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    用於多通道雙程散佈光譜儀的光學構形
    121.
    发明专利
    用於多通道雙程散佈光譜儀的光學構形 审中-公开
    用于多信道双程散布光谱仪的光学构形

    公开(公告)号：TW201638565A

    公开(公告)日：2016-11-01

    申请号：TW105103123

    申请日：2016-02-01

    Applicant: 雷神公司 ,  RAYTHEON COMPANY

    Inventor： 庫克 雷西G ,  COOK, LACY G.

    IPC: G01J3/02 ,  G01J3/12 ,  G01J3/28

    CPC classification number: G01J3/2823 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0286 ,  G01J3/0294 ,  G01J3/18

    Abstract: 一種基於再成像或是中繼全反射光學構形的多通道雙程成像光譜儀，諸如四鏡消像散透鏡(4MA)或五鏡消像散透鏡(5MA)。於一實例中，該一光譜儀包括一狹縫，入射的電磁輻射經由該狹縫進入該光譜儀，一定位在該光譜儀之一與該狹縫共置的影像平面處的成像探測器，以及雙程全反射再成像光學元件，其經組配以接收來自於該狹縫的電磁輻射以及輸出準直的電磁輻射光束，並且進一步經組配以產生定位在該雙程全反射再成像光學元件與該影像平面之間的一再成像光瞳。該光譜儀進一步包括至少一散佈元件，其經組配在光譜上將位於每一通道中該紅外線電磁輻射分散以及係經定向以引導該分散輸出通過該雙程全反射再成像光學元件至該影像平面。

    Abstract in simplified Chinese: 一种基于再成像或是中继全反射光学构形的多信道双程成像光谱仪，诸如四镜消像散透镜(4MA)或五镜消像散透镜(5MA)。于一实例中，该一光谱仪包括一狭缝，入射的电磁辐射经由该狭缝进入该光谱仪，一定位在该光谱仪之一与该狭缝共置的影像平面处的成像探测器，以及双程全反射再成像光学组件，其经组配以接收来自于该狭缝的电磁辐射以及输出准直的电磁辐射光束，并且进一步经组配以产生定位在该双程全反射再成像光学组件与该影像平面之间的一再成像光瞳。该光谱仪进一步包括至少一散布组件，其经组配在光谱上将位于每一信道中该红外线电磁辐射分散以及系经定向以引导该分散输出通过该双程全反射再成像光学组件至该影像平面。

    122.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号：NO911422A

    公开(公告)日：1991-10-14

    申请号：NO911422

    申请日：1991-04-11

    Applicant: HUGHES AIRCRAFT CO

    Inventor： DRUMMOND JAMES E ,  SHIH I-FU

    IPC: G01J3/12 ,  G01J3/02 ,  G01J3/18 ,  G01J3/28

    CPC classification number: G01J3/1838 ,  G01J3/0237 ,  G01J3/0256 ,  G01J3/0259 ,  G01J3/0286 ,  G01J3/0289 ,  G01J3/2803 ,  G01N21/3504 ,  G01N2201/067

    Abstract: This invention relates to a dispersive holographic spectrometer (12) for analyzing radiation from an infrared source (16). The holographic spectrometer (12) comprises a piezoelectric block (40) having a holographic lens (38) on one face, an array of detectors (36) on another face and a pair of vernier electrodes (32, 34) on opposite faces. Radiation from the source (16) incident upon the holographic lens (38) is dispersed into component wavelengths (44, 46) and directed towards the detector array (36). The holographic lens (38) has a holographic interference pattern recorded on it such that radiation of predetermined wavelength components are dispersed sufficiently enough such that radiation of specific wavelengths falls on different detector elements (48) of the detector array (36). By applying a voltage to the electrodes (32, 38), an electric field is created within the piezoelectric block (40) such that it is either compressed or expanded. This change in the piezoelectric block (40) alters the direction of the radiation from the holographic lens (38) to the detector array (36). Therefore, misalignment of the source (16) with the holographic lens (38) can be compensated for such that piezoelectric adjustment of the block (40) will make the radiation of individual wavelengths fall on the desired detector element (48). Further, radiation from different wavelengths can be directed from one detector element to another. The detector array (36) is self-scanning such that an absorption spectrum can be measured and recorded over a range of frequencies.

