公开(公告)号：CN111936831A

公开(公告)日：2020-11-13

申请号：CN201980023882.4

申请日：2019-03-29

Applicant: 斯维尔系统

Inventor： M·梅德哈特 ,  B·莫塔达 ,  Y·M·萨布里 ,  M·胡萨姆 ,  M·安瓦尔 ,  A·什布尔 ,  H·哈德达拉 ,  B·A·萨达尼

IPC: G01J3/02 ,  G01J3/10 ,  G01J3/45 ,  G01J3/26 ,  G01J3/453 ,  G01B9/02 ,  G02B26/08 ,  G02B17/02

Abstract: 本公开的各方面涉及一种自参考光谱仪，其用于提供对背景或参考光谱密度以及样品或其他光谱密度的同时测量。自参考光谱仪包括干涉仪，该干涉仪被光耦合以接收输入光束，并且沿第一光路引导输入光束以产生第一干涉光束，并且沿第二光路引导输入光束以产生第二干涉光束，其中每个干涉光束是在干涉仪的输出之前被产生的。光谱仪还包括检测器，其被光耦合以同时检测从第一干涉光束产生的第一干涉信号和从第二干涉光束产生的第二干涉信号，以及处理器，其被配置为处理第一干涉信号和第二干涉信号，并且在处理第一干涉信号时将第二干涉信号用作参考信号。

公开(公告)号：CN105103030A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201480013316.2

申请日：2014-01-28

Applicant: 斯维尔系统

Inventor： M·梅德哈特 ,  B·莫塔达 ,  A·O·埃尔沙特 ,  M·纳吉 ,  M·加德西夫 ,  B·A·萨达尼 ,  A·N·哈菲兹

IPC: G02B26/06 ,  G01J3/06 ,  G01J3/453 ,  G01B9/02

CPC classification number: G01J3/06 ,  G01B9/02071 ,  G01J3/4535 ,  G01N2021/3595 ,  G02B26/06 ,  G02B26/0841

Abstract: 一种微机电系统(MEMS)干涉仪提供了可移动反射镜的反射镜定位的自校准。可移动反射镜被耦合至具有可变电容的MEMS致动器。MEMS干涉仪包括用于确定在可移动反射镜的两个或更多个已知位置处的MEMS致动器的电容的电容感测电路和用于使用在已知位置处的致动器电容来补偿电容感测电路中的任何漂移的校准模块。

公开(公告)号：CN114008440A

公开(公告)日：2022-02-01

申请号：CN202080019046.1

申请日：2020-03-04

Applicant: 斯维尔系统

Inventor： Y·M·萨布里 ,  M·萨克 ,  B·A·萨达尼 ,  M·安瓦尔 ,  M·H·埃尔·哈龙

IPC: G01N21/03

Abstract: 本公开的方面涉及多通道气室，该多通道气室包括一组两个或更多个反射器、输入准直光学部件和输出聚焦光学部件。输入和输出光学部件与两个或更多个反射器中的至少一个集成。例如，输入和输出光学部件可以集成在单个反射器的相对端上，或者可以集成在单个反射器的同一端上。输入和输出光学部件还可以与不同的反射器集成。在一些示例中，该组反射器和光学部件可以被制造在同一基板内。

公开(公告)号：CN107250858B

公开(公告)日：2020-06-16

申请号：CN201680011152.9

申请日：2016-02-19

Applicant: 斯维尔系统

Inventor： B·A·萨达尼 ,  Y·M·萨布里 ,  M·梅德哈特 ,  B·莫塔达 ,  M·纳吉 ,  M·萨德克 ,  Y·纳达 ,  K·哈桑

IPC: G02B6/136 ,  G02B6/36 ,  G01B9/02 ,  B81C1/00

Abstract: 一种微型光学台器件通过以下工艺来制造，所述工艺提供对所述微型光学台器件的一种或者多种特性和/或所述微型光学台器件中的光学表面的一种或者多种特性的控制。所述工艺包括：蚀刻衬底以形成临时性结构和包括光学元件的永久性结构。所述临时性结构的形状和在所述临时性结构与永久性结构之间的间隙有助于控制所述微型光学台和/或所述微型光学台中的光学表面的特性。所述工艺进一步包括从所述微型光学台器件的光路去除所述临时性结构。

公开(公告)号：CN114008440B

公开(公告)日：2024-02-02

申请号：CN202080019046.1

申请日：2020-03-04

Applicant: 斯维尔系统

Inventor： Y·M·萨布里 ,  M·萨克 ,  B·A·萨达尼 ,  M·安瓦尔 ,  M·H·埃尔·哈龙

IPC: G01N21/03

Abstract: 本公开的方面涉及多通道气室，该多通道气室包括一组两个或更多个反射器、输入准直光学部件和输出聚焦光学部件。输入和输出光学部件与两个或更多个反射器中的至少一个集成。例如，输入和输出光学部件可以集成在单个反射器的相对端上，或者可以集成在单个反射器的同一端上。输入和输出光学部件还可以与不同的反射器集成。在一些示例中，该组反射器和光学部件可以被制造在同一基板内。

