一种中红外光学倍频晶体氟代钨碘酸钾材料及制备与应用

    公开(公告)号:CN109338471A

    公开(公告)日:2019-02-15

    申请号:CN201811436074.4

    申请日:2018-11-28

    Applicant: 同济大学

    CPC classification number: C30B29/22 C30B7/10 G02F1/3551 G02F1/37

    Abstract: 本发明涉及一种中红外光学倍频晶体氟代钨碘酸钾材料及其制备与应用,该中红外光学倍频晶体氟代钨碘酸钾材料的化学式为K5(W3O9F4)(IO3),属单斜晶系,其空间群为Pm,晶胞参数为 α=γ=90°,β=101.9~102.8°,Z=1, 与现有技术相比,本发明中红外光学倍频晶体氟代钨碘酸钾材料在1064nm激光辐照下,粉末倍频效应强度约为磷酸二氢钾晶体的11倍;在2.10μm激光辐照下测得粉末倍频效应强度和磷酸钛氧钾相当。在波长1064nm激光下测得其激光损伤阈值为已商业化的红外二阶非线性材料银镓硫的95倍;该晶体材料在可见光和红外区有很宽的透过范围,完全透过波段为0.32~10.5μm,在激光频率转换、光电调制、激光信号全息储存等领域具有广泛的应用前景。

    一种沿[101]晶向生长的金红石结构钽掺杂氧化锡单晶薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN108546993A

    公开(公告)日:2018-09-18

    申请号:CN201810456700.X

    申请日:2018-05-14

    Applicant: 山东大学

    CPC classification number: C30B29/22 C30B25/14 C30B25/18

    Abstract: 本发明涉及一种沿[101]晶向生长的金红石结构钽掺杂氧化锡单晶薄膜及其制备方法。本发明采用有机金属化学气相淀积(MOCVD)技术,以四乙基锡(Sn(C2H5)4)为有机金属Sn源,乙醇钽(Ta(C2H5O)5)为有机金属Ta源,以氧气为氧化物,以氮气为载气,在R面蓝宝石衬底上外延生长钽掺杂氧化锡单晶薄膜。采用R面蓝宝石做衬底可以制备出沿[101]晶向生长的金红石结构的钽掺杂氧化锡薄膜,制备的钽掺杂氧化锡薄膜为单晶薄膜,且迁移率高达58.1cm2V-1s-1,所制备钽掺杂氧化锡单晶薄膜的晶格结构及电学性质均优于氧化锡多晶薄膜,因此是制造透明半导体器件和紫外光电子器件的重要材料。

Patent Agency Ranking