Abstract:
Techniques for shielding magnetic memory cells from magnetic fields are presented. In accordance with aspects of the invention, a magnetic storage element is formed with at least one conductive segment electrically coupled to the magnetic storage element. At least a portion of the conductive segment is surrounded with a magnetic liner. The magnetic liner is operative to divert at least a portion of a magnetic field created by a current passing through the conductive segment away from the magnetic storage element.
Abstract:
Techniques for shielding magnetic memory cells from magnetic fields are presented. In accordance with aspects of the invention, a magnetic storage element is formed with at least one conductive segment electrically coupled to the magnetic storage element. At least a portion of the conductive segment is surrounded with a magnetic liner. The magnetic liner is operative to divert at least a portion of a magnetic field created by a current passing through the conductive segment away from the magnetic storage element.
Abstract:
Verfahren zum Herstellen einer Einheit mit doppeltem magnetischen Tunnelübergang, das Verfahren aufweisend:Ausbilden eines ersten magnetischen Tunnelübergangsstapels (204);Ausbilden einer Spin-leitenden Schicht (206) auf dem ersten magnetischen Tunnelübergangsstapel;Ausbilden einer zweiten Spin-leitenden Schicht auf der Spin-leitenden Schicht, wobei die zweite Spin-leitende Schicht eine Breite aufweist, die größer als eine Breite der Spin-leitenden Schicht und größer als die Breite des ersten magnetischen Tunnelübergangsstapels ist;Ausbilden eines zweiten magnetischen Tunnelübergangsstapels (704) auf der Spin-leitenden Schicht, wobei der zweite magnetische Tunnelübergangsstapel eine Breite aufweist, die größer als eine Breite des ersten magnetischen Tunnelübergangsstapels ist; undAusbilden einer ersten dielektrischen Schicht (502) auf Seiten des ersten magnetischen Tunnelübergangsstapels und auf Seiten der Spin-leitenden Schicht.
Abstract:
Es ist ein Verfahren zum Herstellen einer Einheit mit doppeltem magnetischen Tunnelübergang vorgesehen. Das Verfahren umfasst ein Ausbilden eines ersten magnetischen Tunnelübergangsstapels (204), Ausbilden einer Spin-leitenden Schicht (206) auf dem ersten magnetischen Tunnelübergangsstapel (204) und Ausbilden eines zweiten magnetischen Tunnelübergangsstapels (704) auf der Spin-leitenden Schicht (206). Der zweite magnetische Tunnelübergangsstapel (704) hat eine Breite, die größer als eine Breite des ersten magnetischen Tunnelübergangsstapels (204) ist. Die Einheit mit doppeltem magnetischen Tunnelübergang kann eine Erhöhung der Schalteffizienz gegenüber einer verwandten Einheit mit einfachem magnetischen Tunnelübergang erreichen und kann ein erhöhtes Magnetowiderstandsverhältnis erreichen, was den Schaltstrom verringert.
Abstract:
Ein Ansatz liegt im Bereitstellen eines trichterförmigen magnetoresistiven Spin-Transfer-Drehmoment-Direktzugriffsspeicher-Bauelements (STT-MRAM-Bauelements) mit einem doppelten magnetischen Tunnelübergang. Der Ansatz umfasst ein Bereitstellen einer Metallsäule auf einer Verbindung zu einem Halbleiterbauelement. Der Ansatz umfasst ein Bereitstellen einer ersten Referenzschicht auf der Metallsäule und auf einem Abschnitt eines ersten Zwischenschichtdielektrikums neben der Metallsäule. Der Ansatz umfasst ein Bereitstellen einer ersten Tunnelbarriere auf der ersten Referenzschicht und einer freien Schicht auf der ersten Tunnelbarriereschicht. Der Ansatz umfasst ein Bereitstellen einer zweiten Tunnelbarriere auf der freien Schicht und einer zweiten Referenzschicht auf der zweiten Tunnelbarriere der Halbleiterstruktur des trichterförmigen Spin-Transfer-Drehmoment-MRAM-Bauelements.