公开(公告)号：KR100569734B1

公开(公告)日：2006-08-18

申请号：KR1019970080215

申请日：1997-12-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정환

IPC: G09G3/36

Abstract: 이 발명은 액정 표시 장치의 계조전압 생성에 사용되며, 기준전압의 프로그래밍이 가능한 감마 기준전압 발생회로에 관한 것으로서,
전원전압(VCC)을 증폭하여 기준전압(Vr1∼Vrn)을 각각 생성하는 다수의 증폭기(62∼64); 상기 각 증폭기의 입력단과 출력단 사이의 피드백 경로 상에 연결되며, 상기 증폭기의 이득을 각각 조정하는 다수의 이득 조정부(65∼67); 및 상기 각 이득 조정부에 제공하기 위한 다수의 이득 데이타를 저장하고 있으며, 기준전압의 값을 설정하는 단계에서 상기 각 이득 데이타는 외부 액세스에 의해 제어신호와 데이타 신호를 통해 프로그램되는 프로그램가능 롬(61)으로 구성되어,
컴퓨터 액세스에 의해 각 기준전압의 값을 독립적으로 설정할 수 있도록 함으로써 정확한 기준전압을 생성할 수 있고, 저항열과 버퍼 대신 이득 조정 가능한 증폭기와 롬을 이용하여 구현되므로, 원칩으로 제작될 수 있다.

公开(公告)号：KR100597646B1

公开(公告)日：2006-07-05

申请号：KR1020040078199

申请日：2004-10-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 장원준 ,  김정환 ,  이재동 ,  유영섭 ,  이상훈 ,  임헌형

IPC: H01L27/115

CPC classification number: H01L27/11521 ,  H01L27/115

Abstract: 플로팅 게이트 내부의 균열 발생에 의한 후속 공정의 불량을 방지하기 위한 플로팅 게이트 제조 방법을 개시한다. 본 발명에 의한 플래쉬 메모리의 메모리 셀을 구성하는 플로팅 게이트 제조 방법은 STI 소자 분리막들 간에 형성된 터널 산화막의 상부, 상기 STI 소자 분리막들의 일부 측부 및 일부 상부 상에 플로팅 게이트의 일부를 형성할 제1 폴리실리콘 층을 형성하는 단계, 상기 형성된 제1 폴리실리콘층의 표면을 일정깊이로 산화되도록 하여 산화막을 상기 제1 폴리실리콘층의 상부 일정부분에 형성하는 단계 및 상기 산화막을 모두 식각하고 나서, 상기 제1 폴리실리콘층과 함께 상기 플로팅 게이트를 구성할 제2 폴리실리콘층을 형성하는 단계를 적어도 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서 플로팅 게이트로 사용되는 폴리실리콘층 내부의 균열을 없애어 후속공정에 의한 ONO 층간유전층의 신뢰성을 높이는 반도체 장치를 제조방법을 제공할 수 있다.
플래쉬 메모리, 플로팅 게이트, 폴리실리콘, STI

公开(公告)号：KR100587670B1

公开(公告)日：2006-06-08

申请号：KR1020040001144

申请日：2004-01-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이웅 ,  유영섭 ,  임헌형 ,  나기수 ,  강만석 ,  김정환 ,  이재동

IPC: H01L21/8247

CPC classification number: H01L29/66825 ,  H01L21/022 ,  H01L21/0223 ,  H01L21/02238 ,  H01L21/02255 ,  H01L21/28273 ,  H01L21/3144 ,  H01L21/31662 ,  H01L29/513

Abstract: 본 발명은 비휘발성 메모리 셀의 유전막 형성방법에 관한 것으로, 본발명의 하부 산화막, 질화막 및 상부 산화막이 순차적으로 적층된 3중 유전막 구조를 갖는 비휘발성 메모리 셀의 유전막 형성방법은, 상기 하부산화막을 ISSG를 이용한 래디컬 산화방식으로 형성하는 단계와; 상기 하부산화막의 상부에 상기 질화막을 형성하는 단계와; 상기 질화막의 상부에 상기 상부산화막을, ISSG를 이용한 래디컬 산화방식으로 상기 하부 산화막의 두께보다 두껍게 형성하는 단계를 구비한다. 본 발명에 따르면, 신뢰성 있는 산화막의 형성을 통하여 누설전류가 작고, 전하 리텐션 특성 개선 및 유전막의 두께조절이 가능하여 고집적이 가능한 메모리 소자의 형성이 가능해진다.
유전막, 플로팅, 컨트롤, 산화막, 래디컬 산화

公开(公告)号：KR100583609B1

公开(公告)日：2006-05-26

申请号：KR1020040051880

申请日：2004-07-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이웅 ,  유영섭 ,  임헌형 ,  형용우 ,  이재동 ,  나기수 ,  김정환

IPC: H01L21/8247

CPC classification number: H01L27/115 ,  H01L21/28247 ,  H01L27/11568 ,  H01L29/4933

