Abstract:
PURPOSE: A high integration method of 1 dimensional or 2 dimensional conductive nanowires is provided to integrate 1 dimensional or 2 dimensional conductive nanowires by forming a electron beam resist layer patterned by nanounit of a linear or lattice form through an electron beam lithography. CONSTITUTION: A high integration method of 1 dimensional or 2 dimensional conductive nanowires comprises the steps of; forming a passivation layer on a substrate; coating an electron beam resist layer on the passivation layer and patterning the electron beam resist layer using electron beam lithography; forming an interlayer on the passivation layer exposed through an opening of the nano pattern; forming the nano pattern of the interlayer on the passivation layer by removing the electron beam resist layer of nano pattern; forming an adsorption layer on the interlayer; applying a solution including a charged material on the adsorption layer; and forming nano wires including charged materials; and forming conductive nano wires by applying nano particles charged opposite to the charged material.
Abstract:
An organic thin film transistor and a manufacturing method thereof for obtaining the advantage of each material characteristic by applying organic compound and inorganic material to the insulating layer are provided to minimize the leakage current and low voltage driving. A gate electrode(120) is formed on a substrate(110). An inorganic insulating layer(130) is formed on the gate electrode. An organic insulating layer(140) is formed on the inorganic insulating layer. An organic semiconductor layer(150) is formed on the organic insulating layer. Source/drain electrodes are formed on the organic semiconductor layer. The inorganic insulating layer is made of the amorphous carbon material quality containing the hydrogen. The inorganic insulating layer is made of the amorphous carbon material quality containing the hydrogen.
Abstract:
본 발명은 유기박막 트랜지스터에 관한 것으로, 보다 상세하게는 절연층에 유기물 및 무기물을 복합적으로 적용함으로써 각 재질특성의 장점을 얻을 수 있는 유기박막 트랜지스터 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 유기박막 트랜지스터는, 기판; 상기 기판 위에 형성된 게이트 전극; 상기 게이트 전극 위에 형성된 무기 절연층; 상기 무기 절연층 위에 형성된 유기 절연층; 상기 유기 절연층 위에 형성된 유기 반도체층; 및 상기 유기 절연층 위에 형성된 소스/드레인 전극을 포함한다. 유기박막, 트랜지스터, 절연, 게이트, 소스, 드레인
Abstract:
A dye sensitized solar cell and a method of manufacture thereof are provided to increase the energy efficiency using a carbon electrode as a counter electrode. A dye sensitized solar cell comprises a working electrode and a counter electrode which is divided by an electrolyte layer(30). The counter electrode comprises a carbon electrode(22) formed in the first transparent substrate(21). The carbon electrode has the transparency of 85%. The film thickness of the carbon electrode is 180Œ10nm. The first transparent substrate is made of one among the glass, the silicon and the flexible material. The working electrode comprises a conductive transparent electrode(12) laminated on the one side of the second transparent substrate, a porous electrode(13) laminated on the conductive transparent electrode, and a dye layer(14) laminated on the porous electrode. The carbon electrode is formed on the surface of the first transparent substrate into the thin film type.
Abstract:
An organic thin film transistor, manufacturing method thereof, and organic semiconductor device including the same are provided to improve device property and manufacturing process of thin film transistor by forming gate electrode of thin film transistor using nano crystalline conductive carbon layer. A flexible substrate is prepared. A nano crystalline carbon layer(310) is deposited on the flexible substrate as a gate electrode. An organic insulation layer(320) is formed on the flexible substrate on which the gate electrode is deposited. An organic active layer is activated on the organic insulation layer. Source/drain electrodes are formed on the organic active layer. The nano crystalline carbon layer is deposited using an asymmetry magnetron sputtering method. The organic insulation layer is formed by one among polyvinyl phenol and polyvinyl alcohol.
