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公开(公告)号：TW201633004A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW104141799
申请日：2015-12-11
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 芬德斯 喬澤夫 瑪利亞 , FINDERS, JOZEF MARIA
CPC classification number: G03F7/201 , G02B17/0652 , G02B17/0657 , G03F1/72 , G03F7/70125 , G03F7/70275 , G03F7/705
Abstract: 本發明描述一種方法，其包括：量測一微影圖案化裝置之一三維形貌之性質，該圖案化裝置包括一圖案且經建構及配置以在一微影投影系統中之一投影輻射光束之一橫截面中產生一圖案；計算由該等量測性質引起的波前相位效應；將該等計算波前相位效應併入至該微影投影系統之一微影模型中；及基於併有該等計算波前相位效應之該微影模型，判定供使用該微影投影系統之一成像操作使用的參數。
Abstract in simplified Chinese: 本发明描述一种方法，其包括：量测一微影图案化设备之一三维形貌之性质，该图案化设备包括一图案且经建构及配置以在一微影投影系统中之一投影辐射光束之一横截面中产生一图案；计算由该等量测性质引起的波前相位效应；将该等计算波前相位效应并入至该微影投影系统之一微影模型中；及基于并有该等计算波前相位效应之该微影模型，判定供使用该微影投影系统之一成像操作使用的参数。
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公开(公告)号：TW201633003A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW104141580
申请日：2015-12-10
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 芬德斯 喬澤夫 瑪利亞 , FINDERS, JOZEF MARIA
CPC classification number: G03F7/705 , G03F7/70083 , G03F7/70433 , G03F7/706
Abstract: 本發明描述一種方法，其包括：量測一微影圖案化裝置之一圖案之一特徵之一三維形貌；及根據該等量測結果計算由該圖案之該三維形貌導致的波前相位資訊。
Abstract in simplified Chinese: 本发明描述一种方法，其包括：量测一微影图案化设备之一图案之一特征之一三维形貌；及根据该等量测结果计算由该图案之该三维形貌导致的波前相位信息。
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公开(公告)号：TW201632985A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW104141579
申请日：2015-12-10
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 芬德斯 喬澤夫 瑪利亞 , FINDERS, JOZEF MARIA
CPC classification number: G03F7/706 , G03F7/70125 , G03F7/70441 , G03F7/705
Abstract: 本發明描述一種方法，其包括：對於藉由輻射對一微影圖案化裝置之一圖案的一照明，獲得由該圖案之三維形貌導致的計算波前相位資訊；及基於該波前相位資訊且使用一電腦處理器，調整該照明之一參數及/或調整該圖案之一參數。
Abstract in simplified Chinese: 本发明描述一种方法，其包括：对于借由辐射对一微影图案化设备之一图案的一照明，获得由该图案之三维形貌导致的计算波前相位信息；及基于该波前相位信息且使用一电脑处理器，调整该照明之一参数及/或调整该图案之一参数。
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公开(公告)号：TW201632241A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW104141959
申请日：2015-12-14
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 羅伯茲 康納利 馬利亞 , ROPS, CORNELIUS MARIA , 斯透斯 沃特 希爾多羅斯 馬修斯 , STALS, WALTER THEODORUS MATHEUS , 貝瑟斯 大衛 , BESSEMS, DAVID , 加多比吉歐 吉凡尼 路卡 , GATTOBIGIO, GIOVANNI LUCA , 布蘭科 卡巴羅 維特 馬努兒 , BLANCO CARBALLO, VICTOR MANUEL , 優莫林 艾瑞克 亨瑞庫司 艾居迪司 卡薩瑞納 , EUMMELEN, ERIK HENRICUS EGIDIUS CATHARIN , 凡 德 翰 羅納德 , VAN DER HAM, RONALD , 凡 登 禪登 費德瑞克 安東尼斯 , VAN DER ZANDEN, FREDERIK ANTONIUS , 溫拿特 威爾赫馬斯 安東尼爾斯 , WERNAART, WILHELMUS ANTONIUS
