公开(公告)号：CN102218387A

公开(公告)日：2011-10-19

申请号：CN201010150151.7

申请日：2010-04-19

Applicant: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 ,  鸿海精密工业股份有限公司

Inventor： 裴绍凯

IPC: B05C9/14

CPC classification number: B05C11/08 ,  G03F7/162

Abstract: 本发明提供一种镀膜机，其用于将待镀液体涂布到基板上，所述镀膜机包括容器和转子，所述容器用于容纳待镀液体，所述容器包括侧壁，所述基板固定于所述侧壁上，所述转子包括相互连通的入液口和出液口，参杂液体自所述入液口流入所述转子中，并在离心力的作用下由所述出液口排出而与所述待镀液体混合，所述转子的转动带动所述待镀液体和参杂液体旋转以将待镀液体和参杂液体附着于所述基板上。本发明的镀膜机的转子设置有相互连通的入液口和出液口，待添加的其他需要的液态物质可自入液口注入转子中，并且在转子转动产生的离心力作用下自出液口喷射出而与待镀液体混合。

公开(公告)号：CN101499412A

公开(公告)日：2009-08-05

申请号：CN200910009603.7

申请日：2009-01-23

Applicant: 大日本网屏制造株式会社

Inventor： 滩和成 ,  新居健一郎

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/306

CPC classification number: H01L21/6708 ,  B05C5/0254 ,  B05C11/04 ,  B05C11/08 ,  G03F1/80

Abstract: 本发明提供能够对基板的整个主面实施高速率且均匀的蚀刻处理的基板处理装置及基板处理方法。本发明的基板处理装置包括：基板保持机构，用于保持基板；喷嘴体，具有用于向所述基板保持机构所保持的基板的主面喷出蚀刻液的喷出口；喷嘴体移动机构，使所述喷嘴体向规定的前进方向移动，使得蚀刻液在所述主面上的着落位置移动；第一片材，是安装在所述喷嘴体上的挠性片材，与比蚀刻液在所述主面上的着落位置更靠近所述前进方向一侧的区域接触；第二片材，是安装在所述喷嘴体上的挠性片材，与前进方向另一侧的区域接触，其中，所述前进方向另一侧是指，当从蚀刻液在所述主面上的着落位置观察时，与所述前进方向一侧相反的所述前进方向的另一侧。

公开(公告)号：CN100515583C

公开(公告)日：2009-07-22

申请号：CN200580039811.1

申请日：2005-12-06

Applicant: LG化学株式会社

Inventor： 姜太植 ,  李成根 ,  洪瑛晙

IPC: B05C11/08

CPC classification number: B05C11/08 ,  H01L21/6715 ,  Y10T428/12528 ,  Y10T428/21

Abstract: 本发明提供了一种用于通过旋涂制造涂布基板的具有环形或多边形辅助构件的旋涂装置，其中，安装基板时，辅助构件在0.03～0.8mm的间隔距离范围和小于0.1mm的高度偏差范围内，与用于涂布的基板的侧面相邻设置。当使用本发明的装置将涂布剂旋涂至用于涂布的基板表面上时，可以消除或有效地减少旋涂完成时在涂布基板末端部分发生的滑跃现象，从而实现涂布溶液在基板上的均匀涂布，并且也可以有效地减少由于残留涂布剂的流入或停留引起的用于涂布的基板的污染。

公开(公告)号：CN101394938A

公开(公告)日：2009-03-25

申请号：CN200780007251.0

申请日：2007-02-27

Applicant: 德山株式会社

Inventor： 森力宏 ,  深田典行 ,  高桥直人

IPC: B05D1/40 ,  B05D7/24 ,  G02C7/10 ,  G02C13/00 ,  G02B5/23

CPC classification number: B29D11/0073 ,  B05C11/08 ,  B05D1/005 ,  B29C41/045 ,  B29D11/00884 ,  G02B1/10 ,  G02B5/23

