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公开(公告)号：CN108962708A
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：CN201810661714.5
申请日：2014-11-14
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC: H01J37/02 , H01J37/12 , H01J37/16 , H01J37/30 , H01J37/317
CPC classification number: G21K1/02 , G21K5/04 , H01J37/026 , H01J37/065 , H01J37/12 , H01J37/16 , H01J37/24 , H01J37/3002 , H01J37/3007 , H01J37/3174 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/0216 , H01J2237/024 , H01J2237/032 , H01J2237/04 , H01J2237/1215 , H01J2237/16 , H01J2237/1825 , H01J2237/303 , H01J2237/30472
Abstract: 本发明涉及一种准直器电极，其包括设置有中心电极孔(82)的电极主体(81)，其中所述电极主体限定介于两个相反的主要表面之间的电极高度，并且其中所述电极主体在所述电极主体内部容纳用于传送冷却液体(102)的冷却导管(105)。所述电极主体优选地具有圆盘形状或扁圆环形状。本发明还涉及一种适用于带电粒子束产生器的准直器电极堆叠，其包括：第一准直器电极和第二准直器电极，其各自设置有用于传送所述冷却液体(102)的冷却导管(105)；以及连接导管(110)，其用于所述第一及第二准直器电极的所述冷却导管之间的液体连接。
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公开(公告)号：CN105874560B
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：CN201480071806.8
申请日：2014-11-14
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/065
CPC classification number: G21K1/02 , G21K5/04 , H01J37/026 , H01J37/065 , H01J37/12 , H01J37/16 , H01J37/24 , H01J37/3002 , H01J37/3007 , H01J37/3174 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/0216 , H01J2237/024 , H01J2237/032 , H01J2237/04 , H01J2237/1215 , H01J2237/16 , H01J2237/1825 , H01J2237/303 , H01J2237/30472
Abstract: 本发明涉及一种准直器电极，其包括设置有中心电极孔(82)的电极主体(81)，其中所述电极主体限定介于两个相反的主要表面之间的电极高度，并且其中所述电极主体在所述电极主体内部容纳用于传送冷却液体(102)的冷却导管(105)。所述电极主体优选地具有圆盘形状或扁圆环形状。本发明还涉及一种适用于带电粒子束产生器的准直器电极堆叠，其包括：第一准直器电极和第二准直器电极，其各自设置有用于传送所述冷却液体(102)的冷却导管(105)；以及连接导管(110)，其用于所述第一及第二准直器电极的所述冷却导管之间的液体连接。
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公开(公告)号：CN105874556B
公开(公告)日：2017-12-12
申请号：CN201480071827.X
申请日：2014-11-14
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC: H01J37/065 , H01J37/317 , H01J37/12
CPC classification number: G21K1/02 , G21K5/04 , H01J37/026 , H01J37/065 , H01J37/12 , H01J37/16 , H01J37/24 , H01J37/3002 , H01J37/3007 , H01J37/3174 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/0216 , H01J2237/024 , H01J2237/032 , H01J2237/04 , H01J2237/1215 , H01J2237/16 , H01J2237/1825 , H01J2237/303 , H01J2237/30472
Abstract: 本发明涉及一种电极堆叠(70)，其包括用于操纵沿着光轴(A)的带电粒子束的堆叠的电极(71‑80)。每个电极包括电极主体，该电极主体具有用于所述带电粒子束的孔。电极主体相互间隔开并且电极孔沿着光轴同轴地对准。电极堆叠包括介于每一对相邻的电极之间的电绝缘间隔结构(89)，电绝缘间隔结构(89)用于沿着轴向方向(Z)以预定相互距离来定位电极(71‑80)。第一电极和第二电极各自包括具有一个或多个支撑部分(86)的电极主体，其中每个支撑部分被配置为容纳至少一个间隔结构(89)。电极堆叠具有至少一个夹紧构件(91‑91c)，夹紧构件(91‑91c)被配置为将第一电极和第二电极的支撑部分(86)以及中间间隔结构(89)保持在一起。
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公开(公告)号：CN105874556A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201480071827.X
申请日：2014-11-14
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC: H01J37/065 , H01J37/317 , H01J37/12
CPC classification number: G21K1/02 , G21K5/04 , H01J37/026 , H01J37/065 , H01J37/12 , H01J37/16 , H01J37/24 , H01J37/3002 , H01J37/3007 , H01J37/3174 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/0216 , H01J2237/024 , H01J2237/032 , H01J2237/04 , H01J2237/1215 , H01J2237/16 , H01J2237/1825 , H01J2237/303 , H01J2237/30472
Abstract: 本发明涉及一种电极堆叠(70)，其包括用于操纵沿着光轴(A)的带电粒子束的堆叠的电极(71?80)。每个电极包括电极主体，该电极主体具有用于所述带电粒子束的孔。电极主体相互间隔开并且电极孔沿着光轴同轴地对准。电极堆叠包括介于每一对相邻的电极之间的电绝缘间隔结构(89)，电绝缘间隔结构(89)用于沿着轴向方向(Z)以预定相互距离来定位电极(71?80)。第一电极和第二电极各自包括具有一个或多个支撑部分(86)的电极主体，其中每个支撑部分被配置为容纳至少一个间隔结构(89)。电极堆叠具有至少一个夹紧构件(91?91c)，夹紧构件(91?91c)被配置为将第一电极和第二电极的支撑部分(86)以及中间间隔结构(89)保持在一起。
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公开(公告)号：CN104698771A
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201410756656.6
申请日：2014-12-10
