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公开(公告)号：KR101821852B1
公开(公告)日：2018-01-24
申请号：KR1020147028526
申请日：2013-01-09
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: C23C18/50 , H01L21/288
CPC classification number: C23C18/50 , C23C18/1633
Abstract: 본발명은안정화제로서프로파르길유도체를포함하는, 3원및 4원코발트합금 Co-M-P, Co-M-B 및 Co-M-B-P (식중, M 은 Mn, Zr, Re, Mo, Ta 및 W 로이루어진군에서선택된다) 의무전해석출을위한수성, 알칼리성도금조조성물에관한것이다. 이것으로부터유도되는코발트합금층은반도체장치, 인쇄회로기판및 IC 기판과같은전자장치에서장벽층및 피복층으로서유용하다.
Abstract translation: 本发明涉及一种含有稳定剂炔丙基衍生物，三和四赢得钴合金共同MP，钴-MB和Co-MBP（式中，M是由Mn，Zr的，RE，钼，Ta和W的 用于强制电解沉积的碱性镀液组合物。 由此衍生的钴合金层可用作电子器件如半导体器件，印刷电路板和IC基板中的阻挡层和涂层。
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公开(公告)号：KR1020140134325A
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：KR1020147028526
申请日：2013-01-09
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
IPC: C23C18/50 , H01L21/288
CPC classification number: C23C18/50 , C23C18/1633
Abstract: 본 발명은 안정화제로서 프로파르길 유도체를 포함하는, 3원 및 4원 코발트 합금 Co-MP, Co-MB 및 Co-MBP (식 중, M 은 Mn, Zr, Re, Mo, Ta 및 W 로 이루어진 군에서 선택된다) 의 무전해 석출을 위한 수성, 알칼리성 도금조 조성물에 관한 것이다. 이것으로부터 유도되는 코발트 합금층은 반도체 장치, 인쇄 회로 기판 및 IC 기판과 같은 전자 장치에서 장벽층 및 피복층으로서 유용하다.
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公开(公告)号：KR102080421B1
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：KR1020187018098
申请日：2016-11-28
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Inventor： 발터안드레아스 , 주헨트룬크크리슈토프 , 벡크토마스 , 슈타인베르거게르하르트 , 베라홀거 , 브루너하이코 , 뤽브로트슈펜
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101936977B1
公开(公告)日：2019-01-09
申请号：KR1020147001368
申请日：2012-07-04
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Inventor： 얀쎈보리스알렉산더 , 베라홀거 , 바이쓰브로트세바슈티안 , 샤프슈텔러브리타
IPC: C23C18/36
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公开(公告)号：KR1020140041762A
公开(公告)日：2014-04-04
申请号：KR1020147001368
申请日：2012-07-04
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Inventor： 얀쎈보리스알렉산더 , 베라홀거 , 바이쓰브로트세바슈티안 , 샤프슈텔러브리타
IPC: C23C18/36
CPC classification number: C23C18/36
Abstract: 본 발명은 5 ~ 12 중량% 범위의 인 함량을 가진 니켈 인 합금을 성막하기 위한 수성 도금욕 조성물에 관한 것이다. 상기 수성 도금욕 조성물은 황 함유 유기 안정제를 포함한다.
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公开(公告)号：KR102070536B1
公开(公告)日：2020-01-29
申请号：KR1020187018109
申请日：2016-11-28
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
Inventor： 발터안드레아스 , 주헨트룬크크리슈토프 , 벡크토마스 , 슈타인베르거게르하르트 , 베라홀거 , 브루너하이코 , 프뢰제베른트
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公开(公告)号：KR1020170086051A
公开(公告)日：2017-07-25
申请号：KR1020177014492
申请日：2015-11-17
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C23C18/1646 , C23C18/36 , C23C18/50
Abstract: 본발명은 a) 인듐및 갈륨으로부터선택된금속이온들, 및 b) 욕안정성을높이도록요오드함유무기화합물들을포함하는안정화제들의혼합물들을이용한, 니켈및 니켈합금들의성막을위한수성도금욕조성물들및 방법들에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及用于沉积镍和镍合金的含水铸铁组合物，其使用a）选自铟和镓的金属离子的混合物，和b）包含含碘无机化合物的稳定剂以增强浴稳定性，以及 ＆lt;
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公开(公告)号：KR1020150024317A
公开(公告)日：2015-03-06
申请号：KR1020147033024
申请日：2013-05-31
Applicant: 아토테크더치랜드게엠베하
CPC classification number: C23C18/34 , C23C18/1633 , C23C18/50 , H01L21/288 , H01L21/76849
Abstract: 본 발명은 욕 성능을 향상시키도록 탄소-탄소 삼중 결합과 작용기를 가지는 신규한 안정화제를 이용한 니켈 및 니켈 합금들의 성막을 위한 수성 도금욕 조성물들에 관한 것이다.
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