Abstract: 本发明的目的在于提供在眼镜透镜等基材上用含有湿固型聚氨酯树脂的涂布组合物形成聚氨酯底涂层时防止因底涂液飞散及其再附着而引起的底涂层品质下降的方法。本发明涉及的层压体制造方法的特征在于，将含有湿固型聚氨酯树脂的涂布组合物在基材表面旋转涂布而制造具有聚氨酯层的层压体时，从旋转涂布装置的侧壁和/或底部强制排气的同时进行旋转涂布，进而优选旋转涂布装置具有上罩、下部容器以及安装于下部容器的可旋转的基材支撑装置，在上罩和下部容器底部具有排气口，该基材支撑装置内置于下端开口径大于上端开口径的圆筒部件中。

公开(公告)号：CN101331588A

公开(公告)日：2008-12-24

申请号：CN200680046966.2

申请日：2006-12-15

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 泽田郁夫 ,  松崎和爱 ,  田中崇 ,  岩下光秋 ,  宗像瑞惠

IPC: H01L21/027 ,  B05C11/08 ,  B05C15/00

CPC classification number: B05D1/005 ,  B05C11/06 ,  B05C11/08 ,  B05D3/0406 ,  B05D3/0486 ,  B05D2203/30 ,  B05D2203/35 ,  G03F7/162 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明是一种涂覆设备，其包括：水平地固定衬底的衬底固定部件；将化学物质供应至被衬底固定部件水平固定的衬底的中心部分的化学物质喷嘴；使衬底固定部件旋转以便通过离心力使化学物质在衬底表面散开从而使化学物质涂敷在整个表面上的旋转机构；在被衬底固定部件水平固定的衬底表面上形成常压气体(atmospheric gas)的下降气流的气流形成单元；绕衬底排放大气的气体排放单元；以及将层流形成气体供应至衬底表面的气体喷嘴，该层流形成气体的运动粘度系数大于该常压气体；其中该常压气体或层流形成气体被供应至衬底的中心部分。

公开(公告)号：CN100437789C

公开(公告)日：2008-11-26

申请号：CN01108980.6

申请日：2001-02-28

Applicant: 欧利生电气株式会社

Inventor： 篠原信一 ,  小林秀雄 ,  中村昌宽 ,  加治宽也

IPC: G11B7/26

CPC classification number: B29C65/04 ,  B05C5/02 ,  B05C5/0212 ,  B05C9/12 ,  B05C11/08 ,  B29C65/483 ,  B29C65/521 ,  B29C65/7847 ,  B29C66/1122 ,  B29C66/21 ,  B29C66/452 ,  B29C66/723 ,  B29C66/8242 ,  B29C66/8322 ,  B29L2017/005 ,  G11B7/26

Abstract: 一种光盘基板的粘合方法，在向光盘基板供给液状粘接剂时，或将它们粘合时，可大幅度抑制粘合的光盘基板间形成中空的情况。经由粘接剂使两张光盘基板重叠并使该粘接剂硬化，在向所述光盘基板的至少一张供给粘接剂的粘接剂供给喷嘴和所述光盘基板之间形成电场，在该状态下，向所述光盘基板供给所述粘接剂，然后，将所述两张光盘基板重叠，使其旋转，进行旋压处理。

公开(公告)号：CN101251719A

公开(公告)日：2008-08-27

申请号：CN200710162430.3

申请日：2002-10-03

Applicant: ASML美国公司

Inventor： A·源

IPC: G03F7/30 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6708 ,  B05B12/1472 ,  B05C5/027 ,  B05C11/08 ,  H01L21/67051

Abstract: 本发明涉及一种通过减少pH值突变而使显影反应物的沉淀最小化的方法。所述方法包括以下步骤：在基板位于其内的显影剂流体模块内设置层流气流场；在聚合物层的表面上的多个位置处将一定量的显影剂流体施加到基板上的聚合物层上；使至少一部分聚合物层显影；然后允许至少一部分所述一定量的显影剂流体停留在所述聚合物上，从而可控制地使pH值的随后突变最小化；以及然后利用一定量的另一流体冲洗所述聚合物。

