公开(公告)号：KR101657905B1

公开(公告)日：2016-09-30

申请号：KR1020150119468

申请日：2015-08-25

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 김용상 ,  이동훈 ,  조형준

IPC: H01L27/115 ,  H01L27/108

Abstract: 본실시예에따른메모리장치는, 정보를저장하는메모리소자들이형성되며, 메모리소자들과전기적으로연결된제1 패드들을포함하는메모리층과, 메모리층을덮는절연패턴과, 메모리소자들을제어하는제어회로와, 제어회로와전기적으로연결된제2 패드들을포함하되메모리층 상부에배치되는제어회로층을포함하며, 제1 패드들과제2 패드들은절연패턴을관통하는복수의비아(via)들에의하여전기적으로연결된다.

Abstract translation: 根据实施例，一种存储装置包括：存储层，具有用于存储形成在其上的信息的存储元件，并且包括电连接到存储元件的第一焊盘; 用于覆盖存储层的绝缘图案; 以及控制电路层，其包括用于控制存储元件的控制电路，以及电连接到控制电路的第二焊盘，并且设置在存储层的顶部。 第一焊盘和第二焊盘通过多个通孔电连接以穿透绝缘图案。 因此，本发明可以减少存储元件与控制电路之间的电信号的延迟。

公开(公告)号：KR101639949B1

公开(公告)日：2016-07-15

申请号：KR1020150079968

申请日：2015-06-05

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 조준동 ,  오정균 ,  김종학 ,  심상권 ,  조형준

IPC: H04N13/00

Abstract: 본발명의실시예들에따른입체영상표시장치는소정의동영상인코딩포맷에의해인코딩되어있는소스영상데이터를디코딩하여입체영상데이터를복원하는영상복호화부, 복원된입체영상데이터로부터원본입체영상들을분리하는입체영상분리부, 원본입체영상들에대해물체영역과배경영역의밝기대비값을소정의기준밝기대비값에따라보정한보정입체영상들을생성하는입체영상후처리장치및 보정입체영상들을소정의입체영상표시방식에따라포맷팅하여디스플레이에전달하는포맷터를포함할수 있다.

公开(公告)号：KR1020080104902A

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：KR1020070052323

申请日：2007-05-29

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 이내응 ,  김희대 ,  박창기 ,  이춘희 ,  홍병유 ,  조형준

IPC: H01L21/027 ,  B82Y40/00

CPC classification number: H01L21/31144 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/0338 ,  H01L21/308

Abstract: A multilayer resist structure and a method for fabricating a thin film pattern using the same are provided to lower the etching aspect ratio of the lower thin film and increase the etching selectivity of the lower thin film using the PVD amorphous carbon mask. A method for fabricating the thin film pattern comprises the step for laminating the PVD amorphous carbon mask(130) on the lower thin film(120); the step for laminating successively the hard mask on the PVD amorphous carbon mask, the bottom anti-reflective coations(150), and the photoresist pattern(160); the step for etching the bottom anti-reflective layer and the hard mask using the photoresist pattern as the etching mask; the step for etching the PVD amorphous carbon layer using the patterned hard mask as the etching mask; the step for etching the lower thin film using the PVD amorphous carbon layer as the etching mask.

Abstract translation: 提供多层抗蚀剂结构和使用其制造薄膜图案的方法以降低下薄膜的蚀刻纵横比，并且使用PVD无定形碳掩模增加下薄膜的蚀刻选择性。 制造薄膜图案的方法包括将PVD无定形碳掩模（130）层压在下薄膜（120）上的步骤; 在PVD非晶碳掩模，底部抗反射涂层（150）和光致抗蚀剂图案（160）上依次层压硬掩模的步骤; 使用光致抗蚀剂图案蚀刻底部抗反射层和硬掩模的步骤作为蚀刻掩模; 使用图案化的硬掩模作为蚀刻掩模蚀刻PVD无定形碳层的步骤; 使用PVD无定形碳层蚀刻下部薄膜作为蚀刻掩模的步骤。

公开(公告)号：KR1020080021957A

公开(公告)日：2008-03-10

申请号：KR1020060085225

申请日：2006-09-05

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 홍병유 ,  박용섭 ,  조형준

IPC: H01L21/203

CPC classification number: C23C14/0605 ,  C23C14/345 ,  C23C14/352 ,  H01L51/102 ,  H01L51/5203

