公开(公告)号：US06817213B2

公开(公告)日：2004-11-16

申请号：US09982015

申请日：2001-10-19

Applicant: Yoshinori Ishida

Inventor： Yoshinori Ishida

IPC: C03B37018

CPC classification number: C03C25/607 ,  C03B37/0124 ,  C03B37/01413 ,  C03B37/01446 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/22 ,  C03B2201/31 ,  C03B2203/22 ,  C03C25/64

Abstract: Methods of fabricating an optical fiber preform and a method of fabricating an optical fiber of the invention realize the fabrication of an optical fiber having desirable transmission characteristics in the entire wavelength rage of about 1.3 to 1.6 &mgr;m. The fabrication method comprises a porous core rod producing step of depositing a first cladding (3) having an outer diameter D so as to surround a core (2) having an outer diameter d to produce a porous core rod (1) of D/d≧4.0 by VAD. Then, the porous core rod (1) is dehydrated to reduce the OH group concentration to 0.8 ppb or less by weight ratio. The porous core rod (1) is formed to be transparent for a vitrified core rod (4) and is heated and stretched. Thereafter, a second cladding is obtained by depositing a second porous cladding (5) around the vitrified core rod (4) by VAD to be dehydrated, transparent and vitrified. The optical fiber preform thus fabricated is drawn to form into an optical fiber and is then allowed to stand in a deuterium gas atmosphere for a predetermined period.

Abstract translation: 制造光纤预制棒的方法和本发明的制造光纤的方法实现了在整个波长范围内具有理想的传输特性的光纤的制造，其大约为1.3到1.6μm。 该制造方法包括多孔芯棒制造步骤，沉积具有外径D的第一包层（3）以包围具有外径d的芯（2）以产生D / d的多孔芯棒（1） > = VAD。 然后，将多孔芯棒（1）脱水，将OH基浓度按重量比降低至0.8ppb以下。 多孔芯棒（1）形成为对于玻璃化芯棒（4）是透明的，并被加热和拉伸。 此后，通过VAD将玻璃化芯棒（4）周围沉积第二多孔包层（5）以进行脱水，透明和玻璃化，获得第二包层。 将如此制造的光纤预制件拉制成光纤，然后在氘气气氛中放置预定时间。

公开(公告)号：US06807823B2

公开(公告)日：2004-10-26

申请号：US10298924

申请日：2002-11-19

Applicant: Yuichi Ohga ,  Tadashi Enomoto

Inventor： Yuichi Ohga ,  Tadashi Enomoto

IPC: C03C306

CPC classification number: C03C23/0025 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/70 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/54

Abstract: A process for producing fluorine-containing glass. An SiO2 soot is synthesized by hydrolyzing SiCl4. The soot is heated in a chlorine-compound-free atmosphere containing a fluorine compound gas to form a fluorine-containing silica glass. The glass contains not more than 10 ppm OH group, not more than 10 ppm Cl, and not less than 1,000 ppm F. The concentration ratio of F/Cl is 10,000 or more.

Abstract translation: 含氟玻璃的制造方法。 通过水解SiCl4合成SiO 2烟炱。 烟灰在含氟化合物气体的无氯化合物的气氛中加热，形成含氟二氧化硅玻璃。 该玻璃含有不超过10ppm的OH基团，不超过10ppm的Cl，且不小于1,000ppm F.F / Cl的浓度比为10,000以上。

公开(公告)号：US20040206127A1

公开(公告)日：2004-10-21

申请号：US10840877

申请日：2004-05-06

Inventor： Calvin T. Coffey ,  Mark E. L'Antigua ,  Clinton D. Osterhout ,  Amy L. Rovelstad ,  Kashyap H. Shah

IPC: C03B037/075 ,  C03B037/018

CPC classification number: C03B19/106 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B37/01413 ,  C03B37/0142 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/075 ,  C03B2207/85

Abstract: The present invention relates to a method of making a soot particle and apparatus for making such soot particle. Preferably the method of making the soot particle is substantially free of the step of combusting a fuel and substantially free of the step of forming a plasma. Preferably, the apparatus is devoid of a heating element associated with both combustion and formation of a plasma. A preferred technique for at least one heating step for forming the doped soot particle is induction heating.

