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公开(公告)号：KR102172305B1
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：KR1020187031146
申请日：2017-03-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 바셋데렉 , 프린츠월리스피. , 로톤다로안토니오엘.피. , 미나미데루오미 , 후루카와다카히로
IPC: H01L21/306 , H01L21/3213 , H01L21/67 , H01L21/02
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公开(公告)号：KR101191549B1
公开(公告)日：2012-10-15
申请号：KR1020070024996
申请日：2007-03-14
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: B08B3/12 , B01F15/00207 , B01F15/0022 , B01F15/0429 , B08B3/00 , C11D11/0047 , H01L21/67057
Abstract: 본 발명은, 피처리 기판의 전면으로부터 파티클을 높은 제거 효율로 제거할 수 있는 기판 세정 방법을 제공한다. 본 발명에 의한 기판 세정 방법에 있어서, 피처리 기판(W)은 세정조(12)에 저류된 세정액 속에 침지된다. 이어서, 상기 세정조(12) 내의 세정액에 초음파가 발생되게 되어, 피처리 기판(W)이 초음파 세정된다. 피처리 기판(W)이 세정되는 동안, 세정조 내의 세정액에 용해된 가스의 용존 농도를 변화시킬 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020070093894A
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：KR1020070024996
申请日：2007-03-14
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: B08B3/12 , B01F15/00207 , B01F15/0022 , B01F15/0429 , B08B3/00 , C11D11/0047 , H01L21/67057
Abstract: A substrate cleaning method and apparatus and a programmable recording medium are provided to improve the particle removing efficiency of a substrate by uniformly removing particles from the substrate. A substrate(W) is immersed in a cleaning liquid stored in a cleaning tank(12). The substrate is cleaned by generating ultrasonic waves in the cleaning liquid contained in the cleaning tank. In the step of cleaning the substrate, a dissolved gas concentration of a gas dissolved by the cleaning liquid inside the cleaning tank is changed. The generation of ultrasonic waves is stopped, and the dissolved gas concentration is changed during stop. When the dissolved gas concentration is changed, the dissolved gas concentration of the cleaning liquid is lowered.
Abstract translation: 提供了基板清洗方法和装置以及可编程记录介质，以通过从基板均匀地除去颗粒来提高基板的颗粒去除效率。 将衬底（W）浸入存储在清洗槽（12）中的清洗液中。 通过在包含在清洗槽中的清洗液中产生超声波来清洁基板。 在清洗基板的步骤中，清洗槽内的清洗液溶解的气体的溶解气体浓度变化。 停止产生超声波，停止时溶解气体浓度变化。 当溶解气体浓度变化时，清洗液的溶解气体浓度降低。
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