Abstract: A method for fabricating a conductive carbon thin film of high hardness and an application of the carbon thin film as an electrode for a thin film electro-luminescent device are provided to protect a substrate and a thin film against oxidation and moisture by using the carbon thin film. A carbon thin film having high conductivity and high hardness is manufactured by using a closed-field unbalanced magnetron sputtering apparatus. The closed-field unbalanced magnetron sputtering apparatus includes a chamber(20) composed of a substrate support member, a jig(22) for fixing the substrate support member, a gas supply member, a DC bias power supply(25), and a cooling line(23), and an evacuating member for maintaining a vacuum condition in the chamber. The closed-field unbalanced magnetron sputtering apparatus uses as a sputtering target a graphite target attached to an electromagnetic power unit.

Abstract translation: 提供高硬度的导电性碳薄膜的制造方法以及碳薄膜作为薄膜电致发光元件的电极的应用，通过使用碳薄膜来保护基板和薄膜免受氧化和水分的影响 电影。 通过使用闭环非平衡磁控管溅射装置制造具有高导电性和高硬度的碳薄膜。 闭场不平衡磁控管溅射装置包括由基板支撑构件构成的室（20），用于固定基板支撑构件的夹具（22），气体供给构件，DC偏压电源（25）和冷却 管线（23），以及用于在室内保持真空状态的排气构件。 闭电场不平衡磁控管溅射装置使用附着在电磁功率单元上的石墨靶作为溅射靶。

公开(公告)号：KR101915834B1

公开(公告)日：2018-11-06

申请号：KR1020150128019

申请日：2015-09-10

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 김용상 ,  이동훈 ,  조형준

IPC: H01L27/12 ,  H01L23/528 ,  H01L27/15

Abstract: 본실시예에의한소자어레이는, 어레이로배열된복수의 N 타입 TFT(N type Thin Film Transistor)들과, 어레이로배열된복수의 P 타입 TFT(P type Thin Film Transistor)들및 복수의 N 타입 TFT들과복수의 P 타입 TFT들상에형성된절연층(insulation layer)을포함하며, N 타입 TFT와, P 타입 TFT는전도성물질로인쇄되어배선된다.

公开(公告)号：KR1020160113480A

公开(公告)日：2016-09-29

申请号：KR1020150039159

申请日：2015-03-20

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 조준동 ,  강성묵 ,  송상협 ,  오정균 ,  조형준

IPC: G06Q30/02

Abstract: 본발명은이벤트스케줄링스마트캘린더서비스방법및 그방법을수행하는어플리케이션프로그램및 그기록매체에관한것으로, (a) 다수의광고업체단말이이벤트정보를이벤트캘린더서버로등록하는단계; (b) 상기이벤트캘린더서버가상기등록된이벤트정보를저장하고분류하여데이터베이스(DB)화하는단계; (c) 클라이언트단말에서이벤트캘린더어플리케이션을통해상기이벤트정보를검색하고선택하는단계; 및 (d) 상기클라이언트단말의상기이벤트캘린더어플리케션을통해캘린더상에상기선택된이벤트정보를표시하는단계를포함한다. 이와같은본 발명은, 각종미디어등을통해전파하는수많은이벤트정보를하나의서비스를통해관리할수 있는방법을제공하고, 소비자또는고객이원하는이벤트정보를선택적으로취득하고소비자가한눈에알아볼수 있는캘린더형식의이벤트정보의일정또는스케줄링정보를제공함으로써, 광고업체나고객양쪽모두에게이로운서비스를제공하는방법을제공한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种事件调度智能日历服务方法，一种用于执行该方法的应用程序及其记录介质。 根据本发明的事件调度智能日历服务方法包括：（a）多个广告终端在事件日历服务器中注册事件信息; （b）事件日历服务器存储和分类注册的事件信息，从而将信息构建到数据库中; （c）客户终端通过事件日历应用搜索和选择事件信息; 和（d）通过客户终端的事件日历应用在日历上显示所选择的事件信息。 本发明可以提供一种允许用户通过一种服务来管理通过各种媒体传播的多条事件信息的方法，并以日历格式提供事件信息调度或调度信息，这允许消费者或客户选择性地选择期望的事件信息， 让消费者了解信息，从而有利于广告业务和客户。

