分光镜
    131.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100425958C

    公开(公告)日:2008-10-15

    申请号:CN02827052.5

    申请日:2002-12-25

    Inventor: 胜沼淳

    Abstract: 一种分光镜装备有一种温度补偿机构,其能可靠地减少由环境温度变化引起的光谱图象在波长色散方向上的偏移,而与分光镜的形式无关。分光镜装备有整体式支承入射件(11)、集光光学系统(13)和检测元件(15)的第一支承件(17),用与第一支承件不同的材料制成的支承波长色散元件(14)的第二支承件(21),和当环境温度变化时将第一支承件的收缩/膨胀量传送到第二支承件的传送件(24、25)。第二支承件包括一个当环境温度变化时、按照第二支承件自己的收缩/膨胀量与第一支承件的收缩/膨胀量之间的差别弹性变形的变形件(28)和按照变形件的弹性变形精细地旋转的旋转件(26)。上述波长色散元件这样安装在旋转件上,以使它的波长色散方向被定向为垂直于旋转件的轴线方向。

    光学输入方法、设备及该设备的分光式镜头模组

    公开(公告)号:CN101021620A

    公开(公告)日:2007-08-22

    申请号:CN200610067153.3

    申请日:2006-04-05

    Applicant: 郎欢标

    Inventor: 郎欢标

    CPC classification number: G06F3/0317 G01J3/0208 G01J3/14

    Abstract: 本发明光学输入设备包括壳体、光学传感器组件、发光源及分光式镜头模组,该光学传感器组件、光源及分光式镜头模组置于该壳体中,该分光式镜头模组包括棱镜、分光镜及透镜,该棱镜位于发光源出射光的一侧,该分光镜位于该棱镜出射光的一侧,该透镜位于该分光镜出射光的一侧。通过设置该具有棱镜、透镜及分光镜的透镜模组,可以摄取更多的介质表面的影像,从而能使光学输入设备在高亮度表面(玻璃面/大理石面/金属表面/透明塑胶表面/相片纸表面)和杂色表面正常使用。

    分光光度计
    134.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1771429A

    公开(公告)日:2006-05-10

    申请号:CN200480009454.X

    申请日:2004-02-27

    Abstract: 一种具有一光学系统的分光光度计,该光学系统用于把大体上为单色的激发光束对准在容器盘的一个容器(3)中所装的液态样品,使得该光束与该样品相互作用并测量吸收或发射,从而分析该样品。该光学系统包括用于在容器外建立Kohler照明区域的两个孔径(46,28),该区域是在两个孔径的共轭图像(18,21)之间的激发光束区域。然后,这个激发光束区域被缩小并成像(10,9)到容器(3)中。本发明规定Kohler照明区域的形状要与容器空间的形状相对应,使得所有的液态样品都被均匀照明而容器并没有遮挡照明激发光束的任何部分。本发明的优点在于激发光束的Kohler照明区域便于将滤光片(20)、光圈以及起偏器(19)插入激发光学系统中并允许使用较小的从而更便宜的滤光片和起偏器。同样本发明提供来自容器中液态样品的精确的吸收和发射测量,尽管样品可能仅部分地注满该容器。

    红外宽波段高光谱计算成像装置及其方法

    公开(公告)号:CN108663118A

    公开(公告)日:2018-10-16

    申请号:CN201810050205.9

    申请日:2018-01-18

    CPC classification number: G01J3/2823 G01J3/0208 G01J3/021 G01J2003/283

    Abstract: 本发明公开了一种红外宽波段高光谱计算成像装置,其包括前置红外镜头、编码模板生成加载、反射式空间光调制器、红外中继透镜组、单元型光谱辐射计、红外光谱计算成像模块、硬件同步控制器;还公开了红外宽波段高光谱计算成像方法。本发明利用单元型光谱辐射计具有较宽的光谱响应范围和较低的系统噪声的优势,不仅避免机械扫描弊端、减小数据采集量、缩短成像所需要的时间,而且提高光谱分辨率和空间分辨率;本发明不仅具备傅里叶光谱辐射计的实时、快速、准确、灵敏度高等特点,还有效地克服了传统单元非成像型红外成像光谱计存在的机械扫描速度慢,数据冗余量大等不足。

    分光测量装置
    140.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104833634B

    公开(公告)日:2018-06-15

    申请号:CN201510303622.6

    申请日:2013-10-02

    Inventor: 石丸伊知郎

    Abstract: 本发明的分光测量装置具备:分割光学系统,其将从位于被测量物的测量区域内的多个测量点分别发出的测量光束分割为第一测量光束和第二测量光束;成像光学系统,其使第一测量光束与第二测量光束发生干涉;光程差赋予单元,其对第一测量光束和第二测量光束之间赋予连续的光程差分布;检测部,其包括用于检测与上述连续的光程差分布对应的干涉光的强度分布的多个像素;处理部,其基于由检测部检测出的干涉光的光强度分布来求出被测量物的测量点的干涉图,通过对该干涉图进行傅立叶变换来获取光谱;共轭面成像光学系统,其配置在被测量物与分割光学系统之间,具有与该分割光学系统共用的共轭面;以及周期性赋予单元,其配置于共轭面,对从多个测量点发出的测量光束进行空间上的周期调制。

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