非接触式运送装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101172540B

    公开(公告)日:2012-04-18

    申请号:CN200710152972.2

    申请日:2007-09-29

    CPC classification number: H01L21/6838 B65G49/061 B65G2249/045

    Abstract: 本发明公开一种非接触式运送装置。具有供给端口(46)的内部构件(14)被安装到壳体(12)的内部,壳体(12)与内部构件(14)通过连接螺栓(16)连接到一起。空气被输送到内部构件(14)的供给端口(46),并经连通通道(50)被引流到环形通道(48)中。而后,空气被从与环形通道(48)连通的多个引出孔(64)沿旋流方向向外引流到面对着工件(W)的环形凹槽(62)中。此外,通过使空气沿环形凹槽(62)流动,可将工件保持在相对于内部构件(14)的支持表面(40)不接触的状态下,其中,环形凹槽的横截面被制成大体上为梯形。

    定位控制系统及滤波器
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101025630A

    公开(公告)日:2007-08-29

    申请号:CN200710005259.5

    申请日:2007-02-12

    CPC classification number: G05B13/04 G05B11/36

    Abstract: 一种定位控制系统(10),包括用于由受控对象(P)的气缸(12)的位移距离(Y)来估计扰动(D)、并反馈该估计扰动的扰动观测器(46)。该定位控制系统(10)还包括设置在包括有扰动观测器(46)的反馈环中的饱和元件(48)和低通元件(Q),以及用于根据偏差(ε)来改变饱和元件(48)的饱和值(L)的饱和值改变器(50)。饱和元件(48)被设置在正反馈副环(70)的前向路径中,而低通元件(Q)被设置在该正反馈副环(70)的反馈路径中。

    定位控制系统及滤波器
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100527034C

    公开(公告)日:2009-08-12

    申请号:CN200710005259.5

    申请日:2007-02-12

    CPC classification number: G05B13/04 G05B11/36

    Abstract: 一种定位控制系统(10),包括用于由受控对象(P)的气缸(12)的位移距离(Y)来估计扰动(D)、并反馈该估计扰动的扰动观测器(46)。该定位控制系统(10)还包括设置在包括有扰动观测器(46)的反馈环中的饱和元件(48)和低通元件(Q),以及用于根据偏差(ε)来改变饱和元件(48)的饱和值(L)的饱和值改变器(50)。饱和元件(48)被设置在正反馈副环(70)的前向路径中,而低通元件(Q)被设置在该正反馈副环(70)的反馈路径中。

    非接触式运送装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101172540A

    公开(公告)日:2008-05-07

    申请号:CN200710152972.2

    申请日:2007-09-29

    CPC classification number: H01L21/6838 B65G49/061 B65G2249/045

    Abstract: 本发明公开一种非接触式运送装置。具有供给端口(46)的内部构件(14)被安装到壳体(12)的内部,壳体(12)与内部构件(14)通过连接螺栓(16)连接到一起。空气被输送到内部构件(14)的供给端口(46),并经连通通道(50)被引流到环形通道(48)中。而后,空气被从与环形通道(48)连通的多个引出孔(64)沿旋流方向向外引流到面对着工件(W)的环形凹槽(62)中。此外,通过使空气沿环形凹槽(62)流动,可将工件保持在相对于内部构件(14)的支持表面(40)不接触的状态下,其中,环形凹槽的横截面被制成大体上为梯形。

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