코발트 합금의 무전해 석출을 위한 알칼리성 도금조
    1.
    发明授权
    코발트 합금의 무전해 석출을 위한 알칼리성 도금조 有权
    用于化学沉积钴合金的碱性电镀液

    公开(公告)号:KR101821852B1

    公开(公告)日:2018-01-24

    申请号:KR1020147028526

    申请日:2013-01-09

    CPC classification number: C23C18/50 C23C18/1633

    Abstract: 본발명은안정화제로서프로파르길유도체를포함하는, 3원및 4원코발트합금 Co-M-P, Co-M-B 및 Co-M-B-P (식중, M 은 Mn, Zr, Re, Mo, Ta 및 W 로이루어진군에서선택된다) 의무전해석출을위한수성, 알칼리성도금조조성물에관한것이다. 이것으로부터유도되는코발트합금층은반도체장치, 인쇄회로기판및 IC 기판과같은전자장치에서장벽층및 피복층으로서유용하다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种含有稳定剂炔丙基衍生物,三和四赢得钴合金共同MP,钴-MB和Co-MBP(式中,M是由Mn,Zr的,RE,钼,Ta和W的 用于强制电解沉积的碱性镀液组合物。 由此衍生的钴合金层可用作电子器件如半导体器件,印刷电路板和IC基板中的阻挡层和涂层。

    코발트 합금의 무전해 석출을 위한 알칼리성 도금조
    3.
    发明公开
    코발트 합금의 무전해 석출을 위한 알칼리성 도금조 审中-实审
    用于电解沉积钴合金的碱性镀层

    公开(公告)号:KR1020140134325A

    公开(公告)日:2014-11-21

    申请号:KR1020147028526

    申请日:2013-01-09

    CPC classification number: C23C18/50 C23C18/1633

    Abstract: 본 발명은 안정화제로서 프로파르길 유도체를 포함하는, 3원 및 4원 코발트 합금 Co-MP, Co-MB 및 Co-MBP (식 중, M 은 Mn, Zr, Re, Mo, Ta 및 W 로 이루어진 군에서 선택된다) 의 무전해 석출을 위한 수성, 알칼리성 도금조 조성물에 관한 것이다. 이것으로부터 유도되는 코발트 합금층은 반도체 장치, 인쇄 회로 기판 및 IC 기판과 같은 전자 장치에서 장벽층 및 피복층으로서 유용하다.

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