Abstract:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an integrated circuit including a means which includes producing at least one temperature gradient in at least one region of an integrated circuit resulting from a flow of an electric current in at least a part of the integrated circuit during operation of the integrated circuit, and producing electrical energy through that temperature gradient. SOLUTION: The integrated circuit includes: at least one region RG containing at least one thermoelectric material MTH, which is configured to be subjected to at least one temperature gradient produced by a flow of an electric current in at least parts PSTA, PSTB of the integrated circuit during operation of the integrated circuit; and an electric conduction outputting means connected to that region RG, which transfers electric energy produced from the thermoelectric material MTH. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
Abstract:
Utilisation d'au moins une barrière diélectrique non poreuse (90, 91) insérée entre une partie poreuse (800) d'au moins une région diélectrique et l'un au moins de deux éléments électriquement conducteurs (L3, L4) d'une partie d'interconnexion d'un circuit intégré, pour protéger ledit circuit intégré contre un claquage de ladite au moins une région diélectrique provoqué par une conduction électrique assistée par la présence de défauts au sein de ladite au moins une région diélectrique.
Abstract:
De façon à par exemple améliorer le contact ohmique entre deux pièces métalliques (10, 20) situées à un niveau de métallisation (M3), on équipe ces deux pièces de deux vias déportés (101, 201) situés au niveau de métallisation (M3) et au moins partiellement au niveau de vias (V3) immédiatement supérieur. Chaque via déporté comporte par exemple un composé inoxydable ou quasi inoxydable tel qu'une couche barrière en Ti/TiN.
Abstract:
Circuit intégré (CI) comprenant des moyens de protection dudit circuit intégré (CI) comportant un corps électriquement conducteur à potentiel flottant (PC) situé dans le circuit intégré (CI) et ayant une quantité initiale de charges électriques, des moyens de détection (MD) configurés pour détecter une quantité de charges électriques (AC) sur ledit corps (PC) différente de la quantité initiale de charges, et des moyens de commande (MCMD) configurés pour déclencher une action de protection si la quantité de charges détectée (AC) est différente de la quantité initiale.
Abstract:
L'invention concerne une diode Zener comprenant : une jonction de diode Zener formée dans un substrat semi-conducteur (SUB) parallèlement à la surface du substrat entre une région de cathode (CD1) et une région d'anode (AD1), des régions conductrices (BDC, EDC, ED1, NW) configurées pour générer un premier champ électrique perpendiculaire à la jonction de diode Zener, lorsqu'elles sont soumises à des tensions adéquates, et des régions conductrices (GT1, GTC) configurées pour générer un second champ électrique dans le plan de la jonction de diode Zener, lorsqu'elles sont soumises à des tensions adéquates.
Abstract:
Circuit intégré (CI) comprenant un module (ID), un corps électriquement conducteur à potentiel flottant (PC) situé dans le circuit intégré et ayant une quantité initiale de charges électriques, et des moyens de protection configurés pour mettre à la masse une sortie du module (ID) en présence d'une quantité de charges électriques (AC) sur ledit corps (PC) différente de la quantité initiale et supérieure à un seuil.
Abstract:
Procédé de détection d'un amincissement du substrat semi-conducteur d'un circuit intégré depuis sa face arrière, comprenant une mesure d'une grandeur physique représentative de la résistance entre les extrémités (EX11, EX21) de deux contacts électriquement conducteurs (C1, C2) situées à l'interface entre une région isolante (RIS) et une région de substrat sous-jacente (CS), les deux contacts électriquement conducteurs (C1, C2) s'au moins partiellement dans ladite région isolante (RIS).
Abstract:
L'invention concerne une diode Zener comprenant : une région de cathode (CD1) ayant un premier type de conductivité, formée en surface dans un substrat semi-conducteur (SUB) ayant un second type de conductivité, une région d'anode (AD1) ayant le second type de conductivité, formée sous la région de cathode, les régions de cathode et d'anode étant isolées du reste du substrat par des tranchées isolantes (STI1), des premières régions conductrices (CDC, EDC, ED1) configurées, lorsqu'elles sont soumises à des tensions adéquates, pour générer un premier champ électrique perpendiculaire à une interface entre les régions de cathode et d'anode, et des secondes régions conductrices (GT1, GTC) configurées lorsqu'elles sont soumises à des tensions adéquates, pour générer un second champ électrique parallèle à une interface entre les régions de cathode et d'anode.