    물질의 비접촉 감지를 위한 레퍼런스 스위치 아키텍처
    124.
    发明公开
    물질의 비접촉 감지를 위한 레퍼런스 스위치 아키텍처 审中-公开
    用于材料非接触感测的参考开关架构

    公开(公告)号：KR20180036757A

    公开(公告)日：2018-04-09

    申请号：KR20187005985

    申请日：2016-08-29

    IPC: G01N21/27 ,  G01J3/02 ,  G01J3/42 ,  G01N21/35 ,  G01N21/47 ,  G01N21/49

    CPC classification number: G01N21/276 ,  G01J3/0286 ,  G01J3/32 ,  G01J3/36 ,  G01J3/42 ,  G01J3/433 ,  G01J3/447 ,  G01N21/21 ,  G01N21/35 ,  G01N21/474 ,  G01N21/4785 ,  G01N21/49 ,  G01N2021/4709 ,  G01N2021/4778 ,  G01N2201/0221 ,  G01N2201/12707 ,  G01N2201/12723

    Abstract: 본내용은샘플링계면에서샘플(620) 내의물질의농도및 유형을측정하기위한시스템(600) 및방법에관한것이다. 시스템(600)은광원(602), 하나이상의광학체(606, 610, 612), 하나이상의변조기(634, 636), 레퍼런스(608), 검출기(630), 및제어기(640)를포함한다. 개시된시스템및 방법은상이한측정광 경로들사이의하나이상의컴포넌트를공유함으로써광원, 하나이상의광학체, 및검출기로부터비롯된드리프트를해결할수 있다. 추가적으로, 시스템은광원과샘플또는기준재료사이에하나이상의변조기를배치함으로써상이한유형의드리프트를분별하고미광(stray light)으로인한잘못된측정을배제할수 있다. 또한, 시스템은검출기픽셀및 마이크로광학체를샘플내의위치및 깊이로맵핑함으로써샘플내의다양한위치및 깊이를따라물질을검출할수 있다.

    Abstract translation: 本公开涉及用于在采样接口处测量样本（620）中的物质的浓度和类型的系统（600）和方法。 系统600包括光源602，一个或多个光学体606,610,612，一个或多个调制器634,636，参考608，检测器630和控制器640。 所公开的系统和方法可以通过在不同测量光路径之间共享一个或多个组件来解决源自光源，一个或多个光学器件和检测器的漂移。 此外，系统可以区分不同类型的漂移，并通过在光源和样品或参比材料之间放置一个或多个调制器来消除杂散光导致的错误测量。 此外，系统可以通过将探测器像素和微光学器件映射到样品内的位置和深度来沿着样品中的各个位置和深度检测材料。

    분광기
    125.
    发明公开
    분광기 审中-实审
    分光镜

    公开(公告)号：KR1020160117417A

    公开(公告)日：2016-10-10

    申请号：KR1020167017143

    申请日：2015-02-03

    Applicant: 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤

    Inventor： 요키노다카후미 ,  시바야마가츠미 ,  가토가츠히코

    IPC: G01J3/28 ,  G01J3/02 ,  G01J3/18

    CPC classification number: G01J3/2803 ,  G01J3/0202 ,  G01J3/0256 ,  G01J3/0286 ,  G01J3/0291 ,  G01J3/18 ,  G01J2003/1852

    Abstract: 분광기(1A)는, 스템(4) 및캡(5)을가지는패키지(2)와, 스템(4) 상에배치된광학유닛(10A)과, 스템(4)에광학유닛(10A)을고정하는리드핀(3)을구비한다. 광학유닛(10A)은, 캡(5)의광 입사부(6)로부터입사한광을분광함과아울러반사하는분광부(21)와, 분광부(21)에의해서분광됨과아울러반사된광을검출하는광 검출부(31)를가지는광 검출소자(30)와, 분광부(21)와광 검출소자(30)와의사이에공간이형성되도록광 검출소자(30)를지지하는지지체(40)와, 지지체(40)로부터돌출되며, 리드핀(3)이고정된돌출부(11)를가진다. 광학유닛(10A)은, 광학유닛(10A)과스템(4)과의접촉부에서, 스템(4)에대해서이동가능한상태로되어있다.

