)的前向路径中,而低通元件(Q)被设置在该正反馈副环(70)的反馈路径中。
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