Abstract:
본 발명은 선택적인 나노선을 제조하는 방법에 관한 것으로, 본 발명에 의한 기판 상에 나노구조체를 선택적으로 위치시키는 방법은, 기판 상에 포토레지스트 패턴을 형성한 후 패턴의 선폭을 나노단위로 제어하여 나노단위 포토레지스트 층을 형성하는 제1단계; 나노단위 포토레지스트 층이 형성된 기판 상의 패턴 미형성 영역에 나노물질 흡착방지용 보호층을 형성하는 제2단계; 기판 상에 형성된 포토레지스트 층을 제거하는 제3단계; 포토레지스트 층이 제거된 영역에 양 또는 음으로 대전된 흡착층을 형성하는 제4단계; 및 흡착층이 형성된 기판에 흡착층과는 반대 전하로 대전된 나노물질 포함 용액을 적용하는 제5단계; 를 포함하여 이루어진다. 본 발명에 따르면, 정전기적 인력을 이용함으로써 손쉽게 나노구조체를 선택적으로 정렬 및 위치시킬 수 있는 효과 및 새로운 나노구조체를 형성할 수 있는 효과가 있으며, 또한 본 발명에 의해 형성된 나노구조체 또는 복합나노구조체는 나노-분자소자에 적용할 수 있는 효과가 있다. 나노선, 나노패턴, 선택적 나노구조체 형성, 나노구조체
Abstract:
하부 박막에 대한 식각 선택비를 높이고 식각시 종횡비를 낮출 수 있는 아주 얇은 나노스케일 PVD 비정질 카본을 이용하여 다층 레지스트 구조를 형성하고 이를 이용하여 박막 패턴을 형성하는 방법을 제공한다. 하부 박막 상에 PVD 비정질 카본 마스크를 적층하는 단계; 상기 PVD 비정질 카본 마스크 상에 하드 마스크(hard-mask), 하부 반사방지막(bottom anti-reflective coating), 포토 레지스트 패턴을 차례로 적층하는 단계; 포토 레지스트 패턴을 식각 마스크로 하부 반사방지막과 하드마스크를 식각하는 단계; 패터닝된 하드마스크를 식각 마스크로 하여 PVD 비정질 카본층을 식각하는 단계; 및 상기 PVD 비정질 카본층을 식각 마스크로 하부 박막을 식각하는 단계를 포함하는 박막 패턴 형성 방법을 제공한다.
Abstract:
본 발명은 고경도를 지닌 전도성 탄소 박막의 제조 방법 및 전극으로써 박막 전계 발광 소자에 전극에 전도성 탄소 박막을 응용에 관한 것이다. 본 발명에서는 고경도, 전도성 탄소박막 제작시 비대칭 마그네트론 스퍼터링 (Closed-field unbalanced magnetron sputtering) 방식을 제시하였으며, 제작된 탄소 박막은 높은 강도, 낮은 마찰력, 낮은 마모율, 부드러운 표면, 내부식성 및 내 산화성 등의 우수한 물리적인 특성들을 지니며, 장치 및 공정상의 특성으로 인해 어떠한 도핑 없이 낮은 비저항 (
Abstract:
PURPOSE: A semiconductor electrode for a dye-sensitized solar cell, a manufacturing method thereof, the dye-sensitized solar cell including the same are provided to improve energy conversion efficiency by preventing electron recombination between electrolytes and the surface of an electrode. CONSTITUTION: A semiconductor oxide layer(2) is formed on a conductive substrate. An organic layer(6) is coated on the surface of the semiconductor oxide layer and the surface of the conductive substrate with a core-shell structure. Dye(7) is absorbed on the surface of the organic layer. The organic layer is made of silane compound.
Abstract:
본 발명은, 기판 상에 전자빔 리소그래피를 이용하여 전자빔 레지스트층을 선형 또는 격자 형상의 나노 패턴으로 형성하고, 상기 기판 전면에 중간층을 형성한 후 상기 전자빔 레지스트층을 제거함으로써 상기 중간층의 선형 또는 격자 형상의 나노패턴을 형성하고, 이후 상기 중간층 상에 흡착층, 대전물질층 및 나노입자층을 순차적으로 형성하는 단계를 포함하는, 대전된 물질을 이용한 1 차원 또는 2 차원 전도성 나노선의 고집적 방법, 상기 방법에 의하여 집적된 1 차원 또는 2 차원 고집적 전도성 나노선 및 이를 이용한 소자에 관한 것이다. 나노선, 전자빔 리소그래피, 고집적, 대전물질, DNA, 나노입자