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公开(公告)号：CN102327119A
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN201110145877.6
申请日：2011-06-01
Applicant: 西门子公司
Inventor： 菲利普.伯恩哈特
IPC: A61B6/00
CPC classification number: G21K1/06 , A61B6/4035 , A61B6/4441 , A61B6/544 , B82Y10/00 , G21K2201/061 , G21K2201/062 , G21K2201/067
Abstract: 对于具有高的射线强度的准单色X射线，设置用于产生用于照射对象的准单色X射线的X射线装置，该X射线装置具有用于发送多色X射线的点状的射线源和用于衍射多色X射线的衍射装置，该衍射装置具有由具有平的表面的结晶材料构成的超镜，在该超镜中，结晶材料具有晶格的晶格层面距离的至少一个、特别是连续的变化，其中这样布置射线源和衍射装置，使得从多色X射线通过在超镜上的部分反射产生准单色X射线。
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公开(公告)号：CN102187441A
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200980142397.5
申请日：2009-10-20
Applicant: 应用材料股份有限公司
IPC: H01L21/324 , H01L21/205
CPC classification number: G21K1/062 , B82Y10/00 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067
Abstract: 一种用于紫外线灯的反射器，其可使用于基材处理设备中。该反射器包含延伸该紫外线灯长度的纵向带。该纵向带具有一弯曲反射表面并且包含数个穿透孔洞以导引冷却剂气体朝向该紫外线灯。在此亦描述使用附有反射器的紫外线灯模块的腔室以及紫外线处理的方法。
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公开(公告)号：CN101341552A
公开(公告)日：2009-01-07
申请号：CN200680025317.4
申请日：2006-05-19
Applicant: 单色X光滤光器技术公司
Inventor： 赵龙敏
IPC: G21K3/00
CPC classification number: G21K1/062 , B82Y10/00 , G21K1/10 , G21K2201/067
Abstract: 一种可层叠的支架可包括：至少两个导轨，每一个导轨的截面具有类似楼梯的形状，其第一台阶部分提供其上可设置反射器的第一表面；并且其第二台阶部分提供能够支撑另一个导轨的第二表面。一种制造窄带X射线过滤器的方法可包括：提供衬底；并且在衬底上连续地层叠一个或多个反射单元，每一个反射单元包含支架(例如上述的支架)和由支架保持的反射器。一种用于生产基本窄带X射线束的设备可以包括这种过滤器。一种用于形成受验体的X射线影像的设备可包括：例如如上所述的用于产生基本窄带X射线束的设备，以及布置成用于接收窄带X射线的X射线探测器。
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公开(公告)号：CN1821868A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200610008641.7
申请日：2006-02-20
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F1/00
CPC classification number: G21K1/062 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/24 , G21K2201/067
Abstract: 一种光掩模及其方法。在示例方法中，该光掩模可以通过以下步骤制造：在表面上形成氧化物层；构图所述氧化物层以形成氧化物图案，所述氧化物图案包括多个氧化物图案主体和多个氧化物窗口；用吸收剂填充所述多个氧化物窗口以形成吸收剂图案；以及减少所述多个氧化物图案主体。示例的光掩模可以包括基于氧化物图案的吸收剂图案，其包括多个吸收剂图案主体和多个吸收剂图案窗口。
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公开(公告)号：CN1797192A
公开(公告)日：2006-07-05
申请号：CN200510124778.4
申请日：2005-11-15
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供一种反射光掩模，允许在光刻中将用于吸收EUV射线的吸收剂图形的设计形状正确转移到硅晶片，所述光掩模包括：衬底，由反射EUV射线的材料构成、形成在衬底上的反射层，以及通过使用离子注入注入吸收EUV射线的吸收剂的离子形成在反射层上的具有预定图形的离子区段。本发明还提供一种制造反射光掩模的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1470944A