CPC classification number: G03B27/52 , B01D19/0005 , B01D19/0021 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70775
Abstract: 本發明提供一種用於一微影設備的流體處理結構，該流體處理結構經組態以含有至一區域之浸潤流體，該流體處理結構在一空間之一邊界處具有：至少一個氣體刀開口，其在該空間之一徑向向外方向上；及至少一個氣體供應開口，其相對於該空間在該至少氣體刀開口之該徑向向外方向上。該氣體刀開口及該氣體供應開口均提供實質上純的CO2氣體，以便鄰近於該空間及自該空間徑向向外提供一實質上純的CO2氣體環境。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种用于一微影设备的流体处理结构，该流体处理结构经组态以含有至一区域之浸润流体，该流体处理结构在一空间之一边界处具有：至少一个气体刀开口，其在该空间之一径向向外方向上；及至少一个气体供应开口，其相对于该空间在该至少气体刀开口之该径向向外方向上。该气体刀开口及该气体供应开口均提供实质上纯的CO2气体，以便邻近于该空间及自该空间径向向外提供一实质上纯的CO2气体环境。
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公开(公告)号：TWI548951B
公开(公告)日：2016-09-11
申请号：TW100146321
申请日：2011-12-14
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 坎班 丹東尼斯 帝朵勒 懷慕斯 , KEMPEN, ANTONIUS THEODORUS WILHELMUS , 洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 華格納 克利斯提恩 , WAGNER, CHRISTIAN , 泰根伯 亨利卡斯 茄德斯 , TEGENBOSCH, HENRICUS GERARDUS , 史溫克斯 格爾達斯 哈柏特斯 彼佐斯 瑪利亞 , SWINKELS, GERARDUS HUBERTUS PETRUS MARIA
CPC classification number: H05G2/006 , G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/008
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TW201631679A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW104139494
申请日：2015-11-26
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 米德克魯克斯 史考特 安德森 , MIDDLEBROOKS, SCOTT ANDERSON , 凡 可拉吉 馬可斯 傑拉度 馬堤司 瑪麗亞 , VAN KRAAIJ, MARKUS GERARDUS MARTINUS MARIA , 帕薩瑞可 馬克辛 , PISARENCO, MAXIM , 庫博曼 安卓尼斯 康納力司 馬修士 , KOOPMAN, ADRIANUS CORNELIS MATHEUS , 亨奇 史蒂芬 , HUNSCHE, STEFAN , 蔻妮 威樂 馬力 朱立亞 麻索 , COENE, WILLEM MARIE JULIA MARCEL
IPC: H01L21/66 , H01L21/027
CPC classification number: G06T7/001 , G03F7/705 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G06T2207/10061 , G06T2207/20068 , G06T2207/30148
Abstract: 本發明描述一種偵測、對位及量化一影像之方法及裝置。該方法可包括：獲得一經微影建立結構之一影像；及將一等位集方法應用於該影像的表示該結構之一物件以建立該結構之一數學表示。該方法可包括：在一參數之一標稱條件下獲得表示一結構之一參考影像物件的一第一資料集；及在該參數之一非標稱條件下獲得表示該結構之一範本影像物件的第二資料集。該方法可進一步包括：獲得表示該第一資料集與該第二資料集之間的改變之一變形場。可藉由變換該第二資料集以將該範本影像物件投影至該參考影像物件上而產生該變形場。可獲得該變形場與該參數之改變之間的一相依性關係。
