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公开(公告)号：CN1821587B
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN200610004442.9
申请日：2006-02-14
Applicant: SMC株式会社
IPC: F15B9/09 , F15B11/024 , F15B11/06 , G05D3/00 , G05D3/12
CPC classification number: F15B15/1423 , F15B15/262 , F15B2211/6336 , F15B2211/6656 , F15B2211/7053 , F15B2211/8616
Abstract: 在定位控制用气压缸中，通过极简单的手段，有效地控制在定位目标位置附近等处产生的活塞的微振动。在通过定位控制使活塞(5)停止于目标位置处的气压缸(1)的活塞杆(6)上设有微振动抑制机构(20)。所述微振动抑制机构(20)具有由与活塞杆(6)接触的一对密封件(21a)形成的摩擦件(21)，利用该摩擦件(21)形成向杆(6)的周围供给的压缩空气的空气滞留部(22)，并且，设置向所述空气滞留部(22)给排压缩空气的空气流道(23)，其中，所述压缩空气用于经由所述摩擦件(21)在与活塞杆(6)之间产生抑制微振动的滑动摩擦。
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公开(公告)号：CN101025630A
公开(公告)日：2007-08-29
申请号：CN200710005259.5
申请日：2007-02-12
Applicant: SMC株式会社
IPC: G05D3/12
Abstract: 一种定位控制系统(10)，包括用于由受控对象(P)的气缸(12)的位移距离(Y)来估计扰动(D)、并反馈该估计扰动的扰动观测器(46)。该定位控制系统(10)还包括设置在包括有扰动观测器(46)的反馈环中的饱和元件(48)和低通元件(Q)，以及用于根据偏差(ε)来改变饱和元件(48)的饱和值(L)的饱和值改变器(50)。饱和元件(48)被设置在正反馈副环(70)的前向路径中，而低通元件(Q)被设置在该正反馈副环(70)的反馈路径中。
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公开(公告)号：CN100527034C
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN200710005259.5
申请日：2007-02-12
Applicant: SMC株式会社
Abstract: 一种定位控制系统(10)，包括用于由受控对象(P)的气缸(12)的位移距离(Y)来估计扰动(D)、并反馈该估计扰动的扰动观测器(46)。该定位控制系统(10)还包括设置在包括有扰动观测器(46)的反馈环中的饱和元件(48)和低通元件(Q)，以及用于根据偏差(ε)来改变饱和元件(48)的饱和值(L)的饱和值改变器(50)。饱和元件(48)被设置在正反馈副环(70)的前向路径中，而低通元件(Q)被设置在该正反馈副环(70)的反馈路径中。
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公开(公告)号：CN1821587A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200610004442.9
申请日：2006-02-14
Applicant: SMC株式会社
IPC: F15B9/09 , F15B11/024 , F15B11/06 , G05D3/00 , G05D3/12
CPC classification number: F15B15/1423 , F15B15/262 , F15B2211/6336 , F15B2211/6656 , F15B2211/7053 , F15B2211/8616
Abstract: 在定位控制用气压缸中，通过极简单的手段，有效地控制在定位目标位置附近等处产生的活塞的微振动。在通过定位控制使活塞(5)停止于目标位置处的气压缸(1)的活塞杆(6)上设有微振动抑制机构(20)。所述微振动抑制机构(20)具有由与活塞杆(6)接触的一对密封件(21a)形成的摩擦件(21)，利用该摩擦件(21)形成向杆(6)的周围供给的压缩空气的空气滞留部(22)，并且，设置向所述空气滞留部(22)给排压缩空气的空气流道(23)，其中，所述压缩空气用于经由所述摩擦件(21)在与活塞杆(6)之间产生抑制微振动的滑动摩擦。
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