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公开(公告)号：CN105793970B
公开(公告)日：2018-03-09
申请号：CN201480065989.2
申请日：2014-11-05
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G01N21/93 , G01B11/06 , G01B11/0675 , G01B2210/56 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2201/061 , G01N2201/105 , G01N2201/11 , G01N2201/125 , G03F7/705 , G03F7/70616
Abstract: 本发明提供用于确定晶片检验过程的一或多个参数的方法及系统。一种方法包含采集由晶片计量系统产生的针对晶片的计量数据。所述方法还包含基于所述计量数据而确定用于所述晶片或另一晶片的晶片检验过程的一或多个参数。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101424612A
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：CN200810173297.6
申请日：2008-10-31
Applicant: 索尼株式会社
IPC: G01N15/00 , G01N21/00 , G01N33/483
CPC classification number: G01N15/1425 , G01N15/1436 , G01N15/1459 , G01N15/1484 , G01N21/6428 , G01N21/645 , G01N2015/1006 , G01N2015/1497 , G01N2021/058 , G01N2021/6419 , G01N2021/6421 , G01N2201/10 , G01N2201/11
Abstract: 本发明披露了一种能够获得高测量精度的微粒测量方法、用于测量的基板以及测量装置。所述微粒测量方法通过用光扫描样品流体通道而对引入到以预定距离设置在基板上的多个样品流体通道中的微粒进行光学测量。该方法包括：用光顺序照射至少两个或更多个与样品流体通道一起设置的参考区域；检测由参考区域引起的在光中发生的光学特性的变化；以及控制光对样品流体通道的发射时间。
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公开(公告)号：CN105492889B
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201480047682.X
申请日：2014-05-13
Applicant: 韩国标准科学研究院
IPC: G01N21/17
CPC classification number: G01N21/211 , G01J4/00 , G01J4/04 , G01J2004/001 , G01N2021/213 , G01N2201/0683 , G01N2201/11
Abstract: 提供一种光学元件旋转类型的穆勒矩阵椭圆偏振仪，其用于解决由于在根据现有技术的能够测量任何样品的穆勒矩阵的一些或所有元素的双光学元件旋转类型的穆勒矩阵椭圆偏振仪中光源的剩余偏振、光检测器的偏振依赖性、高次项的傅立叶系数的测量值而引起的测量准确性和测量精度的问题。
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公开(公告)号：CN101424612B
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN200810173297.6
申请日：2008-10-31
Applicant: 索尼株式会社
IPC: G01N15/00 , G01N21/00 , G01N33/483
CPC classification number: G01N15/1425 , G01N15/1436 , G01N15/1459 , G01N15/1484 , G01N21/6428 , G01N21/645 , G01N2015/1006 , G01N2015/1497 , G01N2021/058 , G01N2021/6419 , G01N2021/6421 , G01N2201/10 , G01N2201/11
Abstract: 本发明披露了一种能够获得高测量精度的微粒测量方法、用于测量的基板以及测量装置。所述微粒测量方法通过用光扫描样品流体通道而对引入到以预定距离设置在基板上的多个样品流体通道中的微粒进行光学测量。该方法包括：用光顺序照射至少两个或更多个与样品流体通道一起设置的参考区域；检测由参考区域引起的在光中发生的光学特性的变化；以及控制光对样品流体通道的发射时间。
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公开(公告)号：CN105793970A
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201480065989.2
申请日：2014-11-05
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
CPC classification number: G01N21/93 , G01B11/06 , G01B11/0675 , G01B2210/56 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2201/061 , G01N2201/105 , G01N2201/11 , G01N2201/125 , G03F7/705 , G03F7/70616
Abstract: 本发明提供用于确定晶片检验过程的一或多个参数的方法及系统。一种方法包含采集由晶片计量系统产生的针对晶片的计量数据。所述方法还包含基于所述计量数据而确定用于所述晶片或另一晶片的晶片检验过程的一或多个参数。
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公开(公告)号：CN105492889A
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201480047682.X
申请日：2014-05-13
Applicant: 韩国标准科学研究院
IPC: G01N21/17
CPC classification number: G01N21/211 , G01J4/00 , G01J4/04 , G01J2004/001 , G01N2021/213 , G01N2201/0683 , G01N2201/11
Abstract: 提供一种光学元件旋转类型的穆勒矩阵椭圆偏振仪，其用于解决由于在根据现有技术的能够测量任何样品的穆勒矩阵的一些或所有元素的双光学元件旋转类型的穆勒矩阵椭圆偏振仪中光源的剩余偏振、光检测器的偏振依赖性、高次项的傅立叶系数的测量值而引起的测量准确性和测量精度的问题。
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