公开(公告)号：KR101819032B1

公开(公告)日：2018-01-16

申请号：KR1020160022518

申请日：2016-02-25

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 김용상 ,  이동훈 ,  조형준

IPC: H01L27/01 ,  H01L27/12 ,  H01L27/06 ,  H01L29/786 ,  H03K19/177

Abstract: 본실시예에의한전자회로는구성가능한전기적연결을가지는박막트랜지스터어레이(Thin Film Transistor array)를포함하는박막트랜지스터어레이레이어(TFT array layer) 및박막트랜지스터어레이내의박막트랜지스터들을전기적으로연결하며구성가능한전기적연결을가지는내부배선이배치된내부배선영역과, 내부배선영역과전기적으로연결되어전자회로에입력신호를전달하고, 전자회로의출력을전자회로외부에제공하며구성가능한전기적연결을가지는배선들이배치된외부배선영역을포함하는배선레이어(wiring layer)를포함하며, 전자회로는박막트랜지스터어레이레이어와배선레이어가적층되어형성된다.

公开(公告)号：KR101621614B1

公开(公告)日：2016-05-17

申请号：KR1020140081026

申请日：2014-06-30

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 조준동 ,  송상협 ,  심상권 ,  윤원종 ,  조형준

IPC: H04N9/64

Abstract: 본발명의실시예에따른컴퓨터에서수행되는디지털이미지향상방법은입력되는디지털이미지의색공간을 RGB에서 YCbCr로변환하여, 휘도성분(Y 성분), Cb 성분및 Cr 성분을생성하는단계, 휘도성분을소정의컷오프주파수를가지는평활화필터로필터링하여조명성분(L 성분)을생성하는단계, 각픽셀마다휘도성분을조명성분으로나눈반사성분에기초하여반사성분맵을생성하는단계, 반사성분맵의히스토그램을기초로정규화하여보정된휘도성분을생성하는단계및 보정된휘도성분과 Cb 성분및 Cr 성분을 YCbCr에서 RGB로변환하여디지털향상이미지를생성하는단계를포함할수 있다.

公开(公告)号：KR100899414B1

公开(公告)日：2009-05-27

申请号：KR1020070052323

申请日：2007-05-29

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 이내응 ,  김희대 ,  박창기 ,  이춘희 ,  홍병유 ,  조형준

IPC: H01L21/027 ,  B82Y40/00

Abstract: 하부 박막에 대한 식각 선택비를 높이고 식각시 종횡비를 낮출 수 있는 아주 얇은 나노스케일 PVD 비정질 카본을 이용하여 다층 레지스트 구조를 형성하고 이를 이용하여 박막 패턴을 형성하는 방법을 제공한다.
하부 박막 상에 PVD 비정질 카본 마스크를 적층하는 단계; 상기 PVD 비정질 카본 마스크 상에 하드 마스크(hard-mask), 하부 반사방지막(bottom anti-reflective coating), 포토 레지스트 패턴을 차례로 적층하는 단계; 포토 레지스트 패턴을 식각 마스크로 하부 반사방지막과 하드마스크를 식각하는 단계; 패터닝된 하드마스크를 식각 마스크로 하여 PVD 비정질 카본층을 식각하는 단계; 및 상기 PVD 비정질 카본층을 식각 마스크로 하부 박막을 식각하는 단계를 포함하는 박막 패턴 형성 방법을 제공한다.

公开(公告)号：KR100812504B1

公开(公告)日：2008-03-11

申请号：KR1020060085225

申请日：2006-09-05

Applicant: 성균관대학교산학협력단

Inventor： 홍병유 ,  박용섭 ,  조형준

IPC: H01L21/203

CPC classification number: C23C14/0605 ,  C23C14/345 ,  C23C14/352 ,  H01L51/102 ,  H01L51/5203

Abstract: 본 발명은 고경도를 지닌 전도성 탄소 박막의 제조 방법 및 전극으로써 박막 전계 발광 소자에 전극에 전도성 탄소 박막을 응용에 관한 것이다. 본 발명에서는 고경도, 전도성 탄소박막 제작시 비대칭 마그네트론 스퍼터링 (Closed-field unbalanced magnetron sputtering) 방식을 제시하였으며, 제작된 탄소 박막은 높은 강도, 낮은 마찰력, 낮은 마모율, 부드러운 표면, 내부식성 및 내 산화성 등의 우수한 물리적인 특성들을 지니며, 장치 및 공정상의 특성으로 인해 어떠한 도핑 없이 낮은 비저항 (