HALBLEITERBAUTEIL
    101.
    发明申请
    HALBLEITERBAUTEIL 审中-公开

    公开(公告)号:WO2019076900A1

    公开(公告)日:2019-04-25

    申请号:PCT/EP2018/078253

    申请日:2018-10-16

    Abstract: Halbleiterbauteil umfassend - einen ersten Halbleiterkörper (1) mit einem Substrat (10), das eine erste Dicke hat, sowie - einen zweiten Halbleiterkörper (2), die eine zweite Dicke geringer als die erste Dicke hat, eine Abrissstelle (40) aufweist, auf dem Substrat (10) angeordnet und elektrisch leitend mit dem ersten Halbleiterkörper(1) verbunden ist.

    VERFAHREN ZUM VEREINZELN VON HALBLEITERBAUTEILEN UND HALBLEITERBAUTEIL

    公开(公告)号:WO2019057610A1

    公开(公告)日:2019-03-28

    申请号:PCT/EP2018/074815

    申请日:2018-09-13

    CPC classification number: H01L21/78

    Abstract: Es wird ein Verfahren zum Vereinzeln von Halbleiterbauteilen (25) angegeben mit den Schritten: • - Bereitstellen eines Trägers (11) mit einer Haupterstreckungsebene, • - Aufbringen von mindestens zwei Halbleiterchips (10) auf den Träger (11), • - Erzeugen von Bruchkeimen (12) im Träger (11), die entlang mindestens einer Trennachse (13) angeordnet sind, welche parallel zur Haupterstreckungsebene des Trägers (11) verläuft, • - Aufbringen des Trägers (11) auf eine Folie, wobei die Folie an der den Halbleiterchips (10) abgewandten Seite des Trägers (11) angeordnet ist, • - Vereinzeln der mindestens zwei Halbleiterchips (10) und des Trägers (11) durch Expandieren der Folie in lateralen Richtungen (x), welche parallel zur Haupterstreckungsebene des Trägers (11) sind, wobei • - der Träger (11) entlang mindestens einer Trennebene (14) zertrennt wird, welche von einer vertikalen Richtung (z) und der Trennachse (13) aufgespannt wird, wobei die vertikale Richtung (z) senkrecht zur Haupterstreckungsebene des Trägers (11) ist, und • - in den Träger (11) mindestens eine elektrisch isolierende Isolationsschicht (15) eingebracht ist, welche sich parallel zur Haupterstreckungsebene des Trägers (11) erstreckt. Außerdem wird ein Halbleiterbauelement (25) angegeben.

    LICHTEMITTIERENDER HALBLEITERCHIP UND ANZEIGEVORRICHTUNG

    公开(公告)号:WO2019025442A1

    公开(公告)日:2019-02-07

    申请号:PCT/EP2018/070736

    申请日:2018-07-31

    CPC classification number: H01L27/156 H01L25/167

    Abstract: Es wird ein lichtemittierender Halbleiterchip (1) mit einer Emissionsfläche (1a) angegeben, welche mit einer Vielzahl von ersten Emissionsbereichen (10) und zweiten Emissionsbereichen (20) gebildet ist. Die ersten Emissionsbereiche (10) und die zweiten Emissionsbereiche (20) sind dazu eingerichtet Licht (L) eines vorgebbaren Farbortes zu emittieren. Die die ersten und zweiten Emissionsbereiche (10, 20) sind separat voneinander ansteuerbar und sind in einer ersten Ebene (E1) nebeneinander angeordnet. Alle zweiten Emissionsbereiche (20) bilden zumindest einen Teil einer Außenkante (101, 102, 103, 104) der Emissionsfläche (1a) und erste Emissionsbereiche (10) weisen entlang zumindest einer Richtung, die in der ersten Ebene (E1) liegt, eine geringere Ausdehnung als zweite Emissionsbereiche (20) auf.

    LASERDIODE UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER LASERDIODE

    公开(公告)号:WO2018220062A3

    公开(公告)日:2018-12-06

    申请号:PCT/EP2018/064274

    申请日:2018-05-30

    Abstract: Laserdiode (1) umfassend - einen oberflächenemittierenden Halbleiterlaser (10), welcher dazu eingerichtet ist elektromagnetische Strahlung (E) zu emittieren, und - ein optisches Element (20), welches dem Halbleiterlaser (10) in einer Abstrahlrichtung (L) nachgeordnet ist, wobei - das optische Element (20) eine diffraktive Struktur (200) oder eine Meta-Optik-Struktur (200) oder eine Linsenstruktur (200) umfasst, und - das optische Element (20) und der Halbleiterlaser (10) stoffschlüssig miteinander verbunden sind.

