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公开(公告)号:TW201602737A
公开(公告)日:2016-01-16
申请号:TW104119469
申请日:2015-06-16
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor: 克歇梅克斯 山德 , KERSSEMAKERS, SANDER , 丹 邦伊 威海明司 派特斯 , DE BOEIJ, WILHELMUS PETRUS , 德 蘭奇 葛本 法蘭克 , DE LANGE, GERBEN FRANK , 胡甄丹 克莉絲汀娜 艾利珊卓 , HOOGENDAM, CHRISTIAAN ALEXANDER , 凡 吉斯 比卓斯 法新克司 , VAN GILS, PETRUS FRANCISCUS , 卡敏加 吉而摩 馬修斯 , 庫特 簡 傑彼 , KUIT, JAN JAAP , 斯庫爾曼斯 卡羅斯 裘漢斯 凱薩琳娜 , SCHOORMANS, CAROLUS JOHANNES CATHARINA
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70425 , G03F7/70433 , G03F7/707 , G03F7/70716
Abstract: 一種微影設備,其包含:一支撐結構,其經組態以在支撐在掃描方向上具有一第一廣度的一圖案化裝置時在一單一掃描操作期間移動達一第一掃描距離,且在支撐在該掃描方向上具有一第二廣度的一圖案化裝置時在一單一掃描操作期間移動達一第二掃描距離;及一基板台,其經組態以在該支撐結構支撐在該掃描方向上具有該第一廣度的一圖案化裝置時在一單一掃描操作期間移動達一第三掃描距離,且在該支撐結構支撐在該掃描方向上具有該第二廣度的一圖案化裝置時在一單一掃描操作期間移動達一第四掃描距離。
Abstract in simplified Chinese: 一种微影设备,其包含:一支撑结构,其经组态以在支撑在扫描方向上具有一第一广度的一图案化设备时在一单一扫描操作期间移动达一第一扫描距离,且在支撑在该扫描方向上具有一第二广度的一图案化设备时在一单一扫描操作期间移动达一第二扫描距离;及一基板台,其经组态以在该支撑结构支撑在该扫描方向上具有该第一广度的一图案化设备时在一单一扫描操作期间移动达一第三扫描距离,且在该支撑结构支撑在该扫描方向上具有该第二广度的一图案化设备时在一单一扫描操作期间移动达一第四扫描距离。
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122.量測微結構不對稱性的方法及裝置、位置量測方法、位置量測裝置、微影裝置及半導體元件製造方法 有权
Simplified title: 量测微结构不对称性的方法及设备、位置量测方法、位置量测设备、微影设备及半导体组件制造方法公开(公告)号:TWI515518B
公开(公告)日:2016-01-01
申请号:TW103110545
申请日:2014-03-20
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor: 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS
CPC classification number: G03F7/70141 , G01B11/14 , G03F9/7046 , G03F9/7076 , G03F9/7088 , G03F9/7092
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公开(公告)号:TWI514091B
公开(公告)日:2015-12-21
申请号:TW102133245
申请日:2013-09-13
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor: 畢瑞恩斯 洛德 安東尼斯 凱薩琳娜 瑪利亞 , BEERENS, RUUD ANTONIUS CATHARINA MARIA , 瑞登 羅布 喬漢 希鐸 , RUTTEN, ROB JOHAN THEODOOR , 威斯特雷肯 禎 史蒂芬 克里斯丁 , WESTERLAKEN, JAN STEVEN CHRISTIAAN , 薩爾 柯恩 賈可布 喬哈奈 馬瑞亞 , ZAAL, KOEN JACOBUS JOHANNES MARIA , 凡 黎紗 李查 亨利克斯 雅卓安尼斯 , VAN LIESHOUT, RICHARD HENRICUS ADRIANUS , 凡 德 派希 英格伯特斯 安東尼斯 法蘭西斯寇斯 , VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70725 , G01D5/34 , G01D5/38 , G03F7/70775 , G03F7/70933
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公开(公告)号:TW201546576A
公开(公告)日:2015-12-16
申请号:TW104110325
申请日:2015-03-30
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V. , ASML控股公司 , ASML HOLDING N. V.
