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公开(公告)号:KR1020170093846A
公开(公告)日:2017-08-16
申请号:KR1020177015897
申请日:2015-12-17
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C23C18/44 , C23C18/1651 , C23C18/1617
Abstract: 본발명은기판상에무전해도금에의해팔라듐층을데포짓하기위한수계도금배쓰조성물및 방법에관한것이다. 본발명에따른수계도금배쓰조성물은팔라듐이온의공급원, 팔라듐이온에대한환원제및 방향족화합물을포함한다. 수계도금배쓰조성물은배쓰안정성을유지하면서팔라듐에대한증가된데포지션속도를갖는다. 수계도금배쓰조성물은또한연장된수명을갖는다. 본발명의방향족화합물은배쓰수명에걸쳐데포지션속도를일정한범위로조절하는것, 및팔라듐층을저온에서무전해데포지션하는것을허용한다. 본발명의방향족화합물은낮은데포지션속도를갖는무전해팔라듐도금배쓰를활성화시키고오래된무전해팔라듐도금배쓰를재활성화시킨다.
Abstract translation: 本发明涉及用于通过无电镀在衬底上沉积钯层的水性镀液组合物和方法。 根据本发明的水基电镀液组合物包含钯离子源,钯离子还原剂和芳族化合物。 含水镀浴组合物在维持镀液稳定性的同时具有提高的钯沉积速率。 该水基电镀浴组合物还具有延长的使用寿命。 本发明的芳族化合物允许在浴的寿命期间将沉积速率调节到恒定范围并且在低温下无电沉积钯层。 本发明的芳族化合物激活具有低速度的无电镀钯浴并重新激活旧的无电镀钯浴。
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公开(公告)号:KR102070536B1
公开(公告)日:2020-01-29
申请号:KR1020187018109
申请日:2016-11-28
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Inventor: 발터안드레아스 , 주헨트룬크크리슈토프 , 벡크토마스 , 슈타인베르거게르하르트 , 베라홀거 , 브루너하이코 , 프뢰제베른트
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公开(公告)号:KR102080421B1
公开(公告)日:2020-02-21
申请号:KR1020187018098
申请日:2016-11-28
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Inventor: 발터안드레아스 , 주헨트룬크크리슈토프 , 벡크토마스 , 슈타인베르거게르하르트 , 베라홀거 , 브루너하이코 , 뤽브로트슈펜
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公开(公告)号:KR1020150092152A
公开(公告)日:2015-08-12
申请号:KR1020157014861
申请日:2013-11-14
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Inventor: 발터안드레아스
CPC classification number: H01L33/62 , C23C18/1651 , C23C18/1844 , C23C18/44 , C23C18/54 , H01L33/005 , H01L33/40 , H01L2224/03424 , H01L2224/03464 , H01L2224/05164 , H01L2224/27464 , H01L2224/27823 , H01L2924/0002 , H01L2933/0016 , H01L2933/0025 , H01L2933/0066 , H01L2924/00
Abstract: 본 발명은 귀금속 전극들에 와이어 본딩 및 솔더링 가능한 표면들을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다. 귀금속 전극들은 60 ~ 90 ℃ 에서 무전해 도금에 의해 팔라듐 또는 팔라듐 합금 층의 시드층을 성막함으로써 활성화된다. 다음에, 중간층이 시드층에 성막된 후 중간층에 와이어 본딩 및/또는 솔더링 가능한 표면 마감층(들)의 성막이 뒤따른다. 이 방법은 발광 다이오드들 (LEDs) 과 같은 광전자 기기들의 제조에 특히 적합하다.
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公开(公告)号:KR1020170093845A
公开(公告)日:2017-08-16
申请号:KR1020177015896
申请日:2015-12-17
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Inventor: 벡토마스 , 슈타인베르거게르하르트 , 발터안드레아스
CPC classification number: C23C18/44 , C23C18/1646 , C23C18/1651 , C23C18/1617
Abstract: 본발명은기판상에무전해도금에의해팔라듐층을데포짓하기위한수계도금배쓰조성물및 방법에관한것이다. 본발명에따른수계도금배쓰조성물은팔라듐이온의공급원, 팔라듐이온에대한환원제및 알데히드화합물을포함한다. 수계도금배쓰조성물은조 안정성을유지하면서팔라듐에대한증가된데포지션속도를갖는다. 수계도금배쓰조성물은또한연장된수명을갖는다. 본발명의알데히드화합물은배쓰수명에걸쳐데포지션속도를일정한범위로조절하는것, 및팔라듐층을저온에서무전해데포지션하는것을허용한다. 본발명의알데히드화합물은낮은데포지션속도를갖는무전해팔라듐도금배쓰를활성화시키고오래된무전해팔라듐도금배쓰를재활성화시킨다.
Abstract translation: 本发明涉及用于通过无电镀在衬底上沉积钯层的水性镀液组合物和方法。 本发明的水系镀浴组合物含有钯离子源,钯离子还原剂和醛化合物。 含水镀浴组合物在维持镀液稳定性的同时具有提高的钯沉积速率。 该水基电镀浴组合物还具有延长的使用寿命。 本发明的醛化合物允许在浴寿命期间控制沉积速率并在低温下无电沉积钯层。 本发明的醛化合物以低速度激活化学镀钯浴并重新激活旧的无电镀钯浴。
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