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
Inventor： 余宗欣
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70491 , H01J37/3023 , H01J37/3175 , H01J2237/30405 , H01J2237/31789
Abstract: 讨论了在电子束光刻系统中具有反射镜阵列的数字图案发生器(DPG)的系统和方法。反射镜阵列包括第一反射镜库和第二反射镜库，其中组合逻辑结构插入到第一反射镜库和第二反射镜库之间。输出数据线从第一反射库镜延伸到组合逻辑结构。承载与第二反射镜库相关联的数据的输入数据线也被提供给组合逻辑结构。输出数据线从组合逻辑结构延伸到第二数据库。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1252544C
公开(公告)日：2006-04-19
申请号：CN03148322.4
申请日：2003-06-27
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G03F9/00 , G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027
CPC classification number: H01J37/3175 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J2237/31769
Abstract: 提供电子束曝光的高精度的邻近效应修正方法。对基底层图形(32)进行分类，在单位区域中，分别计算要复制到基底层图形(32)的上层上的描画层图形与基底层图形(32)重叠的重叠描画层图形(33)和不重叠的图形(31)的图形面积密度，进行电子束曝光的邻近效应修正。
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公开(公告)号：CN109637921A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201811293777.6
申请日：2014-11-14
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC: H01J37/02 , H01J37/065 , H01J37/12 , H01J37/16 , H01J37/24 , H01J37/30 , H01J37/317 , G21K1/02 , G21K5/04
CPC classification number: G21K1/02 , G21K5/04 , H01J37/026 , H01J37/065 , H01J37/12 , H01J37/16 , H01J37/24 , H01J37/3002 , H01J37/3007 , H01J37/3174 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/0216 , H01J2237/024 , H01J2237/032 , H01J2237/04 , H01J2237/1215 , H01J2237/16 , H01J2237/1825 , H01J2237/303 , H01J2237/30472
Abstract: 本发明涉及一种适用于带电粒子光刻系统(10)的带电粒子束产生器(50)，该带电粒子束产生器包括：带电粒子源(52)，其用于产生沿着光轴(A)的带电粒子束(54)；准直器电极堆叠(70)，其用于准直该带电粒子束，其中该电极堆叠沿着光轴跨越准直器高度(Hc)；产生器真空腔室(51)，其用于容纳带电粒子源(52)和准直器电极堆叠(70)；以及至少一个真空泵系统(122、123)，其被设置在产生器真空腔室(51)内部离该准直器电极堆叠的外周边(85)一距离(ΔRp)处，其中至少一个真空泵系统跨越与光轴(A)基本上平行地定向的有效泵送表面(122a、123a)，并且其中该有效泵送表面具有跨越准直器高度(Hc)的至少一部分的表面高度(Hp)。
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公开(公告)号：CN104810232B
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201510084685.7
申请日：2010-05-19
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC: H01J37/317 , G03F7/20
CPC classification number: H01J37/3026 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70475 , G06T1/20 , G06T1/60 , H01J37/045 , H01J37/3002 , H01J37/3174 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/3175 , H01J2237/31761 , H01J2237/31764 , H04N1/405
Abstract: 本发明涉及二次扫描，具体提出一种根据图案数据将晶片曝光的带电粒子光刻系统，该系统包括：电子光学柱，用于生成曝光晶片的多个电子小束，所述电子光学柱包括用于将所述小束接通或切断的小束阻断器阵列；将用于控制所述小束的切换的小束控制数据提供给所述小束阻断器阵列的数据路径；和晶片定位系统，用于在所述电子光学柱下方以x‑方向移动晶片，所述晶片定位系统被提供以来自所述数据路径的同步信号，以将所述晶片与来自所述电子光学柱的电子束对准；其中所述数据路径包括用于处理图案数据并生成所述小束控制数据的一个或多个处理单元和用于将所述小束控制数据传送到所述小束阻断器阵列的一条或多条传输信道。
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公开(公告)号：CN1681085A
公开(公告)日：2005-10-12
申请号：CN200510063188.5
申请日：2005-04-05
Applicant: 株式会社东芝
Inventor： 中杉哲郎
IPC: H01L21/027 , G03B7/20 , H01J37/00
CPC classification number: H01J37/3175 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J2237/31762
Abstract: 本发明提供一种电子束描绘系统，它具备：根据决定的处理顺序使用多个孔径掩模对多个批次按顺序描绘的描绘工具；管理所述多个孔径掩模的孔径管理工具；取得所述多个批次的处理请求的请求取得模块；存储分别与所述多个批次有关的处理步骤的处理步骤存储部；处理时间计算模块，其分别计算出根据所述处理步骤、使用分别与所述批次对应的所述孔径掩模来分别处理所述多个批次的处理时间；和根据所述处理时间决定所述多个批次的处理顺序的处理顺序决定模块。
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公开(公告)号：CN1176405C
公开(公告)日：2004-11-17
申请号：CN01104684.8
申请日：2001-02-20
Applicant: 三星电子株式会社 , 弗吉尼亚技术知识资产公司
Inventor： 柳仁暻
IPC: G03F7/20
CPC classification number: B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3175 , H01J2237/31777
Abstract: 提供了一种用带图案的发射器发射光刻的方法和装置。发射光刻的装置中，热电发射器或铁电发射器使用掩模构图然后再加热的加热时，发射器上被掩模盖住的地方不发射电子，未被掩模盖住的暴露部分发射电子，从而发射器图案的形状被投射到衬底上。为防止被发射电子束的散开，需要平行电子束，用磁铁、直流磁场发生器或是偏转系统来控制该电子束，从而把所需图案精确地1∶1或是X∶1投射刻蚀到衬底上。
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