Abstract translation: 本发明涉及制备烟灰颗粒的方法和制造这种烟灰颗粒的装置。 优选地，制造烟灰颗粒的方法基本上没有燃烧燃料的步骤，并且基本上没有形成等离子体的步骤。 优选地，该装置没有与燃烧和等离子体的形成相关联的加热元件。 用于形成掺杂烟灰颗粒的至少一个加热步骤的优选技术是感应加热。

公开(公告)号：US20040200240A1

公开(公告)日：2004-10-14

申请号：US10819176

申请日：2004-04-07

Applicant: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

Inventor： Jun Abe ,  Nobuyasu Mantoku

IPC: C03B037/075

CPC classification number: C03B37/01446 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2203/22 ,  C03C3/06 ,  C03C13/046 ,  C03C2201/12 ,  C03C2203/22

Abstract: A method for manufacturing a fluorine-doped quartz glass article by sintering a porous glass preform moving in a heat zone in an atmosphere of a fluorine gas is disclosed, wherein a fluorine gas process is performed by setting a moving speed of the porous glass preform in the heat zone heated at 1000null C. or more in order that L/V is 40 minutes or more, where L is the length (mm) of a heater, and V is the moving speed (mm/min). The temperature of the heat zone may be vitrification temperature. The fluorine gas process may be performed in the heat zone which is at 1000null C. or more not to perform a vitrification process, and then the vitrification process maybe performed by increasing the temperature of the heat zone.

Abstract translation: 公开了一种通过烧结在氟气氛中的加热区中移动的多孔玻璃预制件来制造氟掺杂石英玻璃制品的方法，其中通过将多孔玻璃预制件的移动速度设定为 加热区域为1000℃以上，以使L / V为40分钟以上，其中L为加热器的长度（mm），V为移动速度（mm / min）。 加热区的温度可以是玻璃化温度。 氟气处理可以在1000℃以上的加热区域进行，不进行玻璃化处理，然后可以通过提高加热区域的温度来进行玻璃化处理。

公开(公告)号：US06783898B2

公开(公告)日：2004-08-31

申请号：US09876194

申请日：2001-06-06

Applicant: George Edward Berkey ,  Lisa Anne Moore ,  Charles Chunzhe Yu

Inventor： George Edward Berkey ,  Lisa Anne Moore ,  Charles Chunzhe Yu

IPC: G03F900

CPC classification number: C03B23/07 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B19/1492 ,  C03B23/043 ,  C03B23/045 ,  C03B23/051 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/02 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/52 ,  C03B2207/54 ,  C03B2207/66 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/50 ,  G03F1/60

Abstract: The invention includes methods of making lithography photomask blanks. The invention also includes lithography photomask blanks and preforms for producing lithography photomask. The method of making a lithography photomask blank includes providing a soot deposition surface, producing SiO2 soot particles and projecting the SiO2 soot particles toward the soot deposition surface. The method includes successively depositing layers of the SiO2 soot particle on the deposition surface to form a coherent SiO2 porous glass preform body comprised of successive layers of the SiO2 soot particles and dehydrating the coherent SiO2 glass preform body to remove OH from the preform body. The SiO2 is exposed to and reacted with a fluorine containing compound and consolidated into a nonporous silicon oxyfluoride glass body with parallel layers of striae. The method further includes forming the consolidated silicon oxyfluoride glass body into a photomask blank having a planar surface with the orientation of the striae layer parallel to the photomask blank planar surface.

Abstract translation: 本发明包括制造光刻光掩模坯料的方法。 本发明还包括光刻光掩模坯料和用于生产光刻光掩模的预成型件。 制造光刻光掩模坯料的方法包括提供烟灰沉积表面，产生SiO 2烟灰颗粒并将SiO 2烟灰颗粒投射到烟灰沉积表面。 该方法包括在沉积表面上依次沉积SiO 2烟灰颗粒的层，以形成由SiO 2烟灰颗粒的连续层组成的粘结SiO 2多孔玻璃预制体，并使相干的SiO 2玻璃预制体脱水以从预成型体中去除OH。 将SiO 2暴露于含氟化合物并与其反应，并固化成具有平行的条纹层的无孔氟氧化硅玻璃体。 该方法还包括将固化的氟氧化硅玻璃体形成为具有平坦表面的光掩模坯料，其中条纹层的取向平行于光掩模坯料平面。