    LASERBARREN UND HALBLEITERLASER SOWIE VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON LASERBARREN UND HALBLEITERLASERN

    公开(公告)号:WO2018192882A1

    公开(公告)日:2018-10-25

    申请号:PCT/EP2018/059687

    申请日:2018-04-16

    Abstract: Es wird ein Verfahren zur Herstellung von Laserbarren oder von Halbleiterlasern angegeben, bei dem ein Trägerverbund zur Bildung einer Mehrzahl von Trägern für die Laserbarren oder für die Halbleiterlaser bereitgestellt wird. Es wird zudem ein Halbleiterkörperverbund bereitgestellt, der ein gemeinsames Substrat und eine darauf aufgewachsene gemeinsame Halbleiterschichtenfolge umfasst. Eine Mehrzahl von Trenngräben wird durch die gemeinsame Halbleiterschichtenfolge hindurch erzeugt, sodass der Halbleiterkörperverbund in eine Mehrzahl von Halbleiterkörpern unterteilt wird. Der Halbleiterkörperverbund wird auf dem Trägerverbund derart angebracht, dass die Trenngräben dem Trägerverbund zugewandt sind. Das gemeinsame Substrat wird gedünnt oder von der Halbleiterschichtenfolge entfernt. Der Trägerverbund wird in eine Mehrzahl von Trägern vereinzelt, wobei mehrere Halbleiterkörper auf einem der Träger angeordnet sind und wobei die auf einem gemeinsamen Träger angeordneten Halbleiterkörper durch die Trenngräben voneinander lateral beabstandet sind. Des Weiteren wird ein Halbleiterlaser oder eine Laserbarren angegeben, der durch ein solches Verfahren herstellbar ist.

    3D-ANZEIGEELEMENT
    107.
    发明申请
    3D-ANZEIGEELEMENT 审中-公开

    公开(公告)号:WO2018162560A2

    公开(公告)日:2018-09-13

    申请号:PCT/EP2018/055610

    申请日:2018-03-07

    Abstract: 3D-Anzeigelement (1) umfassend - ein lichtemittierendes Bauteil (10), welches dazu eingerichtet ist Licht (L) zu emittieren, und - eine optische Anordnung (20), die dazu eingerichtet ist das Licht (L) zu beeinflussen, wobei - das lichtemittierende Bauteil eine Vielzahl von Tripletts (100) mit jeweils einem ersten (101), einem zweiten (102) und einem dritten (103) lichtemittierenden Bereich umfasst, - die Tripletts (100) in einer ersten lateralen Ebene (E1) nebeneinander angeordnet sind, - die Bereiche (101, 102, 103) in der ersten lateralen Ebene (E1) nebeneinander angeordnet sind, - die optische Anordnung (20) durchlaufendes Licht (L) zueinander benachbarter Triplets (100) divergiert, und - die optische Anordnung (20) durchlaufendes Licht (L) eines Tripletts durchmischt.

    OBERFLÄCHENMONTIERBARER HALBLEITERLASER, ANORDNUNG MIT EINEM SOLCHEN HALBLEITERLASER UND BETRIEBSVERFAHREN HIERFÜR

    公开(公告)号:WO2018114812A1

    公开(公告)日:2018-06-28

    申请号:PCT/EP2017/083328

    申请日:2017-12-18

    Abstract: In einer Ausführungsform ist der Halbleiterlaser (1) oberflächenmontierbar und umfasst eine Halbleiterschichtenfolge (2), die einen zur Erzeugung von Laserstrahlung (L) eingerichteten Erzeugungsbereich (22) zwischen einer p-Seite (p) und einer n-Seite (n) beinhaltet. Weiterhin umfasst der Halbleiterlaser zwei Kontaktflächen (31, 32) zur externen elektrischen Kontaktierung der p-Seite (p) und der n-Seite (n). Dabei ist der Erzeugungsbereich (22) dazu eingerichtet, gepulst mit zeitweisen Stromdichten von mindestens 30 A/mm 2 betrieben zu werden. Die Kontaktflächen (31, 32) befinden sich an derselben Seite der Halbleiterschichtenfolge (2) in einer gemeinsamen Ebene, sodass der Halbleiterlaser (1) bonddrahtfrei kontaktierbar ist.

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