    Abstract translation: 光谱仪1A包括具有杆4和盖5的封装2，设置在杆4上的光学单元10A和用于将光学单元10A固定到杆4的引导销3。光学单元10A包括分散部分 21，用于分散和反射从灯头5的光入射部分6进入的光;光检测元件30，具有用于检测由色散部分21分散和反射的光的光检测部分31;用于支撑光检测的支撑件40 元件30，使得在分散部分21和光检测元件30之间形成空间，以及从支撑件40突出的突起11，引脚3固定到突起11上。光学单元10A可相对于 在光学单元10A和杆4的接触部分中的杆4。

    광검출 장치
    126.
    发明公开
    광검출 장치 审中-实审
    光学检测装置

    公开(公告)号：KR1020160082964A

    公开(公告)日：2016-07-11

    申请号：KR1020167005468

    申请日：2014-10-31

    Applicant: 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤

    Inventor： 시바야마가츠미 ,  가사하라다카시 ,  히로세마사키 ,  가와이도시미츠

    IPC: G01J3/26 ,  G01J3/02

    CPC classification number: G01J3/26 ,  G01J3/0286 ,  G01J3/45 ,  G01J5/04 ,  G01J5/20 ,  G02B26/001

    Abstract: 분광센서(1A)는, 제1 미러(31)와제2 미러(41) 사이의거리에따라서투과된광을대향방향 D를따라서통과시키는개구(50a)가마련된페브리페로간섭필터(10)와, 개구(50a)를통과한광을수광하는수광부(3a)를가지는광검출기(3)와, 광검출기(3)가실장된배선기판(2)과, 필터(10)와배선기판(2)의사이에, 개구(50a) 내의제1 공간(S1)과연속하면서또한대향방향 D에서보았을경우에제1 공간(S1)을포함하는제2 공간(S2)이형성되도록, 배선기판(2)상에있어서필터(10)를지지하는복수의스페이서(4)를구비한다. 광검출기(3)는, 제2 공간(S2) 내에배치되어있다. 수광부(3a)는, 대향방향 D에서보았을경우에제2 공간(S2)에있어서제1 공간(S1)에대응하는영역내에배치되어있다.

    Abstract translation: 分光传感器1A具有法布里珀罗干涉滤光片10，该法布里珀罗干涉滤光片10具有用于根据第一反射镜31和第二反射镜41之间的距离沿着方向D使透射光通过的开口50a 光检测器3具​​有用于接收穿过开口50a的光的光接收部分3a，其上安装有光检测器3的布线板2，滤波器10和布线板2， 包括第一空间S1的第二空间S2形成在布线板2上，以便在开口50a中形成第一空间S1，并且形成从相反方向D观看时包括第一空间S1的第二空间S2。 以及用于支撑衬底（10）的多个间隔物（4）。 光检测器3设置在第二空间S2中。 当在相反方向D上观看时，光接收部分3a设置在第二空间S2中与第一空间S1对应的区域中。

    높은 반복율의 가스 방전 레이저를 위한 개선된 스펙트럼 측정법
    128.
    发明公开
    높은 반복율의 가스 방전 레이저를 위한 개선된 스펙트럼 측정법 有权
    用于高重复率气体放电激光的改进的光谱学方法

    公开(公告)号：KR1020120089350A

    公开(公告)日：2012-08-09

    申请号：KR1020127016577

    申请日：2006-06-23

    Applicant: 사이머 엘엘씨

    Inventor： 라팍로버트제이.

    IPC: G01J3/28 ,  G01J3/51

    CPC classification number: G01J3/26 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0202 ,  G01J3/0237 ,  G01J3/027 ,  G01J3/0286 ,  G01J3/0291 ,  G01J3/28

    Abstract: 레이저 입력으로부터 방출된 광의 스펙트럼의 대역폭을 측정하기 위한 대역폭 측정기 장치 및 방법으로서, 레이저로부터 방출된 광의 대역폭을 나타내는 제1파라미터를 나타내는 제1출력 및 레이저로부터 방출된 광의 대역폭을 나타내는 제2파라미터를 나타내는 제2출력을 제공하는 광 대역폭 모니터; 및 실제 대역폭 파라미터를 계산하기 위해, 광 대역폭 모니터에 특정의 미리계산된 교정 변수를 사용하는 다변수 방정식의 일부로서 제1출력 및 제2출력을 사용하는 대역폭 계산 장치를 포함하고, 다변수 방정식은 대칭 민감 항을 포함하는 레이저 입력으로부터 방출된 광의 스펙트럼의 대역폭을 측정하기 위한 대역폭 측정기 장치 및 방법이 개시된다.

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