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公开(公告)号:DE102009028360B3
公开(公告)日:2010-12-09
申请号:DE102009028360
申请日:2009-08-07
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: HOHLFELD OLAF , GOERLICH JENS , BAYERER REINHOLD
Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Schaltungsträgeranordnung (100). Dabei werden ein Träger (1) mit einer Metalloberfläche (1t) bereitgestellt, sowie ein Substrat (2), das einen Isolationsträger (20) umfasst, der eine mit einer unteren Metallisierungsschicht (21) versehene Unterseite (20b) aufweist. Außerdem wird eine Verankerungsstruktur (3) bereitgestellt, die eine Vielzahl länglicher Säulen (31) umfasst, die auf ihrer dem Isolationsträger (20) abgewandten Seite jeweils ein erstes Ende (311) aufweisen. Dabei ist wenigstens eine Teilmenge dieser länglichen Säulen (31) über die gesamte Verankerungsstruktur (3) verteilt. Außerdem gilt für jede der Säulen (31) der Teilmenge, dass von deren Seitenwänden (313) jeweils kein oder höchstens drei längliche Verbindungsstege (32) ausgehen, die sich jeweils zu einer Seitenwand (313) einer anderen länglichen Säule (31) erstrecken und dort mit dieser verbunden sind. Die Verankerungsstruktur (3) wird zwischen dem Isolationsträger (20) und der Metalloberfläche (1t) positioniert. Dann wird die Metalloberfläche (1t) mit der unteren Metallisierungsschicht (21) und der Verankerungsstruktur (3) verlötet, wobei sämtliche Freiräume (5) zwischen der Metalloberfläche (1t) und der unteren Metallisierungsschicht (21) mit Lot (4) verfüllt werden. Mit diesem Verfahren kann z.B. ein Leistungshalbleitermodul (100) hergestellt werden. Hierbei umfasst das Substrat (2) eine obere Metallisierungsschicht (22), die auf der der ...
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公开(公告)号:DE102010037439A1
公开(公告)日:2011-04-21
申请号:DE102010037439
申请日:2010-09-09
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: EDER HANNES , NIKITIN IVAN , SCHNEEGANS MANFRED , GOERLICH JENS , GUTH KARSTEN , HEINRICH ALEXANDER
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公开(公告)号:DE102009002065A1
公开(公告)日:2009-10-15
申请号:DE102009002065
申请日:2009-03-31
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: BAYERER REINHOLD , GOERLICH JENS , GUTH KARSTEN , HOHLFELD OLAF
Abstract: A module includes a metallized substrate including a metal layer, a base plate, and a joint joining the metal layer to the base plate. The joint includes solder contacting the base plate and an inter-metallic zone contacting the metal layer and the solder. The inter-metallic zone has spikes up to 100 μm and a roughness (Rz) of at least 20 μm.
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公开(公告)号:DE102009002065B4
公开(公告)日:2018-12-13
申请号:DE102009002065
申请日:2009-03-31
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: BAYERER REINHOLD , GOERLICH JENS , GUTH KARSTEN , HOHLFELD OLAF
IPC: B23K35/28 , B23K35/26 , H01L23/488
Abstract: Lot umfassend ein Weichlot mit einem Schmelzpunkt von weniger als 450°C, in das eine Anzahl von Teilchen (408) eingebettet ist, die jeweils eine Länge (l408) größer 50 µm aufweisen und die in ihrer Gesamtheit einen Anteil von mindestens 20 Vol% aber von weniger als 60 Vol% des Lotes (600) ausmachen, wobei die Teilchen (408) aus einer intermetallischen Phase gebildet oder mit einer intermetallischen Phase beschichtet sind.
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公开(公告)号:DE102010037439B4
公开(公告)日:2016-07-21
申请号:DE102010037439
申请日:2010-09-09
Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG
Inventor: EDER HANNES , NIKITIN IVAN , SCHNEEGANS MANFRED , GOERLICH JENS , GUTH KARSTEN , HEINRICH ALEXANDER
Abstract: Verfahren, umfassend: Bereitstellen eines Halbleiterchips (10), wobei Halbleitermaterial an einer ersten Oberfläche (11) des Halbleiterchips (10) exponiert ist; Platzieren des Halbleiterchips (10) über einem Träger (12), wobei die erste Oberfläche (11) dem Träger (12) zugewandt ist und elektrisch leitendes Material (13) zwischen dem Halbleiterchip (10) und dem Träger (12) angeordnet ist; und Zuführen von Wärme, um den Halbleiterchip (10) an dem Träger (12) anzubringen, wobei das elektrisch leitende Material (13) beim Zuführen der Wärme gesintert wird.
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