Abstract in simplified Chinese: 本发明描述一种侦测、对位及量化一影像之方法及设备。该方法可包括：获得一经微影创建结构之一影像；及将一等位集方法应用于该影像的表示该结构之一对象以创建该结构之一数学表示。该方法可包括：在一参数之一标称条件下获得表示一结构之一参考影像对象的一第一数据集；及在该参数之一非标称条件下获得表示该结构之一范本影像对象的第二数据集。该方法可进一步包括：获得表示该第一数据集与该第二数据集之间的改变之一变形场。可借由变换该第二数据集以将该范本影像对象投影至该参考影像对象上而产生该变形场。可获得该变形场与该参数之改变之间的一相依性关系。
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公开(公告)号：TW201631404A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW104138096
申请日：2015-11-18
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 巴塔哈爾亞 卡司徒夫 , BHATTACHARYYA, KAUSTUVE
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70616 , G01B11/24 , G01B11/27 , G03F7/705 , G03F7/70633
Abstract: 一種方法包括：自目標之經量測值判定目標之結構不對稱性之類型；及執行目標之光學量測之模擬以判定與不對稱性類型相關聯的不對稱性參數之值。一種方法包括：執行目標之光學量測之模擬以判定與自目標之經量測值判定的目標之結構不對稱性之類型相關聯的不對稱性參數之值；及分析不對稱性參數對與目標相關聯的目標形成參數之改變之敏感度。一種方法包括：使用由目標繞射之輻射之經量測參數來判定目標之結構不對稱性參數；及基於對與目標相關聯之目標形成參數之改變最不敏感的結構不對稱性參數而判定目標之量測光束之屬性。
Abstract in simplified Chinese: 一种方法包括：自目标之经量测值判定目标之结构不对称性之类型；及运行目标之光学量测之仿真以判定与不对称性类型相关联的不对称性参数之值。一种方法包括：运行目标之光学量测之仿真以判定与自目标之经量测值判定的目标之结构不对称性之类型相关联的不对称性参数之值；及分析不对称性参数对与目标相关联的目标形成参数之改变之敏感度。一种方法包括：使用由目标绕射之辐射之经量测参数来判定目标之结构不对称性参数；及基于对与目标相关联之目标形成参数之改变最不敏感的结构不对称性参数而判定目标之量测光束之属性。
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公开(公告)号：TW201629617A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW105102946
申请日：2016-01-29
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 泰爾 溫 提波 , TEL, WIM TJIBBO , 喬錢森 馬利那 , JOCHEMSEN, MARINUS , 史達爾 法蘭克 , STAALS, FRANK , 普麗緹絲 克里斯多弗 , PRENTICE, CHRISTOPHER , 迪皮兒 羅倫特 麥可 馬歇爾 , DEPRE, LAURENT MICHEL MARCEL , 貝特曼 喬哈奈 馬可斯 瑪麗亞 , BELTMAN, JOHANNES MARCUS MARIA , 渥克曼 羅伊 , WERKMAN, ROY , 威爾登伯格 裘簡 賽巴斯汀 , WILDENBERG, JOCHEM SEBASTIAAN , 摩斯 艾佛哈德斯 柯奈利斯 , MOS, EVERHARDUS CORNELIS
IPC: G03F1/36
CPC classification number: G03F1/70 , G03F1/22 , G03F1/36 , G06T7/0006 , G06T2207/30148
Abstract: 本發明係關於一種方法，其包括判定用於一微影成像系統中之一基板之構形資訊；基於該構形資訊判定或估計該微影成像系統之一影像場中之複數個點之成像誤差資訊；基於該成像誤差資訊調適一圖案化器件之一設計。在一實施例中，基於一微影成像系統之一影像場中之複數個點之成像誤差資訊使計量目標之複數個位置最佳化，其中該最佳化涉及使描述該成像誤差資訊之一成本函數最小化。在一實施例中，基於跨越該影像場的成像要求之差異對位置進行加權。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种方法，其包括判定用于一微影成像系统中之一基板之构形信息；基于该构形信息判定或估计该微影成像系统之一影像场中之复数个点之成像误差信息；基于该成像误差信息调适一图案化器件之一设计。在一实施例中，基于一微影成像系统之一影像场中之复数个点之成像误差信息使计量目标之复数个位置最优化，其中该最优化涉及使描述该成像误差信息之一成本函数最小化。在一实施例中，基于跨越该影像场的成像要求之差异对位置进行加权。
