一种连续化无溶剂制备苯并噁嗪的方法

    公开(公告)号:CN119219569A

    公开(公告)日:2024-12-31

    申请号:CN202411338843.2

    申请日:2024-09-25

    Inventor: 周长路 林森涛

    Abstract: 本发明公开了一种连续化无溶剂制备苯并噁嗪的方法,属于化工合成技术领域。本发明的连续化无溶剂制备苯并噁嗪的方法,包括以下步骤:将甲醛溶液、酚类化合物、胺类化合物通过进样泵进料,用微混合器混合,通入微反应器中反应,冷却器冷却,然后经背压阀出液,萃取分离,获得苯并噁嗪产物。本发明提供了一种无需外场辅助和有机溶剂的通过微通道反应器连续制备苯并噁嗪的方法,解决了现有的连续化制备技术需要大量溶剂参与反应、环境污染大、产品质量差等技术问题,装置可连续化生产,有利于工业应用。

    一种低介电二胺型苯并噁嗪、苯并噁嗪树脂及制备方法

    公开(公告)号:CN115340505B

    公开(公告)日:2023-12-01

    申请号:CN202210890510.5

    申请日:2022-07-27

    Abstract: 本发明提供了一种低介电二胺型苯并噁嗪、苯并噁嗪树脂及制备方法,涉及树脂材料技术领域。本发明提供了下式所示的低介电二胺型苯并噁嗪,其中,R选自H,取代或未取代的烷基、环烷基、芳基、杂环基烷基中的任意一种;苯并噁嗪由4,4‑二氨基三苯基甲烷、酚类化合物和醛类化合物经溶剂法聚合制得,苯并噁嗪树脂由苯并噁嗪经开环聚合得到,解决了苯并噁嗪、苯并噁嗪树脂制备过程复杂、得率低,固化温度高等问题。本发明的低介电二胺型苯并噁嗪、苯并噁嗪树脂具有较低的介电常数、介电损耗,制备工艺简单,可以广泛应用于电子封装材料、高性能树脂及高性能复合材料等领域。

    一种吲哚化合物或苯并恶嗪化合物的制备方法

    公开(公告)号:CN115246786B

    公开(公告)日:2023-10-03

    申请号:CN202111473477.8

    申请日:2021-11-30

    Inventor: 应俊 吴小锋 王祁

    Abstract: 本发明公开了一种吲哚化合物或苯并恶嗪的制备方法,包括如下步骤:将醋酸钯、双(2‑二苯基磷苯基)醚、1,3,5‑均三甲酸苯酚酯、N,N‑二异丙基乙胺、2‑苯基乙炔基胺以及苄氯加入到有机溶剂中,于70~90℃进行反应24~48小时,之后加入醋酸钯和氯化铝(或醋酸),于50~100℃进行反应0.5~10小时,反应完全后,后处理得到所述的吲哚化合物或苯并恶嗪化合物。该制备方法操作简单,起始原料廉价易得,反应效率高,底物兼容性好,还可以通过改变添加剂选择性合成出吲哚和苯并恶嗪化合物,便于操作的同时拓宽了此方法的实用性。

    一种抗蚀剂下层膜单体和组合物及图案形成方法

    公开(公告)号:CN110105301B

    公开(公告)日:2023-06-27

    申请号:CN201910387042.8

    申请日:2019-05-10

    Inventor: 王静 肖楠

    Abstract: 本发明属于光刻领域,具体涉及一种抗蚀剂下层膜单体和组合物及图案形成方法。所述抗蚀剂下层膜组合物含有式(1)所示的单体、式(2)和/或式(3)所示的聚合物、以及溶剂,其中,Ar1、Ar2、Ar3和Ar4各自独立地表示经取代或未经取代的碳原子数为6‑100的芳基;式(1)中,X表示碳原子为1‑6的亚烷基,R1表示碳原子数为1‑6的烷基或碳原子数为6‑16的芳基,m为1‑4的整数;式(2)和式(3)中,R2表示氢原子或碳原子数为6‑16的芳基,p和q各自独立为1‑200的整数。本发明提供的抗蚀剂下层膜组合物兼具有优异的耐刻蚀性能、耐热性、溶剂溶解性、间隙填充特征和平坦化特征。

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