公开(公告)号：CN100349254C

公开(公告)日：2007-11-14

申请号：CN02823989.X

申请日：2002-10-03

Applicant: 硅谷集团公司

Inventor： A·源

IPC: H01L21/00 ,  B05C11/02 ,  G03F7/00 ,  B05C5/02 ,  B05C11/08 ,  G03F7/30

CPC classification number: H01L21/6708 ,  B05B12/1472 ,  B05C5/027 ,  B05C11/08 ,  H01L21/67051

Abstract: 通过多口喷嘴将不同的处理流体输送到半导体晶片基板上的方法和装置。所述喷嘴具有多个纵向液体歧管和气体歧管。每个歧管定位在喷嘴主体内，从而它们与喷嘴主体中相应的一个单独的入口流体相通。流体入口可以连接到外源，用于接收被散布的处理流体。另外，喷嘴包括多个喷嘴末端，用于将分散液体引导到晶片基板上。每个末端的至少一部分伸出喷嘴的底面，并且同时，末端的至少一部分伸入喷嘴主体内的液体歧管中，形成内部蓄液池。并且，喷嘴底面包括以栅格状图案形成在喷嘴末端之间的沟槽网络，并可以进一步包括多个气孔。所述气孔连接到气体歧管，用以接收增压的气体，从而形成气帘，有助于控制和引导多种处理流体到达晶片基板，减小交叉污染以及从晶片基板上的飞溅。

公开(公告)号：CN1570766A

公开(公告)日：2005-01-26

申请号：CN03147269.9

申请日：2003-07-11

Applicant: 友达光电股份有限公司

Inventor： 陈望生 ,  曾增魁

IPC: G03F7/16 ,  H01L21/027

CPC classification number: B05C11/1042 ,  B05C11/08 ,  G03F7/16 ,  G03F7/162

Abstract: 本发明是提供一种光刻胶涂敷装置，该光刻胶涂敷装置主要包括：一用来放置至少一光刻胶瓶的储存槽，该光刻胶瓶是用来存放该光刻胶涂敷装置运作所需的光刻胶溶剂；一冷却系统，该冷却系统用来冷却该光刻胶瓶内的光刻胶溶剂，使该光刻胶瓶内的光刻胶溶剂保持低温；一升温系统，该升温系统用来加热由该光刻胶瓶输出的光刻胶溶剂至适当温度，以及一自动供墨系统，该自动供墨系统用来吸取与输送该光刻胶溶剂。

公开(公告)号：CN1151529C

公开(公告)日：2004-05-26

申请号：CN01121720.0

申请日：1997-02-20

Applicant: 松下电器产业株式会社

Inventor： 三谷真人 ,  中岛和人 ,  小谷博之 ,  外园信贵 ,  中裕之 ,  山口明 ,  池田顺治 ,  青木延之

IPC: H01J9/22 ,  B05D5/06 ,  B05C5/00

CPC classification number: B05B7/0884 ,  B05B7/02 ,  B05B7/025 ,  B05C5/02 ,  B05C5/0208 ,  B05C5/0254 ,  B05C5/027 ,  B05C11/08 ,  H01J9/227

Abstract: 液体喷涂喷嘴(4，4a，124)带有第一模块(41)，其具有沿其纵向延伸的内部液体存储单元(43)和在液体存储单元(43)底部沿纵向形成的包含许多小孔44的内部喷射单元，并带有第二模块(42)，其具有规定在第一模块外部沿纵向延伸的气体存储单元(46)的内部空间和在内部空间底部沿纵向形成的外部喷射单元，该外部喷射单元包括许多小孔(48)并形成从外部环绕从小孔(44)向下喷出的直线状或幕状液流的气流，在压缩液体的消耗量和喷涂不均匀性的产生的同时，在短时间内制成薄的涂膜。