隧道磁阻效应元件、磁存储器及内置型存储器

    公开(公告)号:CN109937475A

    公开(公告)日:2019-06-25

    申请号:CN201780014410.3

    申请日:2017-10-16

    Abstract: TMR元件具备:设置于通路配线部的上表面上的基底层、设置于基底层的表面上的磁隧道接合部、以及覆盖通路配线部及基底层的侧面的层间绝缘层,基底层具有应力缓和部,磁隧道接合部具有磁化方向被固定的参照层、磁化自由层、以及设置于参照层与磁化自由层之间的隧道势垒层,层间绝缘层包含绝缘材料。

    氧氮化物薄膜及电容元件

    公开(公告)号:CN108695064A

    公开(公告)日:2018-10-23

    申请号:CN201810294183.0

    申请日:2018-03-30

    Abstract: 本发明提供一种介电特性优异的电介质薄膜及电容元件。所述电介质薄膜其特征在于,该电介质薄膜具有由以组成式AaBbOoNn(a+b+o+n=5)表示的氧氮化物构成的主组成,所述A为Sr、Ba、Ca、La、Ce、Pr、Nd、Na的任意一种以上,所述B为Ta、Nb、Ti、W的任意一种以上,构成所述电介质薄膜的晶粒为未向某特定的晶面方向取向的多晶,所述电介质薄膜所包含的晶粒的微晶的尺寸为100nm以下。

    铁磁性多层膜、磁阻效应元件以及制造铁磁性多层膜的方法

    公开(公告)号:CN109196675A

    公开(公告)日:2019-01-11

    申请号:CN201880001991.1

    申请日:2018-02-27

    Abstract: 本发明的铁磁性多层膜具备:第一磁化固定层、第一中间层、第二中间层、磁耦合层以及第二磁化固定层。第一磁化固定层和第二磁化固定层通过经由第一中间层、第二中间层以及磁耦合层的交换耦合而反铁磁性耦合;磁耦合层的主元素为Ru、Rh或Ir,第一中间层的主元素与磁耦合层的主元素相同,第二中间层的主元素与磁耦合层的主元素不同,第一中间层的厚度为第一中间层的主元素的原子半径的1.5倍以上且3.2倍以下,并且第二中间层的厚度为第二中间层的主元素的原子半径的1.5倍以下。

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