Inventor: 莫依司特 比爾愛曲 , MOEST, BEARRACH , 戴爾瑪斯托 彼德A , DELMASTRO, PETER A. , 昂夫里 喬漢斯 , ONVLEE, JOHANNES , 凡 德 維倫 安卓雅斯 馬汀納斯 , VAN DER WIELEN, ADRIANUS MARTINUS , 華德 克里斯多弗 查爾斯 , WARD, CHRISTOPHER CHARLES
CPC classification number: G03F7/70616 , G01B11/14 , G03F7/70058 , G03F7/70775 , G03F7/70783 , G03F7/70875
Abstract: 本發明提供一種用於判定一圖案化器件之變形及/或該圖案化器件相對之移位位置的系統及方法。該系統包括:一第一感測子系統,其量測該圖案化器件上之複數個參考標記之各別位置;及一第二感測子系統,其量測該圖案化器件之邊緣相對於支撐件之位置。該系統進一步包括一控制器,該控制器用以基於該圖案化器件上之標記之測定各別位置而判定經圖案化部分之一絕對位置及該絕對位置之改變、基於該等測定邊緣位置而判定該經圖案化器件之該邊緣之一相對位置之一改變,及估計在一時間週期期間該圖案化器件相對於該支撐件之一位置之一改變及該圖案化器件之該經圖案化部分之一圖案失真之一改變。
Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种用于判定一图案化器件之变形及/或该图案化器件相对之移位位置的系统及方法。该系统包括:一第一传感子系统,其量测该图案化器件上之复数个参考标记之各别位置;及一第二传感子系统,其量测该图案化器件之边缘相对于支撑件之位置。该系统进一步包括一控制器,该控制器用以基于该图案化器件上之标记之测定各别位置而判定经图案化部分之一绝对位置及该绝对位置之改变、基于该等测定边缘位置而判定该经图案化器件之该边缘之一相对位置之一改变,及估计在一时间周期期间该图案化器件相对于该支撑件之一位置之一改变及该图案化器件之该经图案化部分之一图案失真之一改变。
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公开(公告)号:TWI512406B
公开(公告)日:2015-12-11
申请号:TW100103174
申请日:2011-01-27
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor: 曼徹奇可夫 伯瑞斯 , MENCHTCHIKOV, BORIS , 帕迪 亞歷山卓 , PADIY, ALEXANDER
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70258 , G03F7/70616
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公开(公告)号:TWI510864B
公开(公告)日:2015-12-01
申请号:TW099144076
申请日:2010-12-15
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor: 梅斯特羅姆 威爾柏 杰恩 , MESTROM, WILBERT JAN , 洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 史溫克斯 吉瑞德斯 哈柏特斯 彼佐斯 瑪利亞 , SWINKELS, GERARDUS HUBERTUS PETRUS MARIA , 柏曼 艾瑞克 皮楚斯 , BUURMAN, ERIK PETRUS
IPC: G03F7/20
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127.