公开(公告)号：US20040161216A1

公开(公告)日：2004-08-19

申请号：US10773636

申请日：2004-02-06

Inventor： George E. Berkey ,  Dana C. Bookbinder ,  Richard M. Fiacco ,  Dale R. Powers

IPC: G02B006/16

CPC classification number: C03C25/607 ,  C03B37/01446 ,  C03B37/0146 ,  C03B37/01486 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/22 ,  C03B2201/31 ,  C03C3/06 ,  C03C13/045 ,  C03C13/047 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/22 ,  C03C2203/54 ,  G02B6/02

Abstract: Optical waveguide fiber having low water peak as well as optical waveguide fiber preforms and methods of making optical waveguide fiber preforms from which low water peak and/or low hydrogen aged attenuation optical waveguide fibers are formed, including optical waveguide fiber and preforms made via OVD. The fibers may be hydrogen resistant, i.e. exhibit low hydrogen aged attenuation. A low water peak, hydrogen resistant optical waveguide fiber is disclosed which exhibits an optical attenuation at a wavelength of about 1383 nm which is less than or equal to an optical attenuation exhibited at a wavelength of about 1310 nm.

Abstract translation: 具有低水峰的光波导纤维以及光波导纤维预制件以及制造出低水峰值和/或低氢老化衰减光波导纤维的光波导纤维预制棒的方法，包括通过OVD制造的光波导纤维和预制棒。 纤维可以是耐氢性的，即表现出低氢老化衰减。 公开了一种低水峰，耐氢光波导纤维，其在约1383nm的波长处表现出光衰减，其小于或等于在约1310nm的波长处显示的光衰减。

公开(公告)号：US20040118155A1

公开(公告)日：2004-06-24

申请号：US10326200

申请日：2002-12-20

Inventor： John T. Brown ,  Stephen C. Currie ,  Susan L. Schiefelbein ,  Michael H. Wasilewski ,  HuaiLiang Wei

IPC: C03B032/00

CPC classification number: C03B19/09 ,  C03B19/01 ,  C03B19/102 ,  C03B19/1095 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2203/54

Abstract: The present invention is directed to a method of making an ultra dry high purity, Cl-free, F doped fused silica glass. Silica powder or soot preforms are used to form a glass under conditions to provide a desired level of F doping while reducing the Cl and nullOH concentrations to trace levels. The method includes providing a glass precursor in the from of a silica powder or soot preform. The powder is heated in a furnace. The powder is exposed to a F-species at a predetermined temperature and time sufficient to melt the powder and form a high purity fused silica glass in the bottom of said furnace.

Abstract translation: 本发明涉及一种制备超干高纯度无Cl掺杂熔融石英玻璃的方法。 使用二氧化硅粉末或烟灰预制件在条件下形成玻璃以提供期望的F掺杂水平，同时将Cl和OH浓度降低至痕量水平。 该方法包括从二氧化硅粉末或烟炱预制件中提供玻璃前体。 粉末在炉中加热。 粉末在预定温度和时间下暴露于F-物质，足以熔化粉末并在所述炉底部形成高纯度熔融石英玻璃。

公开(公告)号：US20040028364A1

公开(公告)日：2004-02-12

申请号：US10357492

申请日：2003-02-04

Inventor： Hideya Moridaira ,  Mitsuhiro Kawasaki ,  Tamotsu Kamiya

IPC: G02B006/22 ,  C03B037/018

CPC classification number: G02B6/03666 ,  C03B37/01211 ,  C03B37/01413 ,  C03B37/0142 ,  C03B37/01446 ,  C03B37/0148 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/31 ,  C03B2203/36 ,  C03B2207/50 ,  G02B6/02271 ,  G02B6/0286 ,  G02B6/03627 ,  G02B6/03644