Abstract: 미세한 선폭을 갖는 반도체 장치의 게이트 구조물 형성방법에서 먼저, 반도체 기판 상에 게이트 산화막 패턴 및 도전막 패턴이 순차적으로 적층된 예비 게이트 구조물을 형성한다. 이어서, 상기 예비 게이트 구조물이 형성된 반도체 기판에 산소 원자를 포함하는 라디칼을 이용한 재산화(re-oxidation) 공정을 수행하여 상기 반도체 기판 및 상기 예비 게이트 구조물의 외부 표면에 산화막을 형성하여 반도체 장치의 게이트 구조물을 형성한다. 게이트 산화막 패턴의 두께 증가를 억제한다. 또한, 좋은 품질(quality)의 산화막을 얻는다.

公开(公告)号：KR1020060044104A

公开(公告)日：2006-05-16

申请号：KR1020040091909

申请日：2004-11-11

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김진철 ,  심우정 ,  김정환

IPC: G03G15/00

CPC classification number: G03G15/5058 ,  G03G15/0849 ,  G03G15/5041 ,  G03G2215/00042

Abstract: 본 발명은 모든 현상기용 테스트 패치를 포함하는 하나의 테스트 패턴을 사용하여 농도 측정 소요 시간을 감소시킬 수 있는 멀티패스 방식 컬러 프린터의 화상 농도 측정 방법 및 장치에 관한 것이다. 이를 위한 방법은 멀티패스의 전자사진 방식 컬러 프린터에서 화상 농도를 측정하는 방법에 있어서, 모든 현상기용 테스트 패치를 감광체에 현상하는 단계, 상기 현상된 테스트 패치의 화상의 농도를 측정하는 단계, 및 상기 측정된 화상 농도에 따라 현상 변수를 제어하는 단계를 포함한다. 이로써, 본 발명에 따르면, 멀티패스 방식의 컬러 프린터에서 모든 현상기용 테스트 패치를 포함하는 하나의 테스트 패턴을 사용하여 농도 측정 소요 시간을 감소시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR100521269B1

公开(公告)日：2006-01-12

申请号：KR1019980031092

申请日：1998-07-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정환

IPC: G02F1/133 ,  G02F1/136

Abstract: 이 발명은 게이트 드라이브 IC 내부에 형성된 버퍼를 통해 연결된 수리선을 사용하여 단선 불량의 데이터 라인을 수리할 수 있는 액정 표시 장치 패널에 관한 것으로서,
화면의 가로 방향으로 형성되어 게이트 드라이브 IC로부터 출력되는 게이트 신호를 전달하는 다수의 게이트 라인과, 상기 게이트 라인과 각각 교차하도록 세로 방향으로 형성되어 데이터 드라이브 IC로부터 출력되는 화소 데이터 신호를 전달하는 다수의 데이터 라인과, 상기 게이트 라인과 데이터 라인이 교차하는 부분에 형성되어 상기 게이트 신호와 화소 데이터 신호에 의해 구동되는 액정 화소와, 상기 데이터 라인의 단선 결함 발생시 이를 수리하기 위해 액정 표시 장치 패널의 최상측 및 최하측에서 상기 게이트 라인과 각각 평행하게 형성된 제1, 제2 부분과 이 두 부분을 연결하기 위해 상기 게이트 드라이브 IC를 포함하고 있는 게이트 PCB에 형성되는 제3 부분으로 이루어져 있는 수리선과, 상기 데이터 라인의 단선 결함 수리시 상기 데이터 드라� ��브 IC의 구동 능력을 향상시키기 위해 상기 게이트 드라이브 IC 내부에 형성되며 상기 수리선의 제3 부분 중간에 연결되는 버퍼 회로를 포함한다.

公开(公告)号：KR100476957B1

公开(公告)日：2005-03-16

申请号：KR1020020043416

申请日：2002-07-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정환 ,  최경철

IPC: H02M3/335

CPC classification number: H02M1/36 ,  G06F1/26 ,  Y10T307/406

Abstract: 전자기기의 전원 제어장치가 개시된다. 전원 제어장치는 전원코드로부터 공급되는 교류전압을 정류하여 출력하는 제1정류부와, 제1정류부에 의해 정류된 전압을 인가받을 수 있도록 결선된 1차권선과, 1차권선과 커플링된 2차권선을 갖는 트랜스포머와, 1차권선으로의 전류공급을 온/오프 시킬 수 있도록 설치된 제1스위칭부 및 외부로부터 인가되는 파워 온 신호의 수신여부에 따라 제1스위칭부를 온/오프 스위칭 시킬 수 있도록 제어신호를 출력하는 전원제어부를 구비한다. 이에 의해, 기기로 전력을 공급 또는 차단할 수 있으며, 스위치의 내압문제도 개선할 수 있다. 또한, 호스트 컴퓨터로부터 기기를 제어하기 위한 일 요소의 구동을 위해 구동전압을 공급하지 않더라도 보조전원을 이용함으로써 전력공급을 제어할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020040064341A

