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公开(公告)号：KR1020130090872A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：KR1020137000639
申请日：2011-07-06
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: B05C11/00 , B05D1/18 , C23C18/1617 , C23C18/54
Abstract: 욕 (bath) 의 공정을 단순화하기 위하여, 제 2 금속을 노출시키는 가공물 (12) 에 제 1 금속의 코팅을 성막하는 방법이 제안되고, 이러한 방법은, a) 성막될 제 1 금속의 이온을 포함하는 욕 성분, 상기 제 2 금속 용의 적어도 하나의 착화제 그리고 적어도 하나의 산을 포함하는 욕액 (16) 을 제공하는 단계, b) 상기 가공물 (12) 에 상기 욕액 (16) 으로부터 상기 제 1 금속의 상기 코팅을 성막하는 단계, c) 상기 욕액 (16) 을 침강조 (18) 로 공급하는 단계, d) 침전물 및 여과액의 생성을 위해 침강조 (18) 내의 욕액 (16) 을 냉각시키는 단계로서, 상기 침전물은 상기 제 2 금속 및 상기 적어도 하나의 착화제를 포함하는 단계, e) 여과 장치 (20) 에 의해 상기 여과액으로부터 상기 침전물을 분리하는 단계, f) 상기 욕액 (16) 에 상기 여과액을 복귀시키는 단계, 그리고 g) 상기 욕� �� (16) 에 욕 성분을 보충시키는 단계를 포함한다. 본 발명에 따른 방법은 상기 여과액으로부터 상기 침전물의 분리에 관하여, 상기 여과 장치에 의해 통해 압력차가 생성되는 것을 특징으로 한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020150133721A
公开(公告)日：2015-11-30
申请号：KR1020157025590
申请日：2014-03-25
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C23C18/40 , C23C18/1639 , C23C18/405 , H01L21/76879 , H01L23/53228 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 본발명은, - 구리이온의공급원, - 환원제또는환원제의공급원, 및 - 착화제로서, i) 하나이상의폴리아미노디석신산또는하나이상의폴리아미노모노석신산, 또는하나이상의폴리아미노디석신산과하나이상의폴리아미노모노석신산의혼합물과, ii) 에틸렌디아민테트라아세트산, N'-(2-하이드록시에틸)-에틸렌디아민-N,N,N'-트리아세트산및 N,N,N',N'-테트라키스 (2-하이드록시프로필)에틸렌디아민으로이루어진군으로부터선택된하나이상의화합물의배합물의배합물을포함하는무전해구리도금수용액뿐만아니라, 상기용액을이용하는무전해구리도금방법및 기판의도금을위한상기용액의용도에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种无电镀铜电镀溶液，其包括 - 铜离子源，还原剂或还原剂源，和 - i）至少一种聚氨基二琥珀酸或至少一种聚氨基 单琥珀酸或至少一种聚氨基二琥珀酸与至少一种聚氨基单琥珀酸的混合物，和ii）一种或多种选自乙二胺四乙酸，N' - （2-羟乙基） - 乙二胺-N，N，N'-三乙酸和N，N，N'，N'-四（2-羟丙基）乙二胺作为络合剂，以及使用所述溶液的无电镀铜方法和 使用该溶液进行电镀基板。
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公开(公告)号：KR101770446B1
公开(公告)日：2017-09-05
申请号：KR1020137000639
申请日：2011-07-06
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: B05C11/00 , B05D1/18 , C23C18/1617 , C23C18/54
Abstract: 욕 (bath) 의공정을단순화하기위하여, 제 2 금속을노출시키는가공물 (12) 에제 1 금속의코팅을성막하는방법이제안되고, 이러한방법은, a) 성막될제 1 금속의이온을포함하는욕 성분, 상기제 2 금속용의적어도하나의착화제그리고적어도하나의산을포함하는욕액 (16) 을제공하는단계, b) 상기가공물 (12) 에상기욕액 (16) 으로부터상기제 1 금속의상기코팅을성막하는단계, c) 상기욕액 (16) 을침강조 (18) 로공급하는단계, d) 침전물및 여과액의생성을위해침강조 (18) 내의욕액 (16) 을냉각시키는단계로서, 상기침전물은상기제 2 금속및 상기적어도하나의착화제를포함하는단계, e) 여과장치 (20) 에의해상기여과액으로부터상기침전물을분리하는단계, f) 상기욕액 (16) 에상기여과액을복귀시키는단계, 그리고 g) 상기욕액 (16) 에욕 성분을보충시키는단계를포함한다. 본발명에따른방법은상기여과액으로부터상기침전물의분리에관하여, 상기여과장치를통해압력차가생성되는것을특징으로한다.
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公开(公告)号：KR1020170044127A
公开(公告)日：2017-04-24
申请号：KR1020177006257
申请日：2015-08-07
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: H05K3/181 , C23C18/1651 , C23C18/31 , C23C18/48 , C23C18/54 , C25D3/38 , C25D3/58 , C25D5/022 , C25D5/56 , H05K1/0274 , H05K2201/2054 , H05K2203/0709 , H05K2203/073
Abstract: 본발명은구리및 구리합금회로의광학반사율을감소시키는방법에관한것으로, 본방법에서는침지식도금에의해상기구리또는구리합금상에얇은팔라듐또는팔라듐합금층이성막된다. 이로써, 무광회색또는진회색또는흑색층이획득되고, 상기구리또는구리합금회로의광학반사율이감소된다. 본발명에따른방법은이미지디스플레이디바이스, 터치스크린디바이스및 관련전자부품의제조에특히적합하다.
Abstract translation: 本发明涉及一种方法，用于降低铜及铜合金电路，该方法的光反射率，通过浸入镀在铜或铜合金的薄的钯或钯合金层沉积。 因此，获得无光泽的灰色或暗灰色或黑色的层，所述铜或铜合金电路的光学反射率减少。 根据本发明的方法特别适用于制造图像显示装置，触摸屏装置和相关联的电子部件。
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公开(公告)号：KR102162540B1
公开(公告)日：2020-10-08
申请号：KR1020157025803
申请日：2014-03-25
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Inventor： 브뤼닝독토어프랑크 , 벡비르기트 , 랑함머엘리자 , 에츠코른독토어요하네스 , 메르슈키독토어미하엘 , 슐체외르크 , 로빈스키크리슈티안
IPC: C23C18/40
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公开(公告)号：KR1020150136066A
公开(公告)日：2015-12-04
申请号：KR1020157025803
申请日：2014-03-25
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Inventor： 브뤼닝독토어프랑크 , 벡비르기트 , 랑함머엘리자 , 에츠코른독토어요하네스 , 메르슈키독토어미하엘 , 슐체외르크 , 로빈스키크리슈티안
CPC classification number: C23C18/38 , C23C18/40 , C23C18/405
Abstract: 본발명은, - 구리이온의소스, - 환원제, 또는환원제의소스, 및 - 착화제로서, ⅰ) N,N,N',N'-테트라키스(2-하이드록시프로필)에틸렌디아민또는그의염, 및ⅱ) N'-(2-하이드록시에틸)-에틸렌디아민-N,N,N'-트리아세트산또는그의염을포함하는조합물을포함하는무전해구리도금용액뿐만아니라, 상기용액을이용하는무전해구리도금방법, 및기판도금을위한상기용액의용도에관한것이다.
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