公开(公告)号：CN108474690A

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201680074302.0

申请日：2016-04-18

Applicant: 斯维尔系统

Inventor： M·安瓦尔 ,  M·梅德哈特 ,  B·莫塔达 ,  A·O·埃尔沙特 ,  M·加德西夫 ,  M·纳吉 ,  B·A·萨达尼 ,  A·N·哈菲兹

IPC: G01J3/06 ,  G01B9/02 ,  G01J3/453

Abstract: 微机电系统(MEMS)装置提供干涉仪的可移动反射镜的反射镜定位的自校准。MEMS装置中的至少一个反射镜包括非平面表面。可移动反射镜被耦合到具有可变电容的MEMS致动器。MEMS装置包括电容感测电路，用于确定在可移动反射镜的多个参考位置处的所述MEMS致动器的电容，所述多个参考位置对应于由干涉仪基于所述非平坦表面产生的干涉图的中心突发和一个或多个次级突发。校准模块使用在参考位置处的致动器电容来补偿电容感测电路中的任何漂移。

公开(公告)号：CN107250033A

公开(公告)日：2017-10-13

申请号：CN201680011162.2

申请日：2016-02-19

Applicant: 斯维尔系统

Inventor： M·梅德哈特 ,  B·莫塔达 ,  Y·萨布里 ,  S·纳泽尔 ,  Y·纳达 ,  M·萨德克 ,  B·A·萨达尼

IPC: B81C1/00

Abstract: 具有两个或更多个层级的开口的荫罩实现了微光学工作台设备内的微加工结构的选择性阶梯覆盖。荫罩包括在荫罩的顶面内的第一开口和在荫罩的底面内的第二开口。第二开口与第一开口对准并且具有小于第一开口的第一宽度的第二宽度。第一开口与第二开口之间的交叠部在荫罩内形成孔，通过该孔可以发生微光学工作台设备内的微加工结构的选择性涂覆。

公开(公告)号：CN111936831B

公开(公告)日：2023-11-10

申请号：CN201980023882.4

申请日：2019-03-29

Applicant: 斯维尔系统

Inventor： M·梅德哈特 ,  B·莫塔达 ,  Y·M·萨布里 ,  M·胡萨姆 ,  M·安瓦尔 ,  A·什布尔 ,  H·哈德达拉 ,  B·A·萨达尼

IPC: G01J3/02 ,  G01J3/10 ,  G01J3/45 ,  G01J3/26 ,  G01J3/453 ,  G01B9/02015 ,  G02B26/08 ,  G02B17/02

Abstract: 本公开的各方面涉及一种自参考光谱仪，其用于提供对背景或参考光谱密度以及样品或其他光谱密度的同时测量。自参考光谱仪包括干涉仪，该干涉仪被光耦合以接收输入光束，并且沿第一光路引导输入光束以产生第一干涉光束，并且沿第二光路引导输入光束以产生第二干涉光束，其中每个干涉光束是在干涉仪的输出之前被产生的。光谱仪还包括检测器，其被光耦合以同时检测从第一干涉光束产生的第一干涉信号和从第二干涉光束产生的第二干涉信号，以及处理器，其被配置为处理第一干涉信号和第二干涉信号，并且在处理第一干涉信号时将第二干涉信号用作参考信号。

公开(公告)号：CN105103030B

公开(公告)日：2018-07-06

申请号：CN201480013316.2

申请日：2014-01-28

Applicant: 斯维尔系统

Inventor： M·梅德哈特 ,  B·莫塔达 ,  A·O·埃尔沙特 ,  M·纳吉 ,  M·加德西夫 ,  B·A·萨达尼 ,  A·N·哈菲兹

IPC: G02B26/06 ,  G01J3/06 ,  G01J3/453 ,  G01B9/02

CPC classification number: G01J3/06 ,  G01B9/02071 ,  G01J3/4535 ,  G01N2021/3595 ,  G02B26/06 ,  G02B26/0841

Abstract: 一种微机电系统(MEMS)干涉仪提供了可移动反射镜的反射镜定位的自校准。可移动反射镜被耦合至具有可变电容的MEMS致动器。MEMS干涉仪包括用于确定在可移动反射镜的两个或更多个已知位置处的MEMS致动器的电容的电容感测电路和用于使用在已知位置处的致动器电容来补偿电容感测电路中的任何漂移的校准模块。

公开(公告)号：CN107250858A

公开(公告)日：2017-10-13

申请号：CN201680011152.9

申请日：2016-02-19

Applicant: 斯维尔系统

Inventor： B·A·萨达尼 ,  Y·M·萨布里 ,  M·梅德哈特 ,  B·莫塔达 ,  M·纳吉 ,  M·萨德克 ,  Y·纳达 ,  K·哈桑

IPC: G02B6/136 ,  G02B6/36 ,  G01B9/02 ,  B81C1/00

Abstract: 一种微型光学台器件通过以下工艺来制造，所述工艺提供对所述微型光学台器件的一种或者多种特性和/或所述微型光学台器件中的光学表面的一种或者多种特性的控制。所述工艺包括：蚀刻衬底以形成临时性结构和包括光学元件的永久性结构。所述临时性结构的形状和在所述临时性结构与永久性结构之间的间隙有助于控制所述微型光学台和/或所述微型光学台中的光学表面的特性。所述工艺进一步包括从所述微型光学台器件的光路去除所述临时性结构。