EINHEIT MIT DOPPELTEM MAGNETISCHEN TUNNELÜBERGANG MIT INVERTIERTER BREITER BASIS

    公开(公告)号:DE112021000348T5

    公开(公告)日:2022-09-22

    申请号:DE112021000348

    申请日:2021-02-01

    Applicant: IBM

    Abstract: Es ist ein Verfahren zum Herstellen einer Einheit mit doppeltem magnetischen Tunnelübergang vorgesehen. Das Verfahren umfasst ein Ausbilden eines ersten magnetischen Tunnelübergangsstapels (204), Ausbilden einer Spin-leitenden Schicht (206) auf dem ersten magnetischen Tunnelübergangsstapel (204) und Ausbilden eines zweiten magnetischen Tunnelübergangsstapels (704) auf der Spin-leitenden Schicht (206). Der zweite magnetische Tunnelübergangsstapel (704) hat eine Breite, die größer als eine Breite des ersten magnetischen Tunnelübergangsstapels (204) ist. Die Einheit mit doppeltem magnetischen Tunnelübergang kann eine Erhöhung der Schalteffizienz gegenüber einer verwandten Einheit mit einfachem magnetischen Tunnelübergang erreichen und kann ein erhöhtes Magnetowiderstandsverhältnis erreichen, was den Schaltstrom verringert.

    DREIDIMENSIONALE TRICHTERARTIGE SPIN-TRANSFER-DREHMOMENT-MRAM-ZELLE MIT UNGLEICHMÄSSIGER DICKE IN JEDER SCHICHT

    公开(公告)号:DE102021130636A1

    公开(公告)日:2022-06-23

    申请号:DE102021130636

    申请日:2021-11-23

    Applicant: IBM

    Abstract: Ein Ansatz liegt im Bereitstellen eines trichterförmigen magnetoresistiven Spin-Transfer-Drehmoment-Direktzugriffsspeicher-Bauelements (STT-MRAM-Bauelements) mit einem doppelten magnetischen Tunnelübergang. Der Ansatz umfasst ein Bereitstellen einer Metallsäule auf einer Verbindung zu einem Halbleiterbauelement. Der Ansatz umfasst ein Bereitstellen einer ersten Referenzschicht auf der Metallsäule und auf einem Abschnitt eines ersten Zwischenschichtdielektrikums neben der Metallsäule. Der Ansatz umfasst ein Bereitstellen einer ersten Tunnelbarriere auf der ersten Referenzschicht und einer freien Schicht auf der ersten Tunnelbarriereschicht. Der Ansatz umfasst ein Bereitstellen einer zweiten Tunnelbarriere auf der freien Schicht und einer zweiten Referenzschicht auf der zweiten Tunnelbarriere der Halbleiterstruktur des trichterförmigen Spin-Transfer-Drehmoment-MRAM-Bauelements.

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