Abstract: The optical fiber which enables the optical fiber transmission stabilized in the wavelength range of the pump light also, which is not used conventionally, and suppresses the non-linear effect on the occasion of WDM transmission is offered. The optical fiber for WDM transmission has at least three or more layers wherein the first core doped with germanium is located at the center and surrounded by the second core having a refractive index lower than the first core, and cladding having a refractive index lower than the first core and higher than second core surrounds the second or last core layer. The single mode optical fiber for WDM transmission has the following characteristics: cut off wavelength of 1400 nm or less, chromatic dispersion of 5-13 ps/nm/km at 1500 nm, zero dispersion wavelength of 1400 nm or less and transmission loss of 0-5 dB/km or less in the wavelength range from cut off wavelength to 1600 nm

Abstract translation: 提供了使光纤传输在泵浦光的波长范围内稳定的光纤，也是传统上不采用的光纤，并且抑制了WDM传输时的非线性效应。 用于WDM传输的光纤具有至少三层或更多层，其中掺杂有锗的第一芯位于中心并且被第二芯围绕，折射率低于第一芯，并且折射率低于第一芯的包层 第一核心和高于第二核心的第二核心层包围第二或最后核心层。 用于WDM传输的单模光纤具有以下特征：切断波长为1400nm以下，在1500nm下色散为5-13ps / nm / km，零色散波长为1400nm以下，透射损失为0 在从截止波长到1600nm的波长范围内为-5dB / km或更小

公开(公告)号：US06689516B2

公开(公告)日：2004-02-10

申请号：US09935990

申请日：2001-08-23

Applicant: George Edward Berkey ,  Lisa Anne Moore ,  Michelle Diane Pierson

Inventor： George Edward Berkey ,  Lisa Anne Moore ,  Michelle Diane Pierson

IPC: G03P900

CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1469 ,  C03B23/043 ,  C03B23/045 ,  C03B23/051 ,  C03B23/07 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2203/50 ,  G03F1/60

Abstract: The present invention is a method of making a lithography photomask and photomask blank. The method of making the lithography photomask and photomask blank includes providing a silicon oxyfluoride glass tube having an OH content less than 50 ppm. The method further includes cutting the silicon oxyfluoride glass tube, flattening the silicon oxyfluoride glass tube, and forming the flattened cut silicon oxyfluoride glass tube into a photomask blank having a planar surface. The present invention includes a glass lithography mask preform. The glass lithography mask preform is a longitudinal silicon oxyfluoride glass tube that has an OH content ≦10 ppm, a F wt. % concentration ≧0.5 wt. %.

Abstract translation: 本发明是制造光刻光掩模和光掩模坯料的方法。 制造光刻光掩模和光掩模坯料的方法包括提供OH含量低于50ppm的氟氧化硅玻璃管。 该方法还包括切割氟氧化硅玻璃管，使氟氧化硅玻璃管扁平化，并将扁平切割的氟氧化硅玻璃管形成具有平坦表面的光掩模坯料。 本发明包括玻璃光刻掩模预制件。 玻璃光刻掩模预制件是具有OH含量<= 10ppm的纵向硅氧氟化物玻璃管，F wt。 ％浓度> = 0.5wt。 ％。

公开(公告)号：US06682859B2

公开(公告)日：2004-01-27

申请号：US09997785

申请日：2001-11-28

Applicant: Lisa A. Moore ,  Charlene M. Smith

Inventor： Lisa A. Moore ,  Charlene M. Smith

IPC: G03F900

CPC classification number: G03F7/70216 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/38 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/54 ,  G03F1/60 ,  G03F7/70958

Abstract: High purity silicon oxyfluoride glass suitable for use as a photomask substrates for photolithography applications in the VUV wavelength region below 190 nm is disclosed with the silicon oxyfluoride glass having a preferred fluorine content

Abstract translation: 公开了具有优选氟含量<0.5重量％的氟氧化硅玻璃，适合用作光刻应用中的低于190nm的VUV波长区域的光掩模基板的高纯度氟氧化硅玻璃。 本发明的氟氧化硅玻璃在157nm波长下是透射的，使其特别适用于157nm波长区域的光掩模衬底。 本发明的光掩模基材是“真空”的氟氧化硅玻璃，其在真空紫外（VUV）波长区域中表现出非常高的透射率，同时保持通常与高纯度熔融石英相关的优异的热和物理性能。 除了含氟并且具有很少或不具有OH含量之外，本发明的适合用作157nm的光掩模衬底的氟氧化硅玻璃的特征还在于具有小于1×10 17分子/ cm 3的分子氢和低 氯水平。