公开(公告)日：2004-07-19

申请号：KR1020030001569

申请日：2003-01-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정환

IPC: H01L21/28

Abstract: PURPOSE: A method for forming a bitline of a semiconductor device is provided to guarantee selectivity of photoresist by increasing source power for controlling a plasma density in patterning a bitline and by increasing an etch rate of a conductive layer as compared with an etch rate of a photoresist pattern. CONSTITUTION: A conductive layer is formed on a predetermined insulation layer. A photoresist pattern is formed on the conductive layer. The conductive layer is patterned to form a bitline(600) by an etch process using the photoresist pattern as a mask. Plasma is used in the etch process, and the source power for controlling the density of the plasma is controlled to increase the etch rate of the conductive layer as compared with the etch rate of the photoresist pattern.

Abstract translation: 目的：提供一种用于形成半导体器件的位线的方法，以通过增加用于控制位线图案中的等离子体密度的源功率和通过增加导电层的蚀刻速率来提高光致抗蚀剂的选择性 光刻胶图案。 构成：在预定绝缘层上形成导电层。 在导电层上形成光刻胶图形。 将导电层图案化以通过使用光致抗蚀剂图案作为掩模的蚀刻工艺形成位线（600）。 在蚀刻过程中使用等离子体，并且控制用于控制等离子体的密度的源功率与光致抗蚀剂图案的蚀刻速率相比增加导电层的蚀刻速率。

公开(公告)号：KR1020040040687A

公开(公告)日：2004-05-13

申请号：KR1020020068882

申请日：2002-11-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박광영 ,  김정환

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A photo lithography system for manufacturing a semiconductor device is provided to be capable of reducing the number of units for improving throughput. CONSTITUTION: A photo lithography system is provided with a coater(200) for carrying out a coating process on a semiconductor substrate, a developer(400) installed at one side of the coater, an exposer(500) opposite to the coater, and a staying part(300) between the coater and the developer. The coater includes the first transfer arm(250) at its center portion, a coating unit(230), and the first bake unit(240). The developer includes the second transfer arm(450), a developing unit(430), and the second bake unit(440). The staying part includes the first cooling plate(320) for cooling the semiconductor substrate supplied from the first bake unit. Preferably, the staying part further includes the second cooling plate(340) for cooling the semiconductor substrate supplied from the second bake unit.

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造半导体器件的光刻系统，以能够减少用于提高生产量的单元数量。 构成：光刻系统具有用于在半导体衬底上进行涂覆处理的涂布机（200），安装在涂布机一侧的显影剂（400），与涂布机相对的曝光器（500），以及 在涂布机和显影剂之间留下部分（300）。 涂布机在其中心部分包​​括第一传送臂（250），涂覆单元（230）和第一烘烤单元（240）。 显影剂包括第二转印臂（450），显影单元（430）和第二烘烤单元（440）。 停留部分包括用于冷却从第一烘烤单元供应的半导体衬底的第一冷却板（320）。 优选地，保持部还包括用于冷却从第二烘烤单元供应的半导体衬底的第二冷却板（340）。

公开(公告)号：KR1020040003862A

公开(公告)日：2004-01-13

申请号：KR1020020038687

申请日：2002-07-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김정환

IPC: B41J25/308

CPC classification number: B41J25/308

Abstract: PURPOSE: An apparatus and a method for adjusting a head gap of an ink jet printer are provided to automatically adjust a gap formed between a paper and a printer head depending on thickness of the paper. CONSTITUTION: A head gap adjusting apparatus(200) is installed in an ink jet printer. The ink jet printer(200) includes a carrier lifting section for lifting a carrier(120) having a printer head(130), clutch devices(190), and a control section. The clutch devices(190) transfer driving force of a paper feeding roller driving section(161) to a carrier shaft(150) in order to lift up the carrier(120) through the carrier lifting section by rotating the carrier shaft(150) with respect to the carrier(120) when adjusting a head gap. A state of the head gap is stored in the control section. The control section adjusts a position of the head gap depending on the state of the head gap.

Abstract translation: 目的：提供一种用于调节喷墨打印机的打印头间隙的装置和方法，以根据纸张的厚度来自动调节在纸张和打印头之间形成的间隙。 构成：头部间隙调节装置（200）安装在喷墨打印机中。 喷墨打印机（200）包括用于提升具有打印头（130），离合器装置（190）和控制部分的托架（120）的托架提升部分。 离合器装置（190）将送纸辊驱动部分（161）的驱动力传递到行星架轴（150），以便通过使行星架轴（150）旋转来提升托架（120），通过托架提升部分 当调节头间隙时，相对于载体（120）。 头部间隙的状态存储在控制部中。 控制部根据头部间隙的状态来调整头部间隙的位置。