公开(公告)号:TW201544790A
公开(公告)日:2015-12-01
申请号:TW104113972
申请日:2015-04-30
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor: 高德福萊德 荷曼 菲力普 , GODFRIED, HERMAN PHILIP
CPC classification number: G01J1/58 , G01J1/4257 , G01J1/429 , G03F7/70558 , G03F7/70616 , G03F7/7085
Abstract: 本發明揭示一種包含一監測設備之微影設備及一種相關聯的監測設備。該監測設備經組態以用於監測一第一波長之第一輻射。該監測設備包含:一第一感測器設備,其包含一鑽石螢光材料,該鑽石螢光材料經組態以吸收該第一輻射且發射表示該第一輻射之第二輻射,該第二輻射具有一第二波長;及一第二感測器設備,其經組態以感測該第二輻射。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种包含一监测设备之微影设备及一种相关联的监测设备。该监测设备经组态以用于监测一第一波长之第一辐射。该监测设备包含:一第一传感器设备,其包含一钻石萤光材料,该钻石萤光材料经组态以吸收该第一辐射且发射表示该第一辐射之第二辐射,该第二辐射具有一第二波长;及一第二传感器设备,其经组态以传感该第二辐射。
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公开(公告)号:TW201543185A
公开(公告)日:2015-11-16
申请号:TW104111148
申请日:2015-04-07
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor: 迪 強夫 羅柏特斯 喬哈奈斯 馬利那斯 , DE JONGH, ROBERTUS JOHANNES MARINUS , 馬克斯 里昂 李奧納多斯 法蘭西斯可斯 , MERKX, LEON LEONARDUS FRANCISCUS , 瑪莉 勞爾 強漢尼司 伊莉莎白 , MERRY, ROEL JOHANNES ELISABETH
CPC classification number: G03F7/70775 , G02B7/1828 , G03F7/70258 , G03F7/70758 , G03F7/70825
Abstract: 一種微影裝置,其包含用以重新導向一輻射光束(例如,一EUV光束)之一反射器。使用一控制器及一定位系統來控制該反射器之位置。該定位系統包含一非補償致動器元件,及用以補償該非補償致動器元件之寄生力之一補償致動器元件。該定位系統及該控制器可提供該反射器之一更準確位置、縮減該反射器之變形且縮減傳輸通過該反射器之力之量值。
Abstract in simplified Chinese: 一种微影设备,其包含用以重新导向一辐射光束(例如,一EUV光束)之一反射器。使用一控制器及一定位系统来控制该反射器之位置。该定位系统包含一非补偿致动器组件,及用以补偿该非补偿致动器组件之寄生力之一补偿致动器组件。该定位系统及该控制器可提供该反射器之一更准确位置、缩减该反射器之变形且缩减传输通过该反射器之力之量值。
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公开(公告)号:TWI507826B
公开(公告)日:2015-11-11
申请号:TW101128660
申请日:2012-08-08
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor: 庫尼 約翰 葛卓迪斯 寇尼里斯 , KUNNEN, JOHAN GERTRUDIS CORNELIS , 豪班 馬提恩 , HOUBEN, MARTIJN , 勞倫 帝寶 賽門 馬修 , LAURENT, THIBAULT SIMON MATHIEU , 凡 艾比林 韓卓克斯 喬漢那斯 馬瑞那斯 , VAN ABEELEN, HENDRIKUS JOHANNES MARINUS , 達森 雅曼德 羅沙 喬瑟夫 , DASSEN, ARMAND ROSA JOZEF , 德可 山多 卡特琳娜 雷納 , DERKS, SANDER CATHARINA REINIER
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/707 , G03F7/70875 , H01L21/68 , H01L21/6875
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公开(公告)号:TW201541197A
公开(公告)日:2015-11-01
申请号:TW104109817
申请日:2015-03-26
Applicant: ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
Inventor: 凡 德 威克 郎諾 , VAN DER WILK, RONALD , 估爾修斯 傑維姆 詹 , GOORHUIS, GER-WIM JAN
CPC classification number: G03F7/70925 , H01L21/67028
Abstract: 一種用於清潔一物件之裝置,該裝置包含:一物件支撐件,其用於支撐該物件;一低壓力腔室,其用於在該物件配置於該物件支撐件上時將該物件之一第一表面曝露至一低壓力;一電極,其經配置成在該物件配置於該物件支撐件上時鄰近於該物件之該第一表面且與該物件之該第一表面分離,該電極與鄰近於該物件之該第一表面的該物件支撐件之一表面進行電連通;及一電力供應器,其經配置以在該電極與該物件之間施加一電壓;藉此在該物件與該電極之間產生一放電。
Abstract in simplified Chinese: 一种用于清洁一对象之设备,该设备包含:一对象支撑件,其用于支撑该对象;一低压力腔室,其用于在该对象配置于该对象支撑件上时将该对象之一第一表面曝露至一低压力;一电极,其经配置成在该对象配置于该对象支撑件上时邻近于该对象之该第一表面且与该对象之该第一表面分离,该电极与邻近于该对象之该第一表面的该对象支撑件之一表面进行电连通;及一电力供应器,其经配置以在该电极与该对象之间施加一电压;借此在该对象与该电极之间产生一放电。
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