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公开(公告)号：TW201629431A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW105102097
申请日：2016-01-22
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 昆塔尼哈 李察 , QUINTANILHA, RICHARD
CPC classification number: G03F7/70591 , G03F7/70625 , G03F7/70633
Abstract: 藉由為一微影製造系統之部分之一微影裝置(LA)將一圖案施覆至一基板(W)。產生具有大小小於10nm之特徵的結構。目標包含具有一週期性方向(D)之光柵。一偵測器406捕獲一或多個繞射光譜以實施一小角度X射線散射(T-SAXS)度量衡。自所捕獲之該光譜(例如)藉由重新建構計算諸如線寬(CD)之性質。當投影至該基板之一平面上時，該輻照方向相對於與該基板垂直之一方向(N)定義一非零極角(θ)且相對於該週期性方向(D)定義一非零方位角(φ)。藉由選擇一合適方位角，可藉由一重要因素提高該目標之該繞射效率。此允許量測時間相較於已知技術顯著減少。
Abstract in simplified Chinese: 借由为一微影制造系统之部分之一微影设备(LA)将一图案施覆至一基板(W)。产生具有大小小于10nm之特征的结构。目标包含具有一周期性方向(D)之光栅。一侦测器406捕获一或多个绕射光谱以实施一小角度X射线散射(T-SAXS)度量衡。自所捕获之该光谱(例如)借由重新建构计算诸如线宽(CD)之性质。当投影至该基板之一平面上时，该辐照方向相对于与该基板垂直之一方向(N)定义一非零极角(θ)且相对于该周期性方向(D)定义一非零方位角(φ)。借由选择一合适方位角，可借由一重要因素提高该目标之该绕射效率。此允许量测时间相较于已知技术显着减少。
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公开(公告)号：TW201627777A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104140813
申请日：2013-05-27
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor： 克佛耶茲 安卓尼斯 亨瑞克 , KOEVOETS, ADRIANUS HENDRIK , 當德斯 史喬德 尼可拉斯 藍伯特斯 , DONDERS, SJOERD NICOLAAS LAMBERTUS , 菲恩 曼諾 , FIEN, MENNO , 德 葛路特 安東尼司 法蘭西斯科司 喬漢尼司 , DE GROOT, ANTONIUS FRANCISCUS JOHANNES , 胡甄丹 克莉絲汀娜 艾利珊卓 , HOOGENDAM, CHRISTIAAN ALEXANDER , 賈庫博 喬漢斯 亨利哈斯 威廉瑪斯 , JACOBS, JOHANNES HENRICUS WILHELMUS , 添 凱特 尼可拉斯 , TEN KATE, NICOLAAS , 豪班 馬提恩 , HOUBEN, MARTIJN , 拉法瑞 雷孟德 威黑墨斯 路易斯 , LAFARRE, RAYMOND WILHELMUS LOUIS , 威斯特雷肯 禎 史蒂芬 克里斯丁 , WESTERLAKEN, JAN STEVEN CHRISTIAAN , 奧維卡皮 金 文森 , OVERKAMP, JIM VINCENT , 凡 比茲南 馬登 , VAN BEIJNUM, MAARTEN , 德 瓊 羅伯 , DE JONG, ROB
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70733
Abstract: 一種用於一微影裝置之支撐裝置，其具有一物件固持器及一抽取本體，該抽取本體自該物件固持器徑向地向外。該物件固持器經組態以支撐一物件。該抽取本體包括經組態以自該支撐裝置之一頂部表面抽取流體之一抽取開口。該抽取本體係與該物件固持器隔開，使得該抽取本體自該物件固持器實質上解耦。該抽取本體包含一突出物，該突出物經組態成使得其環繞該物件固持器，且使得在使用時，一液體層保留於該突出物上且接觸該物件固持器上支撐之一物件。
Abstract in simplified Chinese: 一种用于一微影设备之支撑设备，其具有一对象固持器及一抽取本体，该抽取本体自该对象固持器径向地向外。该对象固持器经组态以支撑一对象。该抽取本体包括经组态以自该支撑设备之一顶部表面抽取流体之一抽取开口。该抽取本体系与该对象固持器隔开，使得该抽取本体自该对象固持器实质上解耦。该抽取本体包含一突出物，该突出物经组态成使得其环绕该对象固持器，且使得在使用时，一液体层保留于该突出物上且接触该对象固持器上支撑之一对象。
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