Abstract:
A microfabrication apparatus for fabricating a microstructure on a substrate is disclosed and comprises a partitioning system arranged to provide an aperture, a particle source that can generate a beam of particles for patterning the substrate and a substrate holder which supports the substrate. Relative motion is effected between the aperture and the substrate over a portion of the substrate's surface so that different points on the surface portion are exposed at different times. Whilst that motion is ongoing, one or more exposure conditions are varied so that the different points are subject to different exposure conditions. Corresponding microfabrication processes and products obtained thereby are also disclosed.
Abstract:
A nanostructured arrangement includes a substrate having a surface and comprising a metal and a nanostructured layer formed on the substrate surface by an ion beam. The nanostructured layer includes a plurality of hollow metal nanospheres. Each of the plurality of nanospheres includes a chemical compound formed from the metal of the substrate by the ion beam. An example of a nanostructured arrangement is a surface enhanced Raman scattering (SERS) sensor.
Abstract:
A laser absorption layer (91) is first selectively formed in a seal pattern region surrounding an array of electromechanical systems elements (90), followed by depositing an antistiction layer (93) as a blanket layer over the substrate and the laser absorption layer. The antistiction layer is then selectively removed from the seal pattern using a laser. An epoxy sealing material (100) is provided in the seal pattern where the antistiction layer was removed and a backplate (101) is sealed to the substrate using epoxy.
Abstract:
In a method for imaging a solid state substrate, a vapor is condensed to an amorphous solid water condensate layer on a surface of a solid state substrate. Then an image of at least a portion of the substrate surface is produced by scanning an electron beam along the substrate surface through the water condensate layer. The water condensate layer integrity is maintained during electron beam scanning to prevent electron-beam contamination from reaching the substrate during electron beam scanning. Then one or more regions of the layer can be locally removed by directing an electron beam at the regions. A material layer can be deposited on top of the water condensate layer and any substrate surface exposed at the one or more regions, and the water condensate layer and regions of the material layer on top of the layer can be removed, leaving a patterned material layer on the substrate.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Bauteil (4) eines Biosensors, mit wenigstens einer ersten Einrichtung (6) zur Aufnahme einer Probenflüssigkeit, wobei die Einrichtung (6) über einen Verteilerkanal (7) mit weiteren Aufnahmeeinrichtungen (8 bis 11) verbunden ist, in die jeweils ein vom Verteilerkanal (7) abzweigender Zulaufkanal (71, 72, 73, 74) mündet und die Zulaufkanäle (71, 72, 73, 74) in Strömungsrichtung (S) der durch den Verteilerkanal (7) weitergeleiteten Probenflüssigkeit aufeinander folgend angeordnet sind. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass im Verteilerkanal (7) jeweils zwischen zwei in Strömungsrichtung (S) unmittelbar aufeinander folgenden Zulaufkanälen (71, 72; 72, 73; 73, 74) wenigstens ein Bereich (K) zum zumindest zeitweisen Verlangsamen oder Stoppen des kapillaren Flusses der Probenflüssigkeit eingebracht ist. Hierdurch ist es möglich, den kapillaren Fluss der Probenflüssigkeit so zu steuern, dass mit dem zur Verfügung stehenden Volumenstrom an Probenflüssigkeit immer nur jeweils eine Aufnahmeeinrichtung (8, 9, 10, 11) befüllt wird, bevor die nächste befüllt wird und eine quasi gleichzeitige Befüllung der Aufnahmeeinrichtungen (8, 9, 10, 11) verhindert wird. Dies führt zu einer schnellen und vollständigen Befüllung der jeweiligen Aufnahmeeinrichtung (8, 9, 10, 11). Des Weiteren wird ein Verfahren vorgestellt, mit dem auf einfache Weise die Bereiche (K) in den Verteilerkanal (7) eingebracht werden können.