公开(公告)日：2004-01-28
申请号：CN03147209.5
申请日：2003-06-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·库尔特
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC classification number: G21K1/06 , G02B1/105 , G02B1/113 , G02B1/14 , G02B5/0891 , G03F7/70233 , G03F7/70958 , G03F7/70983 , G21K2201/067
Abstract: 光刻投射装置的多光学层光学元件，其中至少一个光学层包含Mo和Cr合金。该层可以形成Mo/Si层系统的最外层，可选择地带有Ru外保护层。此外，多光学层光学元件可以包含多个置于Mo/Cr合金层之间的层。
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公开(公告)号：CN1069136C
公开(公告)日：2001-08-01
申请号：CN96101194.7
申请日：1996-02-17
IPC: G02B3/00
CPC classification number: B82Y10/00 , G03F7/70166 , G21K1/06 , G21K2201/064 , G21K2201/067
Abstract: 一种整体X光透镜及其制造方法和应用，该透镜包含多个从一端贯通到另一端的X光导孔，其特点在于：该透镜为没有支撑部件的、且由上述X光导孔壁自身熔合而成的、单一的玻璃固体，它可在很宽的波长范围内调控X光，将其会聚成很小的束斑或转化为准平行光束，也可与X光导管或光阑组成组合体，以进一步提高X光功率密度，它的占空比高、结构小巧；该透镜采用在加热炉内将玻璃管拉伸，一次或多次复合方法一次拉制成型，因此工艺简单、省时、造价低，可应用于荧光分析仪、衍射仪及光刻装置中。
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公开(公告)号：CN1192538A
公开(公告)日：1998-09-09
申请号：CN98105604.0
申请日：1998-01-20
Applicant: 日本皮拉工业株式会社
Inventor： 谷野吉弥
IPC: G02B1/10
CPC classification number: G02B5/0891 , G21K1/06 , G21K2201/067
Abstract: 本发明的目的是提供对激光等高能光束照射具有充分耐力并适合用作高能光束用的反射镜、衍射光栅等的镜面体。本发明的镜面体是在作为碳化硅烧结体的基体(2)的表面上被覆形成由化学蒸镀的碳化硅膜(3),将该膜表面加工成镜面(3A)。在离碳化硅膜(3)的镜面300A以内深度d范围内存在碳化硅的无缺陷结晶层(3b)。碳化硅膜(3)形成强取向的结晶,以便使在用密勒指数表示的特定的一个结晶面[例如(220)面]上X射线的衍射强度比达到峰值强度的90%以上。
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公开(公告)号：CN1184950A
公开(公告)日：1998-06-17
申请号：CN97121871.4
申请日：1997-12-10
Applicant: 大宇电子株式会社
CPC classification number: G21K1/06 , G02B26/0858 , G21K2201/067
Abstract: 一种制造在光学投影系统中使用的M×N薄膜致动反射镜的方法,包括有步骤:制备一有源矩阵,该有源矩阵包括一基底和一M×N连接端子阵列;顺序地在该有源矩阵的顶上沉积一钝化层、腐蚀剂阻止层和薄膜待除层、第一掩膜层、第二掩膜层;分别蚀刻第一掩膜层和薄膜待除层,在该薄膜待除层中形成一M×N对空腔阵列;去除第二掩膜层和第一掩膜层;在薄膜待除层的顶上形成一M×N致动机构阵列;及去除该薄膜待除层,从而形成M×N薄膜致动反射镜阵列。
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公开(公告)号：NL2005622C
公开(公告)日：2012-03-14
申请号：NL2005622
申请日：2010-11-04
Applicant: MEDIA LARIO SRL
Inventor： PEDRALI MARCO , GHISLANZONI RICCARDO
CPC classification number: G21K1/06 , C25D1/02 , C25D1/22 , C25D5/02 , C25D5/14 , G02B7/1815 , G02B19/0019 , G02B19/0095 , G03F7/70175 , G03F7/70891 , G21K1/067 , G21K2201/064 , G21K2201/065 , G21K2201/067 , Y10T29/4935
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